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湖北亞微米雙光子聚合3D光刻

來源: 發(fā)布時間:2021-12-05

Nanoscribe作為一家納米,,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,,以滿足不用客戶群的需求。雙光子聚合與傳統(tǒng)的單光子聚合技術(shù)有什么區(qū)別,?湖北亞微米雙光子聚合3D光刻

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作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,,例如注塑,,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,,同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹?nèi)蒙古新型雙光子聚合激光直寫Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您一起揭秘雙光子聚合的加工原理,。

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Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件(如微透鏡,、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率,,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要,,尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,,同時也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計,,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的高度。由于其光學(xué)特性,,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,,例如光電應(yīng)用中,,他們可以增加顯示設(shè)備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性,。此外,,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),,內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。Photonic Professional GT2設(shè)備是將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,。

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為了進一步提升技術(shù)先進性,科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面,,利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面,,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,,成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān),同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化,。如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花,,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。湖北亞微米雙光子聚合3D光刻

雙光子聚合三維微制造系統(tǒng)是一種用于化學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,。湖北亞微米雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,,同時保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué),、微光學(xué),、MEMS、微流道,、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,,同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,,實現(xiàn)推動工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。湖北亞微米雙光子聚合3D光刻

納糯三維科技(上海)有限公司致力于儀器儀表,,以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求,。納糯三維深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)?,為客戶提?**的PPGT2,,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),,雙光子微納光刻系統(tǒng),。納糯三維繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,,又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,,實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。納糯三維始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時代,,對自身的建設(shè)毫不懈怠,,高度的專注與執(zhí)著使納糯三維在行業(yè)的從容而自信。