廣州納米壓印光刻膠國產(chǎn)廠家

來源：發(fā)布時(shí)間：2025-05-23

技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

全流程自主化能力

吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,，適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。

技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù),，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)。

細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示,、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,，分辨率達(dá)3μm，填補(bǔ)國內(nèi)空缺,。

? LCD光刻膠：針對(duì)顯示面板行業(yè)需求,，開發(fā)出高感光度、高對(duì)比度的光刻膠,，適配AMOLED,、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

研發(fā)投入與合作

公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,，計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。

吉田半導(dǎo)體：以技術(shù)革新驅(qū)動(dòng)光刻膠產(chǎn)業(yè)升級(jí),。廣州納米壓印光刻膠國產(chǎn)廠家

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè),，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程,。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢,，持續(xù)推出符合國際環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體材料解決方案,。

公司在錫膏,、焊片等產(chǎn)品中采用無鹵無鉛配方,，嚴(yán)格遵循 RoHS 指令要求,，避免使用有害物質(zhì),。以錫膏為例,，其零鹵素配方通過第三方機(jī)構(gòu)認(rèn)證，不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負(fù)擔(dān),，還提升了焊接可靠性，適用于新能源汽車,、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域,。同時(shí),，納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過程中,，公司通過優(yōu)化原料配比,，減少揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放,，確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī),。

吉林激光光刻膠國產(chǎn)廠商吉田半導(dǎo)體全流程解決方案,，賦能客戶提升生產(chǎn)效率。

原料準(zhǔn)備

? 主要成分：樹脂（成膜劑,，如酚醛樹脂,、聚酰亞胺等）、感光劑（光引發(fā)劑或光敏化合物,，如重氮萘醌,、光刻膠單體）、溶劑（溶解成分,，如丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA））,、添加劑（調(diào)節(jié)粘度、感光度,、穩(wěn)定性等,，如表面活性劑、穩(wěn)定劑）,。

? 原料提純：對(duì)樹脂,、感光劑等進(jìn)行高純度精制（純度通常要求99.9%以上）,，避免雜質(zhì)影響光刻精度,。

配料與混合

? 按配方比例精確稱量各組分,，在潔凈環(huán)境,，如萬中通過攪拌機(jī)均勻混合，形成膠狀溶液,。

? 控制溫度（通常20-30℃）和攪拌速度，避免氣泡產(chǎn)生或成分分解,。

過濾與純化

? 使用納米級(jí)濾膜（孔徑0.05-0.2μm）過濾,，去除顆粒雜質(zhì)（如金屬離子,、灰塵），確保膠液潔凈度,，避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷。

性能檢測

? 物理指標(biāo)：粘度,、固含量、表面張力,、分子量分布等，影響涂布均勻性,。

? 化學(xué)指標(biāo)：感光度,、分辨率、對(duì)比度,、耐蝕刻性，通過曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測試驗(yàn)證,。

? 可靠性：存儲(chǔ)穩(wěn)定性（常溫/低溫保存下的性能變化）,、耐溫性（烘烤過程中的抗降解能力）。

包裝與儲(chǔ)存

? 在惰性氣體（如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器（如棕色玻璃瓶或鋁罐）,，防止感光劑氧化或光分解,。

? 儲(chǔ)存條件：低溫（5-10℃）,、避光,、干燥,，部分產(chǎn)品需零下環(huán)境（如EUV光刻膠）,。

吉田半導(dǎo)體水性感光膠 JT-1200：水油兼容，鋼片加工精度 ±5μm

JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題,，提升汽車電子部件制造精度,。
針對(duì)汽車電子鋼片加工需求，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實(shí)現(xiàn)水油兼容性達(dá) 100%,，加工精度 ±5μm,。其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性，確保復(fù)雜結(jié)構(gòu)的長期可靠性,。其涂布性能優(yōu)良,，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)，適用于安全氣囊傳感器,、車載攝像頭模組等精密部件,。產(chǎn)品通過 IATF 16949 汽車行業(yè)認(rèn)證,，生產(chǎn)過程嚴(yán)格控制金屬離子含量,，確保電子產(chǎn)品可靠性。

產(chǎn)業(yè)鏈配套：原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展,。

先進(jìn)制程瓶頸突破

KrF/ArF光刻膠的量產(chǎn)能力提升直接推動(dòng)7nm及以下制程的國產(chǎn)化進(jìn)程,。例如，恒坤新材的KrF光刻膠已批量供應(yīng)12英寸產(chǎn)線,，覆蓋7nm工藝,，其工藝寬容度較日本同類型產(chǎn)品提升30%。這使得國內(nèi)晶圓廠（如中芯國際）在DUV多重曝光技術(shù)下,，能夠以更低成本實(shí)現(xiàn)接近EUV的制程效果,，緩解了EUV光刻機(jī)禁運(yùn)的壓力。此外,，武漢太紫微的T150A光刻膠通過120nm分辨率驗(yàn)證,，為28nm成熟制程的成本優(yōu)化提供了新方案。

EUV光刻膠研發(fā)加速

盡管EUV光刻膠目前完全依賴進(jìn)口,，但國內(nèi)企業(yè)已啟動(dòng)關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān),。久日新材的光致產(chǎn)酸劑實(shí)現(xiàn)噸級(jí)訂單,，科技部“十四五”專項(xiàng)計(jì)劃投入20億元支持EUV光刻膠研發(fā)。華中科技大學(xué)團(tuán)隊(duì)開發(fā)的“雙非離子型光酸協(xié)同增強(qiáng)響應(yīng)”技術(shù),，將EUV光刻膠的靈敏度提升至0.5mJ/cm2,，較傳統(tǒng)材料降低20倍曝光劑量。這些突破為未來3nm以下制程的技術(shù)儲(chǔ)備奠定基礎(chǔ),。

新型光刻技術(shù)融合

復(fù)旦大學(xué)團(tuán)隊(duì)開發(fā)的功能型光刻膠,，在全畫幅尺寸芯片上集成2700萬個(gè)有機(jī)晶體管，實(shí)現(xiàn)特大規(guī)模集成（ULSI）水平,。這種技術(shù)突破不僅拓展了光刻膠在柔性電子,、可穿戴設(shè)備等新興領(lǐng)域的應(yīng)用，還為碳基芯片,、量子計(jì)算等顛覆性技術(shù)提供了材料支撐,。

光刻膠技術(shù)突破加速，對(duì)芯片制造行業(yè)有哪些影響,？云南PCB光刻膠生產(chǎn)廠家

正性光刻膠的工藝和應(yīng)用場景,。廣州納米壓印光刻膠國產(chǎn)廠家

納米壓印光刻膠

微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時(shí),，納米壓印光刻膠可實(shí)現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制,。通過納米壓印技術(shù)，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,，再經(jīng)過后續(xù)處理,，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件，應(yīng)用于光通信,、光學(xué)成像等領(lǐng)域,。

生物芯片制造：在 DNA 芯片、蛋白質(zhì)芯片等生物芯片的制造中,，需要在芯片表面構(gòu)建高精度的微納結(jié)構(gòu),，用于生物分子的固定和檢測。納米壓印光刻膠可幫助實(shí)現(xiàn)這些精細(xì)結(jié)構(gòu)的制作,，提高生物芯片的檢測靈敏度和準(zhǔn)確性,。

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標(biāo)簽：光刻膠錫片

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