NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù),，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級(jí)精確對準(zhǔn)。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度,，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域,。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個(gè)打印過程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下,，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印設(shè)備的信息,，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司,。徐匯區(qū)雙光子聚合微納3D打印供應(yīng)商

雙光子聚合（2PP）是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,，適用于納米和微米級(jí)打印,；其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu),，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。QuantumXshape帶有獨(dú)特的自動(dòng)界面查找功能,，可以以低至30納米的精度檢測基板表面,。這種在比較高掃描速度下的納米級(jí)精度體現(xiàn)，再加上自校準(zhǔn)程序,，可在特別短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的打印,，為3D微納加工樹立了新榜樣。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學(xué)、微流體,、材料表面工程,、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級(jí)規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。徐匯區(qū)生物微納3D打印基于微納尺度的3D打印技術(shù),，可定制設(shè)計(jì)光學(xué)性能優(yōu)異,、超高精度、超薄尺度的透鏡,。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。

多年來,，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,，并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目，包括等離子體技術(shù),、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目,。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器,。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年,，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助,。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中,。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,，還需要開發(fā)可靠的組件,，以及組裝和制造的新方法。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討微納3D打印未來的發(fā)展趨勢,。

Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求,。Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。長遠(yuǎn)來看,，微納3D打印會(huì)顛覆傳統(tǒng)制造，實(shí)現(xiàn)服務(wù)的規(guī)?；?，屬于產(chǎn)業(yè)顛覆。徐匯區(qū)生物微納3D打印

在科研領(lǐng)域,Nanoscribe 的系列3D打印設(shè)備幫助推動(dòng)著微納光學(xué),，微機(jī)電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展,。徐匯區(qū)雙光子聚合微納3D打印供應(yīng)商

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)，發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝,。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15μm直徑）,。相似于人類眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,，使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。徐匯區(qū)雙光子聚合微納3D打印供應(yīng)商