作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者,，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體,。“我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪,，憑借我們的技術支持,，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司,，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?；?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,，Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,，并推動生物打印、微流體,、微納光學,、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展,?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道,。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),。湖南Nanoscribe無掩膜光刻技術3D打印

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子，機械,，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說,，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。海南工業(yè)級無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)在LASER World of Photonics展會上榮獲創(chuàng)新獎,。

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構,，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作,。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及比較廣的材料-基板選擇,。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明,。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像,。例如，可接受高達32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件,，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀,，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。想要了解雙光子無掩模光刻技術在微納醫(yī)學中的應用,，請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。湖南Nanoscribe無掩膜光刻技術3D打印

Nanoscribe的3D無掩模光刻機已經(jīng)運用在30多個國家的前沿研究中,。湖南Nanoscribe無掩膜光刻技術3D打印

為了探索待測物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術,，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構,。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。湖南Nanoscribe無掩膜光刻技術3D打印

納糯三維科技（上海）有限公司是一家生產(chǎn)型類企業(yè)，積極探索行業(yè)發(fā)展,，努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新,。公司致力于為客戶提供安全、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務,，是一家外商獨資企業(yè)企業(yè),。公司業(yè)務涵蓋PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)，價格合理,，品質(zhì)有保證,，深受廣大客戶的歡迎。納糯三維將以真誠的服務,、創(chuàng)新的理念,、***的產(chǎn)品，為彼此贏得全新的未來,！