青島正性光刻膠感光膠

來源：發(fā)布時間：2025-05-31

公司嚴格執(zhí)行 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系與 8S 現(xiàn)場管理標準,，通過工藝革新與設(shè)備升級實現(xiàn)生產(chǎn)過程的低污染,、低能耗。注塑廢氣,、噴涂廢氣經(jīng)多級凈化處理后達標排放,，生活污水經(jīng)預(yù)處理后納入市政管網(wǎng)，冷卻水循環(huán)利用率達 100%,。危險廢物（如廢機油,、含油抹布）均委托專業(yè)機構(gòu)安全處置，一般工業(yè)固廢（如邊角料,、廢包裝材料）則通過回收或再生利用實現(xiàn)資源循環(huán),。

公司持續(xù)研發(fā)環(huán)保型材料，例如開發(fā)水性感光膠替代傳統(tǒng)油性產(chǎn)品,，降低有機溶劑使用量,；優(yōu)化錫膏助焊劑配方,，減少焊接過程中的煙霧與異味。此外,，其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù),，在提升焊接效率的同時降低能源消耗。通過與科研機構(gòu)合作,，公司還在探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用,，為行業(yè)低碳發(fā)展提供新路徑。

聚焦封裝需求,，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),。青島正性光刻膠感光膠

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認證，PCB 電路板制造

憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料,。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達 1.5μm,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認證,，采用無鹵無鉛配方,，符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率,，確保復(fù)雜線路圖形的成型,，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,，助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率,。

湖北正性光刻膠多少錢吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠。

關(guān)鍵工藝流程

涂布與前烘：

? 旋涂或噴涂負性膠,，厚度可達1-100μm（遠厚于正性膠）,，前烘溫度60-90℃，去除溶劑并增強附著力,。

曝光：

? 光源以**汞燈G線（436nm）**為主,，適用于≥1μm線寬，曝光能量較高（約200-500mJ/cm2）,，需注意掩膜版與膠膜的貼合精度,。

顯影：

? 使用有機溶劑顯影液（如二甲苯、醋酸丁酯）,，未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解,，曝光的交聯(lián)膠膜保留。

后處理：

? 后烘（Post-Bake）：加熱（100-150℃）進一步固化交聯(lián)結(jié)構(gòu),，提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域,。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力的特點,，重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果,。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L,，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝中,，比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年專注研發(fā),，全系列產(chǎn)品覆蓋芯片制造與 LCD 面板,！

國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域,，計劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā),，相當于前兩期投入總和的3倍,。

地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單,；福建省提出2030年化工新材料自給率達90%,，光刻膠是重點突破方向。

研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費,，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,，并啟動EUV光刻膠預(yù)研。

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感光膠的工藝和應(yīng)用。青島正性光刻膠感光膠

全品類覆蓋與定制化能力

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠等全品類,，適用于半導(dǎo)體、顯示面板,、MEMS等多個領(lǐng)域,。例如，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求,，支持客戶定制化工藝參數(shù),，尤其在柔性顯示（OLED）和Mini/Micro LED等新興領(lǐng)域表現(xiàn)突出。

技術(shù)亮點：通過自主研發(fā)的樹脂配方和光敏劑體系,，實現(xiàn)了高分辨率（120nm）和高抗蝕性的平衡,，部分指標（如線寬粗糙度LWR<3nm）接近國際主流產(chǎn)品水平。

國產(chǎn)化材料與工藝適配

公司采用進口原材料+本地化生產(chǎn)模式,，關(guān)鍵樹脂單體,、光敏劑等主要成分通過德國默克、日本信越等供應(yīng)商采購,，同時建立了超純提純工藝（雜質(zhì)含量<1ppm）,，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。此外,，其光刻膠與國內(nèi)主流光刻機（如上海微電子SSA800）,、勻膠顯影機（如盛美上海）的兼容性已通過驗證，縮短客戶工藝調(diào)試周期,。

青島正性光刻膠感光膠

標簽：光刻膠錫片

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