作為東莞松山湖的企業(yè),,吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,良率達(dá) 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證,;JT-2000 突破耐高溫極限,,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進(jìn)口原材料與全自動(dòng)化生產(chǎn)工藝,,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程,。吉田半導(dǎo)體全系列產(chǎn)品覆蓋,滿足多元化需求。陜西LED光刻膠工廠
吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造,、顯示面板,、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,通過差異化技術(shù)(如納米壓印,、厚膜工藝)和環(huán)保特性(水性配方),,滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域(如第三代半導(dǎo)體、Mini LED)的多樣化需求,。其產(chǎn)品不僅支持高精度,、高可靠性的制造工藝,還通過材料創(chuàng)新推動(dòng)行業(yè)向綠色化,、低成本化方向發(fā)展,。吉田半導(dǎo)體光刻膠的優(yōu)勢在于技術(shù)全面性、環(huán)保創(chuàng)新,、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務(wù),,尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領(lǐng)域形成差異化競爭力,。
山東水性光刻膠品牌光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!
技術(shù)驗(yàn)證周期長
半導(dǎo)體光刻膠的客戶驗(yàn)證周期通常為2-3年,,需經(jīng)歷PRS(性能測試),、STR(小試)、MSTR(批量驗(yàn)證)等階段,。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動(dòng)驗(yàn)證,,預(yù)計(jì)2025年才能進(jìn)入穩(wěn)定供貨階段。
原材料依賴仍存
樹脂和光酸仍依賴進(jìn)口,,如KrF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%,。國內(nèi)企業(yè)需在“吸附—重結(jié)晶—過濾—干燥”耦合工藝等關(guān)鍵技術(shù)上持續(xù)突破。
未來技術(shù)路線
? 金屬氧化物基光刻膠:氧化鋅,、氧化錫等材料在EUV光刻中展現(xiàn)出更高分辨率和穩(wěn)定性,,清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)已實(shí)現(xiàn)5nm線寬的原型驗(yàn)證。
? 電子束光刻膠:中科院微電子所開發(fā)的聚酰亞胺基電子束光刻膠,,分辨率達(dá)1nm,,適用于量子芯片制造。
? AI驅(qū)動(dòng)材料設(shè)計(jì):華為與中科院合作,,利用機(jī)器學(xué)習(xí)優(yōu)化光刻膠配方,,研發(fā)周期縮短50%。
吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠:半導(dǎo)體芯片制造的材料
YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,,成為 45nm 及以上制程的理想選擇,。
YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm,,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝,。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性,。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,,良率達(dá) 98% 以上,生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標(biāo)準(zhǔn),,幫助客戶降低封裝成本 20% 以上,。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐,。
吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠,。
光刻膠的工作原理:
1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片、玻璃,、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,,通過掩膜(或直接電子束掃描)對特定區(qū)域曝光。
2. 化學(xué)變化:曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)(正性膠曝光后溶解,,負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶),。
3. 顯影與刻蝕:溶解未反應(yīng)的部分,留下圖案化的膠層,,作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模,,將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。
在納米技術(shù)中,,關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限(λ/2),,因此需依賴高能束曝光技術(shù)(如電子束光刻、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率,、低缺陷),。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載,提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案,。陜西LED光刻膠工廠
產(chǎn)業(yè)鏈配套:原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展,。陜西LED光刻膠工廠
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產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,,耐印率高,;固含量高,流平性好,,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑,、無白點(diǎn),、無沙眼、亮度高;剝膜性好,,網(wǎng)版可再生使用,;解像性、高架橋性好,,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,;感光度高,曝光時(shí)間短,,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,提高工作效率 ,。
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應(yīng)用范圍:適用于塑料,、皮革、標(biāo)牌,、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳、玻璃,、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。
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