? 化學(xué)反應(yīng):
? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,,在堿性顯影液中溶解,;
? 負(fù)性膠:曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
5. 顯影(Development)
? 顯影液:
? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),,溶解曝光區(qū)域,;
? 負(fù)性膠:有機(jī)溶劑(如二甲苯、醋酸丁酯),,溶解未曝光區(qū)域,。
? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導(dǎo)體),時(shí)間30秒-2分鐘,需控制顯影液濃度和溫度,。
6. 后烘(Post-Bake)
? 目的:固化膠膜,,提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性。
? 條件:
? 溫度:100-150℃(半導(dǎo)體用正性膠可能更高,,如180℃),;
? 時(shí)間:15-60分鐘(厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長)。
7. 蝕刻/離子注入(后續(xù)工藝)
? 蝕刻:以膠膜為掩膜,,通過濕法(酸堿溶液)或干法(等離子體)刻蝕基板材料(如硅,、金屬、玻璃),;
? 離子注入:膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域,,使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域(半導(dǎo)體摻雜工藝)。
8. 去膠(Strip)
? 方法:
? 濕法去膠:強(qiáng)氧化劑(如硫酸+雙氧水)或有機(jī)溶劑(如N-甲基吡咯烷酮NMP),;
? 干法去膠:氧等離子體灰化(半導(dǎo)體領(lǐng)域,,無殘留)。
吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力,。廈門光刻膠國產(chǎn)廠家
“設(shè)備-材料-工藝”閉環(huán)驗(yàn)證
吉田半導(dǎo)體與中芯國際,、華虹半導(dǎo)體等晶圓廠建立了聯(lián)合研發(fā)機(jī)制,針對(duì)28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠,,例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產(chǎn)線驗(yàn)證,,良率達(dá)95%以上。此外,,公司參與國家重大專項(xiàng)(如02專項(xiàng)),,與中科院微電子所合作開發(fā)EUV光刻膠基礎(chǔ)材料,雖未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),,但在酸擴(kuò)散控制和靈敏度優(yōu)化方面取得階段性突破,。
政策支持與成本優(yōu)勢(shì)
作為廣東省專精特新企業(yè),吉田半導(dǎo)體享受稅收優(yōu)惠(如15%企業(yè)所得稅)和研發(fā)補(bǔ)貼(2023年獲得國家補(bǔ)助超2000萬元),,比較明顯降低產(chǎn)品研發(fā)成本,。同時(shí),其本地化生產(chǎn)(東莞松山湖基地)可將物流成本壓縮至進(jìn)口產(chǎn)品的1/3,,并實(shí)現(xiàn)48小時(shí)緊急訂單響應(yīng),,這對(duì)中小客戶具有吸引力。
重慶正性光刻膠國產(chǎn)廠家光刻膠新興及擴(kuò)展應(yīng)用,。
作為東莞松山湖的企業(yè),,吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,良率達(dá) 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證,;JT-2000 突破耐高溫極限,,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進(jìn)口原材料與全自動(dòng)化生產(chǎn)工藝,,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程,。
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產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,,耐印率高,;固含量高,流平性好,,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑,、無白點(diǎn),、無沙眼、亮度高,;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用,;解像性,、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,;感光度高,,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,,提高工作效率 。
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應(yīng)用范圍:適用于塑料,、皮革,、標(biāo)牌、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。
吉田半導(dǎo)體公司基本概況。
在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀,,已成為國內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性,、負(fù)性,、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠,,廣泛應(yīng)用于芯片制造,、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域,。
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技術(shù):自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率(如 JT-3001 厚板光刻膠),、高感光度(如 JT-1000 負(fù)性光刻膠)及抗深蝕刻性能,部分指標(biāo)達(dá)到水平,。
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嚴(yán)苛品控:生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系,,材料進(jìn)口率 100%,并通過 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理確保制程穩(wěn)定性,。
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定制化服務(wù):支持客戶需求定制,,例如為特殊工藝開發(fā)光刻膠,滿足多樣化場(chǎng)景需求,。
公司位于松山湖開發(fā)區(qū),,依托產(chǎn)業(yè)園區(qū)資源,持續(xù)加大研發(fā),,與科研機(jī)構(gòu)合作推動(dòng)技術(shù)升級(jí),。目前,吉田半導(dǎo)體已服務(wù)全球數(shù)千家客戶,,以 “匠心品質(zhì),、售后無憂” 的理念贏得市場(chǎng)口碑。
吉田半導(dǎo)體光刻膠,,45nm 制程驗(yàn)證,,國產(chǎn)替代方案!河北低溫光刻膠多少錢
松山湖光刻膠廠家吉田,23 年經(jīng)驗(yàn) + 全自動(dòng)化產(chǎn)線,,支持納米壓印光刻膠定制,!廈門光刻膠國產(chǎn)廠家
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:
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芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲(chǔ),,支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
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顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
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新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證,,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸,。
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研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,,承擔(dān)國家 02 專項(xiàng)課題,獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”,。
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產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。
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質(zhì)量體系:通過 ISO9001,、IATF 16949 等認(rèn)證,,生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),,加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn),。同時(shí),,深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,,為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”,。
從突破國際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,,走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來,公司將以更具競(jìng)爭力的產(chǎn)品與技術(shù),,助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階。
廈門光刻膠國產(chǎn)廠家