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產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,,耐印率高,;固含量高,,流平性好,,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,,網(wǎng)版平滑,、無白點(diǎn)、無沙眼,、亮度高,;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用,;解像性,、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,,曝光時(shí)間短,,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,,提高工作效率 ,。
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應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革,、標(biāo)牌,、印刷電路板(PCB)、廣告宣傳,、玻璃,、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。
產(chǎn)業(yè)鏈配套:原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展。大連低溫光刻膠供應(yīng)商
綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),,溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,,符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),,其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),,通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸,。
低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
大連低溫光刻膠供應(yīng)商負(fù)性光刻膠的工藝和應(yīng)用場景,。
厚板光刻膠
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電路板制造:在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時(shí),,厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性,比如汽車電子,、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流,、高電壓等工況,。
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功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類功率器件,需要承受高電壓和大電流,厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié),,保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局,,提高器件的性能和可靠性。
負(fù)性光刻膠
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半導(dǎo)體制造:在芯片制造過程中,,用于制作一些對精度要求高,、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),如芯片的金屬互連層,、接觸孔等,。通過負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝,能實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,,確保芯片各部分之間的電氣連接正常,。
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平板顯示制造:在液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)的制造中,用于制作電極,、像素等大面積圖案,。以 LCD 為例,負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,,控制液晶分子的排列,,從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求。
厚板光刻膠:JT-3001 型號,,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造,。
負(fù)性光刻膠
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SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
正性光刻膠
無鹵無鉛錫育廠家吉田,,RoHS 認(rèn)證,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!
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LCD 正性光刻膠 YK-200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力,重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果。
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半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300:具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領(lǐng)域。
厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,,如一些特殊的電路板制造。
SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),。重量為 100g,,常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,,能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,,長期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,。重量 100g,,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,,如一些半導(dǎo)體器件的制造,。
松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!煙臺(tái)水油光刻膠生產(chǎn)廠家
聚焦封裝需求,,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),。大連低溫光刻膠供應(yīng)商
工藝流程
? 目的:去除基板表面油污、顆粒,,增強(qiáng)感光膠附著力,。
? 方法:
? 化學(xué)清洗(硫酸/雙氧水、去離子水),;
? 表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,,PCB基板用粗化處理)。
涂布(Coating)
? 方式:
? 旋涂:半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域,,厚度控制精確(納米至微米級),,轉(zhuǎn)速500-5000rpm;
? 噴涂/輥涂:PCB/MEMS領(lǐng)域,,適合大面積或厚膠(微米至百微米級,,如負(fù)性膠可達(dá)100μm)。
? 關(guān)鍵參數(shù):膠液黏度,、涂布速度,、基板溫度(影響厚度均勻性)。
前烘(Soft Bake)
? 目的:揮發(fā)溶劑,,固化膠膜,,增強(qiáng)附著力和穩(wěn)定性。
? 條件:
? 溫度:60-120℃(正性膠通常更低,,如90℃,;負(fù)性膠可至100℃以上);
? 時(shí)間:5-30分鐘(根據(jù)膠厚調(diào)整,,厚膠需更長時(shí)間),。
曝光(Exposure)
? 光源:
? 紫外光(UV):G線(436nm)、I線(365nm)用于傳統(tǒng)光刻(分辨率≥1μm),;
? 深紫外(DUV):248nm(KrF),、193nm(ArF)用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程(分辨率至20nm);
? 極紫外(EUV):13.5nm,,用于7nm以下制程(只能正性膠適用),。
? 曝光方式:
? 接觸式/接近式:掩膜版與膠膜直接接觸(PCB、MEMS,,低成本但精度低),;
? 投影式:通過物鏡聚焦(半導(dǎo)體,,分辨率高,如ArF光刻機(jī)精度達(dá)22nm),。
大連低溫光刻膠供應(yīng)商
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景,、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治,、展望未來,、有夢想有目標(biāo),有組織有體系的公司,,堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來的道路上大放光明,,攜手共畫藍(lán)圖,在廣東省等地區(qū)的電工電氣行業(yè)中積累了大批忠誠的客戶粉絲源,,也收獲了良好的用戶口碑,,為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ),也希望未來公司能成為*****,,努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量,,我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息,斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將**吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌,,共創(chuàng)佳績,,一直以來,公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理,、創(chuàng)新發(fā)展,、誠實(shí)守信的方針,員工精誠努力,,協(xié)同奮取,,以品質(zhì)、服務(wù)來贏得市場,,我們一直在路上,!