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江蘇水油光刻膠工廠

來源: 發(fā)布時間:2025-05-23

吉田半導體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈:

  • 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際,、長江存儲,支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
  • 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%,,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
  • 新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認證,,批量應(yīng)用于寧德時代儲能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸,。
  • 研發(fā)投入:年研發(fā)費用占比超 15%,,承擔國家 02 專項課題,獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”,。
  • 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,,納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
  • 質(zhì)量體系:通過 ISO9001,、IATF 16949 等認證,,生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達 99.5%,。
吉田半導體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),,加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn),。同時,,深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,,為中國半導體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”,。
從突破國際壟斷到行業(yè)標準,吉田半導體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國半導體材料企業(yè)的崛起之路,。未來,,公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù),助力中國半導體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階,。
光刻膠技術(shù)突破加速,,對芯片制造行業(yè)有哪些影響?江蘇水油光刻膠工廠

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  1. 產(chǎn)品特點:耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,,耐印率高;固含量高,,流平性好,,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,,網(wǎng)版平滑,、無白點、無沙眼,、亮度高,;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用,;解像性,、高架橋性好,易做精細網(wǎng)點和線條,;感光度高,,曝光時間短,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間,,提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍:適用于塑料,、皮革,、標牌、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳、玻璃,、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿足皮革制品精細印刷需求,,制作各類標牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
常州制版光刻膠報價耐高溫光刻膠 JT-2000,,250℃環(huán)境穩(wěn)定運行,,圖形保真度超 95%,用于納米結(jié)構(gòu)制造,!

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作為東莞松山湖的企業(yè),,吉田半導體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達 98% 以上,,已通過中芯國際等晶圓廠驗證,;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,,適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過 ISO9001 認證及歐盟 RoHS 標準,,遠銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,,加速國產(chǎn)替代進程。

主要應(yīng)用場景

 印刷電路板(PCB):

? 通孔/線路加工:負性膠厚度可達20-50μm,,耐堿性蝕刻液(如氯化鐵,、堿性氯化銅),適合制作大尺寸線路(線寬/線距≥50μm),,如雙面板,、多層板的外層電路。

? 阻焊層:作為絕緣保護層,,覆蓋非焊盤區(qū)域,,需厚膠(50-100μm)和高耐焊接溫度(260℃以上),負性膠因工藝簡單,、成本低而廣泛應(yīng)用,。

 微機電系統(tǒng)(MEMS):

? 深硅蝕刻(DRIE):負性膠作為蝕刻掩膜,厚度可達100μm以上,,耐SF?等強腐蝕性氣體,,用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)(深寬比>20:1),。

? 模具制造:在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,,利用負性膠的厚膠成型能力。

 平板顯示(LCD):

? 彩色濾光片(CF)基板預(yù)處理:在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,,耐濕法蝕刻(如HF溶液),,確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布,。

 功率半導體與分立器件:

? IGBT、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻:負性膠用于制作較寬的隔離溝槽(寬度>10μm),,耐高濃度酸堿蝕刻,,降低工藝成本。
水性感光膠推薦吉田 JT-1200,,精細網(wǎng)點+易操作性!

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吉田半導體柯圖泰全系列感光膠:進口品牌品質(zhì),,本地化服務(wù)支持

柯圖泰全系列感光膠依托進口技術(shù),提供高性價比的絲網(wǎng)印刷解決方案,。
吉田半導體代理的柯圖泰全系列感光膠(如 PLUS 6000,、Autosol 2000),源自美國先進配方,,分辨率達 120 線 / 英寸,,適用于玻璃、陶瓷等多種基材,。產(chǎn)品通過 SGS 認證,,符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,其高感光度與耐摩擦性,,確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性,。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導等本地化服務(wù),,幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程,,降低材料損耗。
半導體芯片制造,,用于精細電路圖案光刻,,決定芯片性能與集成度。常州LCD光刻膠國產(chǎn)廠商

厚板光刻膠 JT-3001,,抗深蝕刻,,PCB 電路板制造Preferred!江蘇水油光刻膠工廠

廣東吉田半導體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。

在光刻膠領(lǐng)域,,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,,確保芯片線路的精細刻畫;

納米壓印光刻膠適用于微納加工,,助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu),;

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求,保障面板成像質(zhì)量,。

在電子焊接方面,,半導體錫膏與焊片性能,能實現(xiàn)可靠的電氣連接,,廣泛應(yīng)用于各類電子設(shè)備組裝,。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用,通過精細控制材料沉積,,為半導體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料,。憑借出色品質(zhì),遠銷全球,,深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 ,。 江蘇水油光刻膠工廠

標簽: 光刻膠 錫片