如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí)，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。了解更多關(guān)于灰度光刻技術(shù)各種應(yīng)用,，歡迎咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。湖北灰度光刻3D光刻

微透鏡陣列對(duì)表面質(zhì)量和形貌要求比較高，因此對(duì)制備工藝提出了很?chē)?yán)格的要求?？蒲腥藛T提出了許多方法來(lái)實(shí)現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備,，比如針對(duì)柔性材料的熱壓印成型方法實(shí)現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實(shí)現(xiàn)了微透鏡陣列,；利用光刻和熱回流方式實(shí)現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等,。上述方法可以實(shí)現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列，但通常需要使用復(fù)雜的工藝和步驟,。此外,，這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料，材料本身的機(jī)械抗性和耐酸堿的能力比較差,。相對(duì)而言,，透明硬脆材料例如石英、藍(lán)寶石等由于其極高的硬度和極強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性,，在光學(xué)窗口、光學(xué)元件等方面的應(yīng)用更加廣,。因此,，如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學(xué)元件成為研究人員研究的焦點(diǎn)。德國(guó)高精度灰度光刻無(wú)掩光刻N(yùn)anoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀,。

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL ®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性,。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,，超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。

現(xiàn)代光電設(shè)備在系統(tǒng)的復(fù)雜化與小型化得到了巨大改進(jìn),。一種應(yīng)用需求為使用定制的透鏡陣列來(lái)準(zhǔn)直和投射來(lái)自線(xiàn)性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復(fù)合激光線(xiàn),。消費(fèi)類(lèi)相機(jī)和投影模塊中的微型光學(xué)元件通常需要多個(gè)元件才能滿(mǎn)足性能規(guī)格。復(fù)雜的組裝對(duì)于需要組合成具有微米間距的線(xiàn)性陣列提出了額外的挑戰(zhàn)。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求,，盡管可用的折射率會(huì)導(dǎo)致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差,，從而抑制準(zhǔn)直性能。硅灰度光刻技術(shù)可以在單個(gè)高折射率表面上實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的透鏡形狀,，同時(shí)還可以在多個(gè)孔之間提供精確的對(duì)準(zhǔn)和間距,。多孔徑透鏡陣列設(shè)計(jì)用于沿快軸準(zhǔn)直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角,。陣列中的每個(gè)元素還包含偏心和衍射項(xiàng),，以偏置主光線(xiàn)角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線(xiàn)。想要了解更多雙光子灰度光刻技術(shù),，請(qǐng)致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。雙光子灰度光刻（2GL ?）系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻3D光刻

如需詳細(xì)了解雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的內(nèi)容請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。湖北灰度光刻3D光刻

納米紋理在納米技術(shù)中起著越來(lái)越重要的作用,。近期的研究表明,，可以通過(guò)空間調(diào)節(jié)其納米級(jí)像素的高度來(lái)進(jìn)一步增強(qiáng)其功能。但是,，實(shí)現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,，因?yàn)樗枰獙?duì)納米像素進(jìn)行“灰度”打印，其中,，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi),。只有少數(shù)幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿(mǎn)足這種嚴(yán)格的要求,，但通常其成本較高,，并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開(kāi)發(fā)過(guò)程,。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧,。湖北灰度光刻3D光刻

納糯三維科技（上海）有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),，技術(shù)力量雄厚。公司致力于為客戶(hù)提供安全,、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù),，是一家外商獨(dú)資企業(yè)企業(yè)。以滿(mǎn)足顧客要求為己任,；以顧客永遠(yuǎn)滿(mǎn)意為標(biāo)準(zhǔn),；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo)，提供***的PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng),。納糯三維以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,，打造高指標(biāo)的服務(wù)，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展,。