以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動,，吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā)，搶占行業(yè)制高點,。布局下一代光刻技術(shù),。
面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，吉田半導體與中科院合作開發(fā)化學放大型 EUV 光刻膠,，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標上取得階段性進展,。同時，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),，對標日本王子控股技術(shù),，探索生物基材料在半導體封裝中的應用。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,，助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位,。吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破,！成都PCB光刻膠報價

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001,，具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準,，保質(zhì)期 1 年,；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L,；SU - 3 負性光刻膠,，分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應，重量 100g,；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好,；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C,，長期可靠性高,，粘接強度高，重量 100g,；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力，重量 100g,；

半導體正性光刻膠 YK - 300,，具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L,。

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造。

負性光刻膠

• SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應,，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領(lǐng)域,。

正性光刻膠 光刻膠半導體領(lǐng)域的應用,。北京激光光刻膠價格

• LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果,。
• 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導體制造工藝,，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

光刻膠新興及擴展應用。成都PCB光刻膠報價

吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,，國產(chǎn)替代再迎新進展