現代光電設備在系統(tǒng)的復雜化與小型化得到了巨大改進,。一種應用需求為使用定制的透鏡陣列來準直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復合激光線。消費類相機和投影模塊中的微型光學元件通常需要多個元件才能滿足性能規(guī)格,。復雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn),。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求,，盡管可用的折射率會導致高度彎曲的表面產生球面像差，從而抑制準直性能,。硅灰度光刻技術可以在單個高折射率表面上實現復雜的透鏡形狀,，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準和間距。多孔徑透鏡陣列設計用于沿快軸準直激光,，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角,。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線,。更多灰度光刻技術詳情,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。上海超高速灰度光刻微納光刻

Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。浙江2GL灰度光刻微納光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術,。

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造,。該技術結合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明,。

全新的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)能夠數字化制造高精度2維和2.5維光學元件,。 作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設計自由的同時,，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,，達到所見即所得。全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產中所需手板和模具的定制化精細加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡,、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。而且Quantum X提供了完全的設計自由度,、高速的打印效率,、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度?？焖?、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng),。

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印 。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產商,，擁有多項**技術,，為全球客戶提供整套硬件，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產商，擁有多項專項技術,，為全球客戶提供整套硬件,，軟件，打印材料和解決方案一站式服務,。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,，適用于生命科學領域的應用,，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術,，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。吉林2GL灰度光刻3D微納加工

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Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,，如球面和非球面透鏡。上海超高速灰度光刻微納光刻

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區(qū)加楓路26號108室,。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng),，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎,。公司秉持誠信為本的經營理念,，在儀器儀表深耕多年，以技術為先導,，以自主產品為重點,，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造儀器儀表良好品牌,。納糯三維秉承“客戶為尊,、服務為榮、創(chuàng)意為先,、技術為實”的經營理念,，全力打造公司的重點競爭力。