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廣西油性光刻膠國產廠家

來源： 發(fā)布時間：2025-05-26

公司遵循國際質量管理標準,，通過 ISO9001:2008 認證,，并在生產過程中執(zhí)行 8S 現場管理，從原料入庫到成品出庫實現全流程監(jiān)控,。以錫膏產品為例,，其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求，同時具備低飛濺、高潤濕性等特點,，適用于電子產品組裝,。此外，公司建立了行業(yè)標準化實驗室,，配備先進檢測設備,，確保產品性能達到國際同類水平。

憑借多年研發(fā)積累,，公司形成了覆蓋光刻膠,、焊接材料、電子膠等領域的豐富產品線,。在焊接材料方面,，不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產品，滿足精密電子組裝的多樣化需求,。同時，感光膠系列產品分為水性與油性兩類,，兼具耐潮性與易操作性,，廣泛應用于印刷電路板制造。
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定義與特性

負性光刻膠是一種在曝光后,，未曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料,，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比,，其主要特點是耐蝕刻性強,、工藝簡單、成本低,，但分辨率較低（通?！?μm），主要應用于對精度要求相對較低,、需要厚膠或高耐腐蝕性的場景,。

化學組成與工作原理

 主要成分

 基體樹脂：

? 早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯,，提供膠膜的機械強度和耐蝕刻性,。

 光敏劑：

? 主要為雙疊氮化合物（如雙疊氮芪）或重氮醌類衍生物，占比約5%-10%，吸收紫外光后引發(fā)交聯反應,。

 交聯劑：

? 如六亞甲基四胺（烏洛托品）,，在曝光后與樹脂發(fā)生交聯，形成不溶性網狀結構,。

 溶劑：

? 多為有機溶劑（如二甲苯,、環(huán)己酮），溶解樹脂和光敏劑,，涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜,。

 工作原理

 曝光前：光敏劑和交聯劑均勻分散在樹脂中，膠膜可溶于顯影液（有機溶劑）,。

 曝光時：

? 光敏劑吸收紫外光（G線436nm為主）后產生活性自由基,，引發(fā)交聯劑與樹脂分子間的共價鍵交聯，使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網狀結構,。

 顯影后：

? 未曝光區(qū)域的樹脂因未交聯,，被顯影液溶解去除，曝光區(qū)域保留,，形成負性圖案（與掩膜版相反）,。
湖北進口光刻膠耗材吉田半導體：以技術革新驅動光刻膠產業(yè)升級。

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依托自主研發(fā)與國產供應鏈,，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%,，躋身國內前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體,，實現 100% 國產化替代,。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm,，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列,。通過與國內多家大型企業(yè)的深度合作，產品覆蓋智能手機,、電視等顯示終端,，年供貨量超 200 噸。公司建立國產原材料溯源體系,，確保每批次產品穩(wěn)定性,，推動 LCD 面板材料國產化進程。

吉田半導體突破光刻膠共性難題,，提升行業(yè)生產效率,，通過優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問題,，助力客戶降本增效,。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴重等問題,，吉田半導體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產品高 8%,，密集圖形側壁垂直度達標率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯技術,，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導體的損傷,，使芯片良率提升至 99.8%。這些技術突破有效降低客戶生產成本,，推動行業(yè)生產效率提升,。無鹵無鉛錫育廠家吉田，RoHS 認證,，為新能源領域提供服務!

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應用場景

 半導體集成電路（IC）制造：

? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中,，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細圖案化（如10nm節(jié)點線寬只有100nm）,。

? 存儲芯片（DRAM/NAND）：3D堆疊結構中,，正性膠用于層間接觸孔（Contact）和柵極（Gate）的高深寬比圖形（深寬比＞10:1）。

 平板顯示（LCD/OLED）：

? 彩色濾光片（CF）：制作黑矩陣（BM）和彩色層（R/G/B）,，要求高透光率和邊緣銳利度（線寬5-10μm）,。

? OLED電極：在柔性基板上形成微米級透明電極，需低應力膠膜防止基板彎曲變形,。

 印刷電路板（PCB）：

? 高密度互連（HDI）：用于細線路（線寬/線距≤50μm）,，如智能手機主板，相比負性膠,，正性膠可實現更精細的線路邊緣。

 微納加工與科研：

? MEMS傳感器：制作微米級懸臂梁,、齒輪等結構,，需耐干法蝕刻的正性膠（如含硅樹脂膠）。

? 納米光刻：電子束光刻膠（正性為主）用于研發(fā)級納米圖案（分辨率＜10nm）,。
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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封,，使用前要閱讀參考技術資料,。適用于厚板的光刻加工，在對精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產場景中發(fā)揮作用,，如特定的電路板制造領域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學儀器,、太陽能電池等領域的光刻工藝,。品質保障、性能穩(wěn)定的特點,，由工廠研發(fā)且支持定制,，工廠直銷。 廣西油性光刻膠國產廠家

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