現(xiàn)代光電設(shè)備在系統(tǒng)的復(fù)雜化與小型化得到了巨大改進(jìn)。一種應(yīng)用需求為使用定制的透鏡陣列來準(zhǔn)直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復(fù)合激光線,。消費類相機(jī)和投影模塊中的微型光學(xué)元件通常需要多個元件才能滿足性能規(guī)格,。復(fù)雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn)。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求,，盡管可用的折射率會導(dǎo)致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差,，從而抑制準(zhǔn)直性能。硅灰度光刻技術(shù)可以在單個高折射率表面上實現(xiàn)復(fù)雜的透鏡形狀,，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準(zhǔn)和間距,。多孔徑透鏡陣列設(shè)計用于沿快軸準(zhǔn)直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角,。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項,，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應(yīng)用,。山東Nanoscribe灰度光刻3D打印

    基于雙光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何,，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),?！薄?山東2GL灰度光刻3D光刻雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備應(yīng)用的領(lǐng)域。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。山東2GL灰度光刻3D光刻

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雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。山東Nanoscribe灰度光刻3D打印

納糯三維科技（上海）有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊不斷壯大。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,，以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點競爭力,，加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新，實現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營,。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng),。公司憑著雄厚的技術(shù)力量、飽滿的工作態(tài)度,、扎實的工作作風(fēng),、良好的職業(yè)道德，樹立了良好的PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)形象，贏得了社會各界的信任和認(rèn)可,。