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甘肅阻焊光刻膠

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-30

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,,國產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展

自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗(yàn)證,,吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國內(nèi)光刻膠空白。
吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠,,分辨率達(dá) 90nm,,適用于 14nm 及以上制程,,已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方,,突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷,。其光酸產(chǎn)率提升 30%,蝕刻選擇比達(dá) 4:1,,性能對標(biāo)日本信越的 ArF 系列,。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進(jìn)程,為國內(nèi)晶圓廠提供高性價(jià)比解決方案,。
感光膠的工藝和應(yīng)用,。甘肅阻焊光刻膠

甘肅阻焊光刻膠,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領(lǐng)域,。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點(diǎn),,重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果,。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。 廣東激光光刻膠工廠負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家,。

甘肅阻焊光刻膠,光刻膠

光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,,具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年;

水油光刻膠 SR - 3308,,容量 5L,;SU - 3 負(fù)性光刻膠,分辨率優(yōu)異,對比度良好,,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g,;

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,,分辨率高,,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,,重量 100g;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,,具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,,重量 100g,;

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,;

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,,重量 1L。

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),,構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,,推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈,。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。例如,與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,極限分辨率 120nm,,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,,已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動(dòng)能,。松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!

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技術(shù)優(yōu)勢:23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化,。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,,實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,,適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),,掌握光刻膠主要原材料(如樹脂、光酸)的合成技術(shù),,部分原材料純度達(dá)PPT級(jí),。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠:在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域(如量子點(diǎn)顯示、生物芯片)實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,,分辨率達(dá)3μm,,填補(bǔ)國內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠:針對顯示面板行業(yè)需求,,開發(fā)出高感光度,、高對比度的光刻膠,適配AMOLED,、Micro LED等新型顯示技術(shù),。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,,計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。
半導(dǎo)體芯片制造,用于精細(xì)電路圖案光刻,,決定芯片性能與集成度,。深圳網(wǎng)版光刻膠價(jià)格

吉田市場定位與未來布局。甘肅阻焊光刻膠

  1. 產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,,耐印率高;固含量高,,流平性好,,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑,、無白點(diǎn),、無沙眼、亮度高,;剝膜性好,,網(wǎng)版可再生使用;解像性,、高架橋性好,,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,;感光度高,,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,,提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍:適用于塑料,、皮革,、標(biāo)牌、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
甘肅阻焊光刻膠

標(biāo)簽: 錫片 光刻膠