探索LIMS在綜合第三方平臺(tái)建設(shè)
高校實(shí)驗(yàn)室引入LIMS系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)
高校實(shí)驗(yàn)室中LIMS系統(tǒng)的應(yīng)用現(xiàn)狀
LIMS應(yīng)用在生物醫(yī)療領(lǐng)域的重要性
LIMS系統(tǒng)在醫(yī)藥行業(yè)的應(yīng)用
LIMS:實(shí)驗(yàn)室信息管理系統(tǒng)的模塊組成
如何選擇一款適合的LIMS,?簡(jiǎn)單幾步助你輕松解決
LIMS:解決實(shí)驗(yàn)室管理的痛點(diǎn)
實(shí)驗(yàn)室是否需要采用LIMS軟件?
LIMS系統(tǒng)在化工化學(xué)行業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),,適用于不同領(lǐng)域。
LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。 納米級(jí)圖案化的主要工具,。煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠
光刻膠系列:
厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,;
水油光刻膠 SR - 3308,,容量 5L;SU - 3 負(fù)性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g,;
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,,分辨率高,,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好;
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,長(zhǎng)期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,,重量 100g;
LCD 正性光刻膠 YK - 200,,具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,,重量 100g,;
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g,;
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,重量 1L,。 東莞PCB光刻膠報(bào)價(jià)正性光刻膠生產(chǎn)廠家,。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域,。
厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,使用前要閱讀參考技術(shù)資料,。適用于厚板的光刻加工,,在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用,,如特定的電路板制造領(lǐng)域,。
水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝,。品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),由工廠研發(fā)且支持定制,,工廠直銷,。 水性感光膠推薦吉田 JT-1200,精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)+易操作性!
納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠
吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過(guò)優(yōu)化材料配方與工藝,,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問(wèn)題,助力客戶降本增效,。
針對(duì)傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴(yán)重等問(wèn)題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),在顯影過(guò)程中減少有機(jī)溶劑對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,,使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,,推動(dòng)行業(yè)生產(chǎn)效率提升。煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠