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陜西厚膜光刻膠品牌

來源： 發(fā)布時間：2025-05-28

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工,，在對精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域,。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器,、太陽能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點,，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷,。 吉田產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同與政策紅利,。陜西厚膜光刻膠品牌

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LCD顯示

? 彩色濾光片（CF）：

? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm,，透光率<0.1%,。

? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性,。

? 陣列基板（Array）：

? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化,，分辨率≤3μm。

 OLED顯示（柔性/剛性）

? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),，線寬精度±1μm,，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）。

? 觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)透明導(dǎo)電線路，線寬≤5μm,。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列,，良率要求>99.99%。
低溫光刻膠價格水性感光膠推薦吉田 JT-1200,，水油兼容配方,，鋼片加工精度 ±5μm！

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 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟
公司采用水性光刻膠技術(shù),，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時,，其光刻膠廢液回收項目已投產(chǎn),，通過膜分離+精餾技術(shù)實現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機物）超100噸,。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,，部分產(chǎn)品采用可再生原料（如植物基丙烯酸酯），碳排放強度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,，相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。

吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠：國產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝

自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,，成為 5G 芯片高密度封裝材料,。
針對 5G 芯片封裝需求，吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠,，分辨率達(dá) 1.5μm,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性,，已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn),。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝，不采用國外材料,，成本較進口產(chǎn)品降低 40%,，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐,。
正性光刻膠生產(chǎn)廠家,。

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 光伏電池（半導(dǎo)體級延伸）
? HJT/TOPCon電池：在硅片表面圖形化金屬電極，使用高靈敏度光刻膠（曝光能量≤50mJ/cm2）,，線寬≤20μm,，降低遮光損失。

? 鈣鈦礦電池：用于電極圖案化和層間隔離,，需耐有機溶劑（適應(yīng)溶液涂布工藝）,。

 納米壓印技術(shù)（下一代光刻）

? 納米壓印光刻膠：通過模具壓印實現(xiàn)10nm級分辨率，用于3D NAND存儲孔陣列（直徑≤20nm）、量子點顯示陣列等,。

 微流控與生物醫(yī)療

? 微流控芯片：制造微米級流道（寬度10-100μm）,，材料需生物相容性（如PDMS基材適配）。

? 生物檢測芯片：通過光刻膠圖案化抗體/抗原固定位點,，精度≤5μm,。
吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。北京進口光刻膠感光膠

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國家大基金三期：注冊資本3440億元,，明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域，計劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā),，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。

地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免,，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單,；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%，光刻膠是重點突破方向,。

研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費,，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%，并啟動EUV光刻膠預(yù)研,。
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標(biāo)簽： 光刻膠 錫片