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來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-01

不同光刻膠類型的適用場(chǎng)景對(duì)比
類型 波長范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB,、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列 
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列 
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片,、OLED電極圖案化 國際主流:JSR ARF系列 
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進(jìn)制程,、3D NAND堆疊 研發(fā)中(吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān)) 
水性光刻膠 全波長適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導(dǎo)體WT-200系列 

總結(jié):多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”

光刻膠的應(yīng)用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè),,從半導(dǎo)體芯片的“納米級(jí)雕刻”到PCB的“毫米級(jí)線路”,,再到顯示面板的“色彩精細(xì)控制”,其技術(shù)參數(shù)(分辨率,、耐蝕刻性,、靈敏度)需根據(jù)場(chǎng)景設(shè)計(jì)。隨著**新能源(車規(guī)芯片,、光伏),、新型顯示(Micro LED),、先進(jìn)制造(納米壓印)**等領(lǐng)域的發(fā)展,,光刻膠的應(yīng)用邊界將持續(xù)擴(kuò)展,,成為支撐制造的關(guān)鍵材料,。
負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家,。浙江紫外光刻膠多少錢

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吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),,構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,,推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。例如,,與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,,極限分辨率 120nm,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,,已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,,為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動(dòng)能。河南納米壓印光刻膠廠家吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破,!

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LCD顯示

? 彩色濾光片(CF):

? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,,線寬精度±2μm,透光率<0.1%,。

? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍(lán)像素,,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。

? 陣列基板(Array):

? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,分辨率≤3μm,。

 OLED顯示(柔性/剛性)

? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),,線寬精度±1μm,需耐溶劑侵蝕(適應(yīng)蒸鍍工藝),。

? 觸控電極(如ITO/PET):通過光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,,線寬≤5μm。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備:使用高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)定義微米級(jí)LED陣列,,良率要求>99.99%,。

  1. 正性光刻膠(如 YK-300)
    應(yīng)用場(chǎng)景:用于芯片的精細(xì)圖案化,如集成電路(IC),、分立器件(二極管,、三極管)的制造。
    特點(diǎn):高分辨率(可達(dá)亞微米級(jí)),,適用于多層光刻工藝,,確保芯片電路的高精度與可靠性。
  2. 負(fù)性光刻膠(如 JT-1000)
    應(yīng)用場(chǎng)景:用于功率半導(dǎo)體(如 MOSFET,、IGBT)的制造,,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。
    特點(diǎn):抗蝕刻能力強(qiáng),,適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
  3. 納米壓印光刻膠(JT-2000)
    應(yīng)用場(chǎng)景:第三代半導(dǎo)體(GaN,、SiC)芯片,、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造。特點(diǎn):耐高溫(250℃),、耐酸堿,,支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制,降低芯片的制造成本,。
光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用,。

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),,適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景,,如一些特殊的電路板制造,。

SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),。重量為 100g,常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能滿足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求,。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,。重量 100g,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,,如一些半導(dǎo)體器件的制造,。 耐高溫光刻膠 JT-2000,,250℃環(huán)境穩(wěn)定運(yùn)行,,圖形保真度超 95%,用于納米結(jié)構(gòu)制造,!河南低溫光刻膠報(bào)價(jià)

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 光伏電池(半導(dǎo)體級(jí)延伸)

? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),,線寬≤20μm,,降低遮光損失。

? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝),。

 納米壓印技術(shù)(下一代光刻)

? 納米壓印光刻膠:通過模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級(jí)分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm),、量子點(diǎn)顯示陣列等,。

 微流控與生物醫(yī)療

? 微流控芯片:制造微米級(jí)流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS基材適配),。

? 生物檢測(cè)芯片:通過光刻膠圖案化抗體/抗原固定位點(diǎn),,精度≤5μm。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念,,先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn),,在發(fā)展過程中不斷完善自己,,要求自己,不斷創(chuàng)新,,時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**,在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià),,這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果,,這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力,也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳3謯^發(fā)圖強(qiáng),、一往無前的進(jìn)取創(chuàng)新精神,,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度,在全體員工共同努力之下,,全力拼搏將共同吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來,,創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品,我們將以更好的狀態(tài),,更認(rèn)真的態(tài)度,,更飽滿的精力去創(chuàng)造,去拼搏,,去努力,,讓我們一起更好更快的成長!

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