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煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-04

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),,適用于不同領(lǐng)域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。 納米級(jí)圖案化的主要工具,。煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠

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光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,;

水油光刻膠 SR - 3308,,容量 5L;SU - 3 負(fù)性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g,;

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,,分辨率高,,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,長(zhǎng)期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,,重量 100g;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,,具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,,重量 100g,;

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g,;

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,重量 1L,。 東莞PCB光刻膠報(bào)價(jià)正性光刻膠生產(chǎn)廠家,。

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納米電子器件制造

? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極,、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),,實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。

? 二維材料器件:在石墨烯,、二硫化鉬等二維材料表面,,通過(guò)電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器,。

 納米光子學(xué)與超材料

? 光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖,、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,,用于集成光路或量子光學(xué)器件,。

? 超材料設(shè)計(jì):在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案(如太赫茲超材料),實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的超常調(diào)控(吸收,、偏振轉(zhuǎn)換),。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,使用前要閱讀參考技術(shù)資料,。適用于厚板的光刻加工,,在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用,,如特定的電路板制造領(lǐng)域,。

水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝,。品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),由工廠研發(fā)且支持定制,,工廠直銷,。 水性感光膠推薦吉田 JT-1200,精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)+易操作性!

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 原料準(zhǔn)備

? 主要成分:樹脂(成膜劑,,如酚醛樹脂,、聚酰亞胺等)、感光劑(光引發(fā)劑或光敏化合物,,如重氮萘醌,、光刻膠單體)、溶劑(溶解成分,,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)),、添加劑(調(diào)節(jié)粘度、感光度,、穩(wěn)定性等,,如表面活性劑、穩(wěn)定劑),。

? 原料提純:對(duì)樹脂,、感光劑等進(jìn)行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),避免雜質(zhì)影響光刻精度,。

 配料與混合

? 按配方比例精確稱量各組分,,在潔凈環(huán)境,如萬(wàn)中通過(guò)攪拌機(jī)均勻混合,,形成膠狀溶液,。

? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,,避免氣泡產(chǎn)生或成分分解。

 過(guò)濾與純化

? 使用納米級(jí)濾膜(孔徑0.05-0.2μm)過(guò)濾,,去除顆粒雜質(zhì)(如金屬離子,、灰塵),確保膠液潔凈度,,避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷,。

 性能檢測(cè)

? 物理指標(biāo):粘度、固含量,、表面張力,、分子量分布等,影響涂布均勻性,。

? 化學(xué)指標(biāo):感光度,、分辨率、對(duì)比度,、耐蝕刻性,,通過(guò)曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測(cè)試驗(yàn)證。

? 可靠性:存儲(chǔ)穩(wěn)定性(常溫/低溫保存下的性能變化),、耐溫性(烘烤過(guò)程中的抗降解能力),。

 包裝與儲(chǔ)存

? 在惰性氣體(如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器(如棕色玻璃瓶或鋁罐),防止感光劑氧化或光分解,。

? 儲(chǔ)存條件:低溫(5-10℃),、避光、干燥,,部分產(chǎn)品需零下環(huán)境(如EUV光刻膠)。
感光膠的工藝和應(yīng)用,。東莞PCB光刻膠報(bào)價(jià)

納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過(guò)優(yōu)化材料配方與工藝,,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問(wèn)題,助力客戶降本增效,。
針對(duì)傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴(yán)重等問(wèn)題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),在顯影過(guò)程中減少有機(jī)溶劑對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,,使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,,推動(dòng)行業(yè)生產(chǎn)效率提升。煙臺(tái)低溫光刻膠感光膠

標(biāo)簽: 錫片 光刻膠