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進(jìn)口光刻膠生產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-05-24

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應(yīng)鏈,,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,,躋身國內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體,,實(shí)現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代,。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列,。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī),、電視等顯示終端,,年供貨量超 200 噸。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系,,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,,推動 LCD 面板材料國產(chǎn)化進(jìn)程。

光刻膠是有什么東西,?進(jìn)口光刻膠生產(chǎn)廠家

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公司嚴(yán)格執(zhí)行 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系與 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn),,通過工藝革新與設(shè)備升級實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程的低污染、低能耗,。注塑廢氣,、噴涂廢氣經(jīng)多級凈化處理后達(dá)標(biāo)排放,生活污水經(jīng)預(yù)處理后納入市政管網(wǎng),,冷卻水循環(huán)利用率達(dá) 100%,。危險廢物(如廢機(jī)油、含油抹布)均委托專業(yè)機(jī)構(gòu)安全處置,,一般工業(yè)固廢(如邊角料,、廢包裝材料)則通過回收或再生利用實(shí)現(xiàn)資源循環(huán)。

公司持續(xù)研發(fā)環(huán)保型材料,,例如開發(fā)水性感光膠替代傳統(tǒng)油性產(chǎn)品,,降低有機(jī)溶劑使用量;優(yōu)化錫膏助焊劑配方,,減少焊接過程中的煙霧與異味,。此外,,其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù),在提升焊接效率的同時降低能源消耗,。通過與科研機(jī)構(gòu)合作,公司還在探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用,,為行業(yè)低碳發(fā)展提供新路徑,。
江蘇進(jìn)口光刻膠報價光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用。

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厚板光刻膠

  • 電路板制造:在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時,,厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性,,比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,,能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流,、高電壓等工況。
  • 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類功率器件,,需要承受高電壓和大電流,,厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié),保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局,,提高器件的性能和可靠性,。


負(fù)性光刻膠

  • 半導(dǎo)體制造:在芯片制造過程中,用于制作一些對精度要求高,、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),,如芯片的金屬互連層、接觸孔等,。通過負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝,,能實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,確保芯片各部分之間的電氣連接正常,。
  • 平板顯示制造:在液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)的制造中,,用于制作電極、像素等大面積圖案,。以 LCD 為例,,負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,控制液晶分子的排列,,從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示,。


廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,如一些特殊的電路板制造,。

SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),。重量為 100g,常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求,。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,。重量 100g,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,,如一些半導(dǎo)體器件的制造,。 PCB廠商必看!這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%,。

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 吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000:國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限

自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,,為國產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹脂,,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%,。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,,適用于光學(xué)元件,、傳感器等精密器件。產(chǎn)品已通過國內(nèi)科研機(jī)構(gòu)驗(yàn)證,,應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,,幫助客戶實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化。
光刻膠國產(chǎn)替代的主要難點(diǎn)有哪些,?中山阻焊光刻膠廠家

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定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后,,曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形,。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,,其優(yōu)勢是分辨率高,、圖案邊緣清晰,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇,。

化學(xué)組成與工作原理

 主要成分

? 樹脂(成膜劑):

? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),占比約80%-90%,。

? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物,,搭配光酸發(fā)生器(PAG),通過酸催化反應(yīng)提高感光度和分辨率,。

? 溶劑:溶解樹脂和感光劑,常用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或乳酸乙酯,。

? 添加劑:表面活性劑(改善涂布均勻性),、穩(wěn)定劑(防止暗反應(yīng))、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等,。

 工作原理

? 曝光前:光敏劑(如DNQ)與樹脂結(jié)合,,形成不溶于堿性顯影液的復(fù)合物。

? 曝光時:

? 傳統(tǒng)PAC體系:DNQ在紫外光(G線436nm,、I線365nm)照射下發(fā)生光分解,,生成羧酸,使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強(qiáng),。

? 化學(xué)增幅型:PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸,,催化樹脂發(fā)生脫保護(hù)反應(yīng),大幅提高顯影速率(靈敏度提升10倍以上),。

? 顯影后:曝光區(qū)域溶解去除,,未曝光區(qū)域保留,形成正性圖案,。
進(jìn)口光刻膠生產(chǎn)廠家

標(biāo)簽: 錫膏 錫片 光刻膠