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青島LCD光刻膠品牌

來源： 發(fā)布時間：2025-05-27

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準,，保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造,。

負性光刻膠

  • SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng)，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。


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  • LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力，重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果。
  • 半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
青島LCD光刻膠品牌,光刻膠

關(guān)鍵工藝流程

 涂布：

? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠,，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整）,，需均勻無氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）。

 前烘（Soft Bake）：

? 加熱（80-120℃）去除溶劑,，固化膠膜,，增強附著力（避免顯影時邊緣剝離）,。

 曝光：

? 光源匹配：

? G/I線膠：汞燈（適用于≥1μm線寬，如PCB,、LCD）,。

? DUV膠（248nm/193nm）：KrF/ArF準分子激光（用于28nm-14nm制程，如存儲芯片）,。

? EUV膠（13.5nm）：極紫外光源（用于7nm以下制程,，需控制納米級缺陷）。

? 曝光能量：需精確控制（如ArF膠約50mJ/cm2）,，避免過曝或欠曝導(dǎo)致圖案失真,。

 顯影：

? 采用堿性溶液（如0.262N四甲基氫氧化銨，TMAH）,，曝光區(qū)域膠膜溶解,，未曝光區(qū)域保留，形成三維立體圖案,。

 后烘（Post-Exposure Bake, PEB）：

? 化學(xué)增幅型膠需此步驟,，通過加熱（90-130℃）激發(fā)光酸催化反應(yīng)，提高分辨率和耐蝕刻性,。
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青島LCD光刻膠品牌,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年,，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,，如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應(yīng),。重量為 100g,，常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率，準確性和穩(wěn)定性好,。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,，能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求,。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強酸強堿，耐高溫達 250°C,，長期可靠性高,，粘接強度高。重量 100g,，適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝,，如一些半導(dǎo)體器件的制造。

對比國際巨頭的差異化競爭力
維度 吉田光刻膠 國際巨頭（如JSR,、東京應(yīng)化） 
技術(shù)定位 聚焦細分市場（如納米壓印,、LCD） 主導(dǎo)高級半導(dǎo)體光刻膠（ArF,、EUV） 
成本優(yōu)勢 原材料自主化率超80%,，成本低20% 依賴進口原材料，成本高 
客戶響應(yīng) 48小時內(nèi)提供定制化解決方案 認證周期長（2-3年） 
區(qū)域市場 東南亞,、北美市占率超15% 全球市占率超60% 

風(fēng)險與挑戰(zhàn)

 前段技術(shù)瓶頸：ArF,、EUV光刻膠仍依賴進口，研發(fā)投入不足國際巨頭的1/10,。

 客戶認證周期：半導(dǎo)體光刻膠需2-3年驗證,，吉田尚未進入主流晶圓廠供應(yīng)鏈。

 供應(yīng)鏈風(fēng)險：部分樹脂（如ArF用含氟樹脂）依賴日本住友電木,。
吉田半導(dǎo)體光刻膠,，45nm 制程驗證，國產(chǎn)替代方案,！

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光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料,，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

 半導(dǎo)體制造

? 功能：在晶圓表面形成微細電路圖案，作為蝕刻或離子注入的掩膜,。

? 分類：

? 正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液,，形成與掩膜版一致的圖案（主流，分辨率高）,。

? 負性光刻膠：未曝光區(qū)域溶解,，形成反向圖案（用于早期工藝，耐蝕刻性強）,。

? 技術(shù)演進：隨制程精度提升,，需匹配不同曝光波長（紫外UV、深紫外DUV,、極紫外EUV）,，例如EUV光刻膠用于7nm以下制程。

 平板顯示（LCD/OLED）

? 彩色濾光片（CF）：在玻璃基板上制作紅/綠/藍像素單元,，光刻膠用于圖案化黑矩陣（BM）,、彩色層（R/G/B）和保護層,。

? 電極圖案：制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極，需高透光率和精細邊緣控制,。

 印刷電路板（PCB）

? 線路蝕刻：在覆銅板上涂膠,，曝光顯影后保留線路區(qū)域，蝕刻去除未保護的銅箔,，形成導(dǎo)電線路,。

? 阻焊與字符層：阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域，防止短路,；字符膠用于印刷電路板標識,。

 LED與功率器件

? 芯片制造：在藍寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu)，需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠,。

? Micro-LED：微米級芯片轉(zhuǎn)移和陣列化,，依賴超高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）。

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吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠,。青島LCD光刻膠品牌

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001,，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,，符合歐盟 ROHS 標準,，保質(zhì)期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308,，容量 5L,；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應(yīng),，重量 100g,；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,，分辨率高,，準確性和穩(wěn)定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,，耐強酸強堿,，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高,，重量 100g,；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力，重量 100g,；

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,，具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L,。 青島LCD光刻膠品牌

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