湖北光刻膠國產(chǎn)廠家

來源：發(fā)布時(shí)間：2025-05-22

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程,。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢，持續(xù)推出符合國際環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體材料解決方案,。

公司在錫膏,、焊片等產(chǎn)品中采用無鹵無鉛配方，嚴(yán)格遵循 RoHS 指令要求,，避免使用有害物質(zhì),。以錫膏為例，其零鹵素配方通過第三方機(jī)構(gòu)認(rèn)證,，不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負(fù)擔(dān),，還提升了焊接可靠性，適用于新能源汽車,、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域,。同時(shí)，納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過程中,，公司通過優(yōu)化原料配比,，減少揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放，確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī),。

厚板光刻膠 JT-3001,，抗深蝕刻,，PCB 電路板制造Preferred！湖北光刻膠國產(chǎn)廠家

關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：

? 在晶圓表面涂覆光刻膠,，通過掩膜曝光,、顯影，刻蝕出晶體管,、電路等納米級結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）,。

印刷電路板（PCB）：

? 保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層，制作線路和焊盤,。

顯示面板（LCD/OLED）：

? 用于制備彩色濾光片,、電極圖案等。

微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：

? 加工微結(jié)構(gòu)（如傳感器,、執(zhí)行器）,。

工作原理（以正性膠為例）

1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠，烘干形成薄膜,。

2. 曝光：通過掩膜版,，用特定波長光線照射，曝光區(qū)域的光敏劑分解,，使樹脂變得易溶于顯影液,。

3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域，留下未曝光的光刻膠圖案,，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層,。

4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域），或去除光刻膠（剝離工藝）,。

天津正性光刻膠報(bào)價(jià)吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠,。

國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,，計(jì)劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍,。

地方專項(xiàng)政策：湖北省對通過驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補(bǔ)貼+稅收減免,，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%,，光刻膠是重點(diǎn)突破方向,。

研發(fā)專項(xiàng)：科技部“雙十計(jì)劃”設(shè)立20億元經(jīng)費(fèi)，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,，并啟動(dòng)EUV光刻膠預(yù)研,。

市場與客戶優(yōu)勢：全球化布局與頭部客戶合作

全球客戶網(wǎng)絡(luò)

產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球，與三星、LG,、京東方等世界500強(qiáng)企業(yè)建立長期合作,，在東南亞、北美市場市占率超15%,。

區(qū)域市場深耕

依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,，與華為、OPPO等本土企業(yè)合作,，在消費(fèi)電子,、汽車電子領(lǐng)域快速響應(yīng)客戶需求,。

產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢：原材料與設(shè)備協(xié)同

主要原材料自主化

公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂,、光引發(fā)劑，降低對進(jìn)口依賴,，成本較國際競品低20%,。

設(shè)備與工藝協(xié)同

與國內(nèi)涂膠顯影設(shè)備廠商合作，開發(fā)適配國產(chǎn)設(shè)備的光刻膠配方,，提升工藝兼容性,。

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光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

半導(dǎo)體制造

? 功能：在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案,，作為蝕刻或離子注入的掩膜,。

? 分類：

? 正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，形成與掩膜版一致的圖案（主流,，分辨率高）,。

? 負(fù)性光刻膠：未曝光區(qū)域溶解，形成反向圖案（用于早期工藝,，耐蝕刻性強(qiáng)）,。

? 技術(shù)演進(jìn)：隨制程精度提升，需匹配不同曝光波長（紫外UV,、深紫外DUV,、極紫外EUV），例如EUV光刻膠用于7nm以下制程,。

平板顯示（LCD/OLED）

? 彩色濾光片（CF）：在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元,，光刻膠用于圖案化黑矩陣（BM）、彩色層（R/G/B）和保護(hù)層,。

? 電極圖案：制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極,，需高透光率和精細(xì)邊緣控制。

印刷電路板（PCB）

? 線路蝕刻：在覆銅板上涂膠,，曝光顯影后保留線路區(qū)域,，蝕刻去除未保護(hù)的銅箔，形成導(dǎo)電線路。

? 阻焊與字符層：阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,，防止短路,；字符膠用于印刷電路板標(biāo)識。

LED與功率器件

? 芯片制造：在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu),，需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠,。

? Micro-LED：微米級芯片轉(zhuǎn)移和陣列化，依賴超高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）,。

光刻膠的顯示面板領(lǐng)域,。杭州阻焊光刻膠國產(chǎn)廠家

告別顯影殘留！化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝,。湖北光刻膠國產(chǎn)廠家

上游原材料：

? 樹脂：彤程新材,、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb）,。

? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,，累計(jì)形成噸級訂單；威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線,。

? 溶劑：怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,，與南大光電合作開發(fā)配套溶劑，技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn),。

設(shè)備與驗(yàn)證：

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),，驗(yàn)證周期較國際廠商縮短6個(gè)月；徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,，適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī),。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個(gè)月的晶圓廠驗(yàn)證周期（如中芯國際、長江存儲）,，一旦導(dǎo)入不易被替代,。

湖北光刻膠國產(chǎn)廠家

標(biāo)簽：錫膏光刻膠錫片

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