QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時(shí)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容,。江蘇超高速灰度光刻3D打印

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型,。基于雙光子聚合技術(shù),，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制,。吉林工業(yè)級(jí)灰度光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù),。

    灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu),。微透鏡陣列也是類似,，可以通過(guò)劑量分布的控制來(lái)控制其輪廓形態(tài)。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,，約為Ra=100nm，前兩者可以會(huì)的Ra=50nm的球面,。微納3D打印與灰度光刻有點(diǎn)類似,，但是原理不同，我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu),，對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具，但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制,。

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm,。 Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應(yīng)用,。

在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,，以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制,。Nanoscribe稱，QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,，可以在一個(gè)步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底,，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機(jī)，允許高縱橫比,，支持高結(jié)構(gòu),，無(wú)需掩模、旋涂和預(yù)烘烤或后烘烤,。更多灰度光刻知識(shí),，歡迎咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。工業(yè)級(jí)灰度光刻技術(shù)

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻技術(shù),。江蘇超高速灰度光刻3D打印

近年來(lái),，實(shí)現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電（MEMS）、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注,，良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性,，信號(hào)通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段,，如超快激光刻蝕工藝,、電化學(xué)腐蝕或反應(yīng)離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu),。該方法中,，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設(shè)計(jì)等特點(diǎn),，不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版,，結(jié)合軟件的圖形化設(shè)計(jì)可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。江蘇超高速灰度光刻3D打印

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室,。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng),，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎,。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念,，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo),，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn)，發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),，打造儀器儀表良好品牌,。納糯三維秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮,、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念,，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。