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浙江激光光刻膠感光膠

來源： 發(fā)布時間：2025-05-10

關(guān)鍵工藝流程

 涂布與前烘：

? 旋涂或噴涂負(fù)性膠,，厚度可達1-100μm（遠厚于正性膠），前烘溫度60-90℃,，去除溶劑并增強附著力,。

 曝光：

? 光源以**汞燈G線（436nm）**為主，適用于≥1μm線寬,，曝光能量較高（約200-500mJ/cm2）,，需注意掩膜版與膠膜的貼合精度。

 顯影：

? 使用有機溶劑顯影液（如二甲苯,、醋酸丁酯）,，未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解，曝光的交聯(lián)膠膜保留,。

 后處理：

? 后烘（Post-Bake）：加熱（100-150℃）進一步固化交聯(lián)結(jié)構(gòu),，提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力。

感光膠的工藝和應(yīng)用,。浙江激光光刻膠感光膠

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關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：

? 在晶圓表面涂覆光刻膠,，通過掩膜曝光、顯影,，刻蝕出晶體管,、電路等納米級結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。

 印刷電路板（PCB）：

? 保護電路圖形或作為蝕刻抗蝕層,，制作線路和焊盤,。

 顯示面板（LCD/OLED）：

? 用于制備彩色濾光片、電極圖案等,。

 微機電系統(tǒng)（MEMS）：

? 加工微結(jié)構(gòu)（如傳感器,、執(zhí)行器）。

工作原理（以正性膠為例）

1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠,，烘干形成薄膜,。

2. 曝光：通過掩膜版，用特定波長光線照射,，曝光區(qū)域的光敏劑分解,，使樹脂變得易溶于顯影液,。

3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域，留下未曝光的光刻膠圖案,，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層,。

4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護的區(qū)域），或去除光刻膠（剝離工藝）,。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工,，在對精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域,。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器,、太陽能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點,，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷,。

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為,，吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型,。面對全球環(huán)保趨勢,，吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,，焊接可靠性提升 30%,。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REACH 法規(guī),，生產(chǎn)過程中通過多級廢氣處理與水循環(huán)系統(tǒng),，實現(xiàn)零排放。公司嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,，工業(yè)固廢循環(huán)利用率超 90%,，為新能源汽車、光伏儲能等領(lǐng)域提供綠色材料解決方案，成為全球客戶信賴的環(huán)保材料供應(yīng)商,。LCD 光刻膠供應(yīng)商哪家好?吉田半導(dǎo)體高分辨率 +低 VOC 配方!

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技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,，實現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù),，部分原材料純度達PPT級。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進

? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領(lǐng)域（如量子點顯示,、生物芯片）實現(xiàn)技術(shù)突破,，分辨率達3μm，填補國內(nèi)空缺,。

? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求,，開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠,，適配AMOLED,、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,，計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。
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半導(dǎo)體材料選吉田,，歐盟認(rèn)證，支持定制化解決方案!浙江激光光刻膠感光膠

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001,，具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L,；SU - 3 負(fù)性光刻膠,，分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng),，重量 100g；

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,，分辨率高，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C,，長期可靠性高,，粘接強度高，重量 100g,；

LCD 正性光刻膠 YK - 200,，具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g,；

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,，具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g；

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L,。 浙江激光光刻膠感光膠

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片