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濟(jì)南阻焊油墨光刻膠感光膠

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2025-05-17

“設(shè)備-材料-工藝”閉環(huán)驗(yàn)證
吉田半導(dǎo)體與中芯國(guó)際,、華虹半導(dǎo)體等晶圓廠建立了聯(lián)合研發(fā)機(jī)制，針對(duì)28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠，例如其KrF光刻膠已通過(guò)中芯國(guó)際北京廠的產(chǎn)線驗(yàn)證,，良率達(dá)95%以上。此外,，公司參與國(guó)家重大專項(xiàng)（如02專項(xiàng)）,，與中科院微電子所合作開發(fā)EUV光刻膠基礎(chǔ)材料，雖未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),，但在酸擴(kuò)散控制和靈敏度優(yōu)化方面取得階段性突破,。

政策支持與成本優(yōu)勢(shì)
作為廣東省專精特新企業(yè)，吉田半導(dǎo)體享受稅收優(yōu)惠（如15%企業(yè)所得稅）和研發(fā)補(bǔ)貼（2023年獲得國(guó)家補(bǔ)助超2000萬(wàn)元）,，比較明顯降低產(chǎn)品研發(fā)成本,。同時(shí)，其本地化生產(chǎn)（東莞松山湖基地）可將物流成本壓縮至進(jìn)口產(chǎn)品的1/3,，并實(shí)現(xiàn)48小時(shí)緊急訂單響應(yīng),，這對(duì)中小客戶具有吸引力。

自研自產(chǎn)的光刻膠廠家,。濟(jì)南阻焊油墨光刻膠感光膠

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? 正性光刻膠

? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造,，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）,、耐酸堿腐蝕特性,，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）,。

? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)：采用進(jìn)口樹脂及光引發(fā)劑,，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求,。

? 負(fù)性光刻膠

? JT-1000：負(fù)性膠,，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能，分辨率達(dá)3μm,，適用于功率半導(dǎo)體,、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）,、磷酸（H3PO4）等強(qiáng)腐蝕液處理,。

? SU-3：經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠，性價(jià)比高,，適用于分立器件及低端邏輯芯片,，光源適應(yīng)性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2,。

2. 顯示面板光刻膠

? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設(shè)計(jì),，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力,，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造,，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn),。

? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品，VOC含量<50g/L,，符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn),，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),，主要供應(yīng)京東方,、TCL等面板廠商。

廣西UV納米光刻膠工廠負(fù)性光刻膠的工藝和應(yīng)用場(chǎng)景,。

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產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：多元化布局與專業(yè)化延伸

 全品類覆蓋
吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏等,，形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如：

? 芯片光刻膠：覆蓋i線,、g線光刻膠,，適用于6英寸,、8英寸晶圓制造,。

? 納米壓印光刻膠：用于MEMS、光學(xué)器件等領(lǐng)域,，替代傳統(tǒng)光刻工藝,。

 專業(yè)化延伸
公司布局半導(dǎo)體用KrF光刻膠，計(jì)劃2025年啟動(dòng)研發(fā),，目標(biāo)進(jìn)入中芯國(guó)際,、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等晶圓廠供應(yīng)鏈。

質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢(shì)：嚴(yán)格品控與自動(dòng)化生產(chǎn)

 ISO認(rèn)證與全流程管控
公司通過(guò)ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證,，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,，原材料采用美、德,、日進(jìn)口高質(zhì)量材料,，確保產(chǎn)品批次穩(wěn)定性。
質(zhì)量指標(biāo)：光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb,，良率超99%,。

 自動(dòng)化生產(chǎn)能力
擁有行業(yè)前列的全自動(dòng)化生產(chǎn)線，年產(chǎn)能達(dá)2000噸（光刻膠及配套材料）,，支持大規(guī)模訂單交付,。

客戶認(rèn)證：從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線的漫長(zhǎng)“闖關(guān)”

 驗(yàn)證周期與試錯(cuò)成本
半導(dǎo)體光刻膠需經(jīng)歷PRS（性能測(cè)試）、STR（小試）、MSTR（中批量驗(yàn)證）等階段,，周期長(zhǎng)達(dá)2-3年,。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動(dòng)驗(yàn)證，直至2025年才通過(guò)客戶50nm閃存平臺(tái)認(rèn)證,。試錯(cuò)成本極高，單次晶圓測(cè)試費(fèi)用超百萬(wàn)元,，且客戶為維持產(chǎn)線穩(wěn)定,，通常不愿更換供應(yīng)商。

 設(shè)備與工藝的協(xié)同難題
光刻膠需與光刻機(jī),、涂膠顯影機(jī)等設(shè)備高度匹配,。國(guó)內(nèi)企業(yè)因缺乏ASML EUV光刻機(jī)測(cè)試資源，只能依賴二手設(shè)備或與晶圓廠合作驗(yàn)證,，導(dǎo)致研發(fā)效率低下,。例如，華中科技大學(xué)團(tuán)隊(duì)開發(fā)的EUV光刻膠因無(wú)法接入ASML原型機(jī)測(cè)試,，性能參數(shù)難以對(duì)標(biāo)國(guó)際,。
光刻膠是有什么東西？

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工藝流程

? 目的：去除基板表面油污,、顆粒,，增強(qiáng)感光膠附著力。

? 方法：

? 化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水,、去離子水）,；

? 表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,，PCB基板用粗化處理）,。

 涂布（Coating）

? 方式：

? 旋涂：半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域，厚度控制精確（納米至微米級(jí)）,，轉(zhuǎn)速500-5000rpm,；

? 噴涂/輥涂：PCB/MEMS領(lǐng)域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級(jí),，如負(fù)性膠可達(dá)100μm）,。

? 關(guān)鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度,、基板溫度（影響厚度均勻性）,。

 前烘（Soft Bake）

? 目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜,，增強(qiáng)附著力和穩(wěn)定性,。

? 條件：

? 溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃；負(fù)性膠可至100℃以上）,；

? 時(shí)間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調(diào)整,，厚膠需更長(zhǎng)時(shí)間）。

 曝光（Exposure）

? 光源：

? 紫外光（UV）：G線（436nm）,、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）,；

? 深紫外（DUV）：248nm（KrF）、193nm（ArF）用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程（分辨率至20nm）,；

? 極紫外（EUV）：13.5nm,，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）。

? 曝光方式：

? 接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB,、MEMS,，低成本但精度低）；

? 投影式：通過(guò)物鏡聚焦（半導(dǎo)體,，分辨率高,，如ArF光刻機(jī)精度達(dá)22nm）。

厚板光刻膠 JT-3001,，抗深蝕刻,，PCB 電路板制造Preferred!河南激光光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

聚焦封裝需求，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),。濟(jì)南阻焊油墨光刻膠感光膠

吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：

  • 芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際,、長(zhǎng)江存儲(chǔ)，支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
  • 顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,，成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
  • 新能源領(lǐng)域：無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證,，批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng)，年供貨量超 500 噸,。
  • 研發(fā)投入：年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,，承擔(dān)國(guó)家 02 專項(xiàng)課題，獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”,。
  • 產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,，納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。
  • 質(zhì)量體系：通過(guò) ISO9001,、IATF 16949 等認(rèn)證,，生產(chǎn)過(guò)程執(zhí)行 8S 管理，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,，目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時(shí),，深化國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”,。
從突破國(guó)際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來(lái),，公司將以更具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品與技術(shù)，助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階,。
濟(jì)南阻焊油墨光刻膠感光膠

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片