不銹鋼表面電鍍的處理方法：壓紋,、水鍍,、蝕刻、電鍍,、無氰堿性亮銅,、納米鎳、其他技術等,。

無氰堿性亮銅

在銅合金上一步完成預鍍與加厚,，鍍層厚度可達10μm以上，亮度如酸性亮銅鍍層,，若進行發(fā)黑處理可達漆黑效果,，已在1萬升槽正常運行兩年。  能完全取代傳統(tǒng)鍍銅工藝和光亮鍍銅工藝,，適用于任何金屬基材：純銅,、銅合金、鐵,、不銹鋼,、鋅合金壓鑄件、鋁,、鋁合金工件等基材上,，掛鍍或滾鍍均可,。

納米鎳

應用納米技術研發(fā)的環(huán)保型產(chǎn)品,，能完全取代傳統(tǒng)鍍銅預鍍和傳統(tǒng)化學鎳，適用于鐵件,、不銹鋼,、銅、銅合金,、鋁,、鋁合金、鋅,、鋅合金,、鈦等等，掛鍍或滾鍍均可,。 

其它技術

貴金屬金,、銀,、鈀回收技術；金剛石鑲嵌鍍技術,；不銹鋼電化學和化學精拋光技術,；紡織品鍍銅、鍍鎳技術,；硬金（Au-Co,，Au-Ni）電鍍；鈀鈷合金電鍍,；黑色Sn—Ni 電鍍,；化學鍍金；純金浸鍍,；化學沉銀,；化學沉錫 鋼鍍金請找常州金韜源，歡迎來電咨詢,。宣城鋅合金鍍金加工

有很多在后段組裝廠的朋友,，對于電路板上的「硬金」及「軟金」一直搞不很清楚，有些人還一直認為電鍍金就一定是硬金,，而化學金就一定是軟金,，其實這樣的分法只能說答對了一半。電鍍鎳金其實電鍍金本身就可以分為硬金及軟金,。因為電鍍硬金實際上就是電鍍合金(也就是鍍了Au及其他的金屬),，所以硬度會比較硬，適合用在需要受力摩擦的地方,，在電子業(yè)界一般用來作為電路板的板邊接觸點（俗稱「金手指」,，如較前面的圖片所示）；而軟金一般則用于COB(ChipOnBoard)上面打鋁線,，或是手機按鍵的接觸面,，近來則被大量運用在BGA載板的正反兩面。上海黃銅鍍金廠鋅合金鍍金請找常州金韜源,，歡迎來電,。

光亮劑

電鍍過程中，加入添加劑后可得到細致光亮的鍍層,。這種添加劑稱光亮劑,。光亮劑可分為以下三類:(1)有明顯表面活性的光亮劑:如十二醇硫酸醋鈉(K-12),十六烷基三甲基甜菜堿(Am)；聚氧乙烯(n)十二醇醚(n=15～20),；聚氧乙烯(n)壬基酚醚(n=10或21),；聚氧乙烯((n)蓖麻油；聚氧乙烯(n)二癸撐三胺(N)有表面活性的光亮劑:它有表面活性但不明顯,，其溶液不能形成膠團,，不能稱為表面活性劑,，可稱表面活性物質(zhì)。如丙烯磺酸鈉,、低級膠與環(huán)氧氯丙烷縮合物,、二甲氨基丙胺與環(huán)氧氮丙烷的縮合物、苯基聚二硫丙撐磺酸鈉,、炔醇,、炔二醇及其環(huán)氧乙烷(環(huán)氧丙烷)加成物。無表面活性光亮劑:這類光亮劑,，沒有表面活性,。但卻是非常重要的光亮劑。品種為芐叉,?？娋闧2]等人，以OP-10為載體光亮劑,，芐叉為主光亮劑,，并加入適量輔助光亮劑，得到一種Zn-Mn合金電鍍的添加劑ZM,。

鍍液成份及雜質(zhì)種類

鍍銀槽液成份

一般普通鍍銀的槽液成份都是按照國家電鍍行業(yè)標準HB5074執(zhí)行的,。

鍍液雜質(zhì)種類分析

根據(jù)電鍍銀槽液的生產(chǎn)過程分析，槽液中可能引入且會對槽液性能和鍍層質(zhì)量造成明顯影響的雜質(zhì)有：有機物,、鉻離子,、鎳離子、硫離子,、氯離子等,。這些雜質(zhì)中的一種或多種在槽液中積累到一定程度都會降低槽液的鍍覆能力，導致鍍層質(zhì)量的直接下降,。

鍍銀槽中影響槽液分散能力,、導電能力、鍍層質(zhì)量的主要有害雜質(zhì)包含有機物,、鉻離子,、鎳離子,、硫離子,、氯離子等，可以用氫氧化鉀,、顆?；钚蕴俊㈦p氧水分別去除,，去除順利為有機物→鉻離子+鎳離子→硫離子+氯離子,。 鐵鍍金請找常州金韜源,，歡迎來電詳談。

丙綸纖維上化學鍍銅,，可用于化工制藥紡織等工業(yè)過濾,、防護等，丙綸非織造布鍍銅復合材料增加了丙綸材料的導電性,，可消除靜電的危害,，可用于制造抗靜電防護服包裝材料、裝飾材料等,，有著很大的應用前景,。

化學浸鍍銅：以塑料鍍銅，代替金屬銅材,，可取得銅一樣的表面性能和效果,，比鑄造、鍛壓的工藝難度小,，且減少了設備投資,，節(jié)約了大量銅材。塑料鍍金屬,，可提高塑料的抗老化性能,，消除塑料的靜電吸塵作用。

化學鍍常用溶液

化學鍍銀,、鍍鎳,、鍍銅、鍍鈷,、鍍鎳磷液,、鍍鎳磷硼液等。 黃銅鍍金請找常州金韜源,，歡迎來電洽談,。銅鍍金電鍍廠

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鉻離子和鎳離子的去除

鉻離子和鎳離子主要是生產(chǎn)過程中工序間溶液的相互污染等途徑而帶入槽液,，含量高時直接影響槽液的分散能力和鍍覆速率，導致電鍍質(zhì)量的降低,。去除這兩種有害離子,，主要應用金屬離子與氫氧根(OH-)的沉淀效果來實現(xiàn)，常用的化學藥品為氫氧化鈉(NaOH)和氫氧化鉀(KOH),，考慮到鍍銀槽液中的絡合劑為鉀(KCN),，含有鉀離子，故通常情況下選用氫氧化鉀來除雜質(zhì),，一般的加入量為(3-5)g/L左右,，具體的加入量通過這兩種離子的化驗分析結果來確定,。氫氧化鉀加入后鉻離子和鎳離子將與氫氧根(OH-)形成沉淀，槽液靜置一定時間后,，通過過濾等方式可以將沉淀去除并固廢處理,，從而將雜質(zhì)元素一并去除。 宣城鋅合金鍍金加工

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