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上海3微米光刻膠國產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-04-18

LCD 正性光刻膠(YK-200)應(yīng)用場景:LCD 面板的電極圖案化(如 TFT-LCD 的柵極、源漏極)、彩色濾光片制造,。特點:高感光度與均勻涂布性,,確保顯示面板的高對比度和色彩還原度。
厚膜光刻膠(JT-3001)應(yīng)用場景:Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù),以及 OLED 面板的封裝工藝,。特點:膜厚可控(可達(dá)數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求,。
PCB 光刻膠(如 SU-3 負(fù)性光刻膠)應(yīng)用場景:高多層 PCB,、HDI(高密度互連)板的線路成像,,以及 IC 載板的精細(xì)線路制作,。特點:抗電鍍性能優(yōu)異,,支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距,適應(yīng) 5G 通信、服務(wù)器等 PCB 需求,。 負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家。上海3微米光刻膠國產(chǎn)廠家

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公司遵循國際質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn),,通過 ISO9001:2008 認(rèn)證,,并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控,。以錫膏產(chǎn)品為例,,其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,同時具備低飛濺,、高潤濕性等特點,,適用于電子產(chǎn)品組裝。此外,,公司建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化實驗室,,配備先進(jìn)檢測設(shè)備,確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際同類水平,。

憑借多年研發(fā)積累,,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料,、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線,。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏,,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,,滿足精密電子組裝的多樣化需求,。同時,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,,兼具耐潮性與易操作性,,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。
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國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域,,計劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā),相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍,。

地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免,,武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單;福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%,,光刻膠是重點突破方向,。

研發(fā)專項:科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費,要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,,并啟動EUV光刻膠預(yù)研,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心,逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域,,形成了 “技術(shù)驅(qū)動,、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠,,還延伸至錫膏,、焊片、靶材等配套材料,,為客戶提供一站式采購服務(wù),。

市場與榮譽:
  • 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球 50 多個地區(qū),客戶包括電子制造服務(wù)商(EMS)及半導(dǎo)體廠商,。
  • 獲評 “廣東省專精特新企業(yè)”“廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)”,,并通過技術(shù)企業(yè)認(rèn)證。
  • 生產(chǎn)基地配備自動化設(shè)備,,年產(chǎn)能超千噸,,滿足大規(guī)模訂單需求。
未來展望:
公司計劃進(jìn)一步擴大研發(fā)中心規(guī)模,,聚焦第三代半導(dǎo)體材料研發(fā),,如 GaN,、SiC 相關(guān)光刻膠技術(shù),。同時,,深化全球化布局,在東南亞,、歐洲等地設(shè)立分支機構(gòu),,強化本地化服務(wù)能力。
吉田半導(dǎo)體全系列產(chǎn)品覆蓋,,滿足多元化需求,。

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  1. 全品類覆蓋
    吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠,、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,覆蓋芯片制造,、顯示面板,、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,技術(shù)布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商,。
  2. 關(guān)鍵技術(shù)突破
    納米壓印技術(shù):JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃,,支持納米級精度圖案復(fù)制,適用于第三代半導(dǎo)體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,,技術(shù)指標(biāo)接近國際先進(jìn)水平,。
    水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機溶劑,低 VOC 排放,,符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn),,環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品。
    厚膜工藝能力:JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控(達(dá)數(shù)十微米),,滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求,。
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光刻膠的顯示面板領(lǐng)域,。上海3微米光刻膠國產(chǎn)廠家

技術(shù)驗證周期長
半導(dǎo)體光刻膠的客戶驗證周期通常為2-3年,需經(jīng)歷PRS(性能測試),、STR(小試),、MSTR(批量驗證)等階段。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證,,預(yù)計2025年才能進(jìn)入穩(wěn)定供貨階段,。

 原材料依賴仍存
樹脂和光酸仍依賴進(jìn)口,如KrF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%,。國內(nèi)企業(yè)需在“吸附—重結(jié)晶—過濾—干燥”耦合工藝等關(guān)鍵技術(shù)上持續(xù)突破,。

 未來技術(shù)路線

? 金屬氧化物基光刻膠:氧化鋅、氧化錫等材料在EUV光刻中展現(xiàn)出更高分辨率和穩(wěn)定性,,清華大學(xué)團隊已實現(xiàn)5nm線寬的原型驗證,。

? 電子束光刻膠:中科院微電子所開發(fā)的聚酰亞胺基電子束光刻膠,,分辨率達(dá)1nm,適用于量子芯片制造,。

? AI驅(qū)動材料設(shè)計:華為與中科院合作,,利用機器學(xué)習(xí)優(yōu)化光刻膠配方,研發(fā)周期縮短50%,。

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標(biāo)簽: 光刻膠