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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-10

憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線,。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏,,還針對(duì)特殊場(chǎng)景開(kāi)發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,,滿足精密電子組裝的多樣化需求,。同時(shí),感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,,兼具耐潮性與易操作性,,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。

公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,,并與多家跨國(guó)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系,。通過(guò)在重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,,提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù),。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,,縮短交付周期,,為客戶提供高效解決方案。

未來(lái),,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新,,拓展產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域,以可靠的產(chǎn)品與專業(yè)的服務(wù),,持續(xù)鞏固其在半導(dǎo)體材料行業(yè)的重要地位,。

吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動(dòng)光刻膠產(chǎn)業(yè)升級(jí)。武漢網(wǎng)版光刻膠多少錢

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制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景:印刷電路板(FPC),、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工,。特點(diǎn):高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長(zhǎng)期使用壽命,。

水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場(chǎng)景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備,、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn),。特點(diǎn):以水為溶劑,,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),。

水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場(chǎng)景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性,。 武漢網(wǎng)版光刻膠多少錢松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!

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不同光刻膠類型的適用場(chǎng)景對(duì)比
類型 波長(zhǎng)范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列 
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片,、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列 
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片,、OLED電極圖案化 國(guó)際主流:JSR ARF系列 
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進(jìn)制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中(吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān)) 
水性光刻膠 全波長(zhǎng)適配 5-50μm 柔性顯示,、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導(dǎo)體WT-200系列 

總結(jié):多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”

光刻膠的應(yīng)用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè),,從半導(dǎo)體芯片的“納米級(jí)雕刻”到PCB的“毫米級(jí)線路”,再到顯示面板的“色彩精細(xì)控制”,,其技術(shù)參數(shù)(分辨率,、耐蝕刻性、靈敏度)需根據(jù)場(chǎng)景設(shè)計(jì),。隨著**新能源(車規(guī)芯片,、光伏)、新型顯示(Micro LED),、先進(jìn)制造(納米壓?。?*等領(lǐng)域的發(fā)展,光刻膠的應(yīng)用邊界將持續(xù)擴(kuò)展,,成為支撐制造的關(guān)鍵材料,。

LCD顯示

? 彩色濾光片(CF):

? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,線寬精度±2μm,,透光率<0.1%,。

? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍(lán)像素,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性,。

? 陣列基板(Array):

? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,,分辨率≤3μm。

 OLED顯示(柔性/剛性)

? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),線寬精度±1μm,,需耐溶劑侵蝕(適應(yīng)蒸鍍工藝),。

? 觸控電極(如ITO/PET):通過(guò)光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,線寬≤5μm,。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備:使用高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)定義微米級(jí)LED陣列,,良率要求>99.99%。
感光膠的工藝和應(yīng)用,。

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,使用前要閱讀參考技術(shù)資料,。適用于厚板的光刻加工,,在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用,,如特定的電路板制造領(lǐng)域,。

水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝,。品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),由工廠研發(fā)且支持定制,,工廠直銷,。 政策支持:500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。河南納米壓印光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

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定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后,曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形,。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,,其優(yōu)勢(shì)是分辨率高,、圖案邊緣清晰,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇,。

化學(xué)組成與工作原理

 主要成分

? 樹(shù)脂(成膜劑):

? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹(shù)脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),占比約80%-90%,。

? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹(shù)脂或含氟聚合物,,搭配光酸發(fā)生器(PAG),,通過(guò)酸催化反應(yīng)提高感光度和分辨率。

? 溶劑:溶解樹(shù)脂和感光劑,,常用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或乳酸乙酯,。

? 添加劑:表面活性劑(改善涂布均勻性)、穩(wěn)定劑(防止暗反應(yīng)),、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等,。

 工作原理

? 曝光前:光敏劑(如DNQ)與樹(shù)脂結(jié)合,形成不溶于堿性顯影液的復(fù)合物,。

? 曝光時(shí):

? 傳統(tǒng)PAC體系:DNQ在紫外光(G線436nm,、I線365nm)照射下發(fā)生光分解,生成羧酸,,使曝光區(qū)域樹(shù)脂在堿性顯影液中溶解性增強(qiáng),。

? 化學(xué)增幅型:PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸,催化樹(shù)脂發(fā)生脫保護(hù)反應(yīng),,大幅提高顯影速率(靈敏度提升10倍以上),。

? 顯影后:曝光區(qū)域溶解去除,未曝光區(qū)域保留,,形成正性圖案,。
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標(biāo)簽: 錫片 光刻膠