以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動,,吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),,搶占行業(yè)制高點。布局下一代光刻技術(shù),。
面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),,吉田半導體與中科院合作開發(fā)化學放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm2)和耐蝕性(>80%)指標上取得階段性進展,。同時,,公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),對標日本王子控股技術(shù),,探索生物基材料在半導體封裝中的應用,。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位,。半導體材料方案選吉田,,歐盟 REACH 合規(guī),24 小時技術(shù)支持!寧波高溫光刻膠感光膠
? 正性光刻膠
? YK-300:適用于半導體制造,,具備高分辨率(線寬≤10μm),、耐高溫(250℃)、耐酸堿腐蝕特性,,主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,,適配UV光源(365nm/405nm)。
? 技術(shù)優(yōu)勢:采用進口樹脂及光引發(fā)劑,,絕緣阻抗高(>10^14Ω),,滿足半導體器件對絕緣性的嚴苛要求。
? 負性光刻膠
? JT-1000:負性膠,,主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,,分辨率達3μm,適用于功率半導體,、MEMS器件制造,,可承受氫氟酸(HF)、磷酸(H3PO4)等強腐蝕液處理,。
? SU-3:經(jīng)濟型負性膠,,性價比高,適用于分立器件及低端邏輯芯片,,光源適應性廣(248nm-436nm),,曝光靈敏度≤200mJ/cm2。
2. 顯示面板光刻膠
? LCD正性光刻膠YK-200:專為TFT-LCD制程設計,,具備高涂布均勻性(膜厚誤差±1%),、良好的基板附著力,用于彩色濾光片(CF)和陣列基板(Array)制造,,支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn),。
? 水性感光膠JT-1200:環(huán)保型產(chǎn)品,VOC含量<50g/L,,符合歐盟RoHS標準,,適用于柔性顯示基板,可制作20μm以下精細網(wǎng)點,,主要供應京東方,、TCL等面板廠商。
武漢激光光刻膠報價吉田半導體公司基本概況,。
光刻膠系列:
厚板光刻膠 JT - 3001,,具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,,符合歐盟 ROHS 標準,,保質(zhì)期 1 年,;
水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L,;SU - 3 負性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,對比度良好,,曝光靈敏度高,,光源適應,重量 100g,;
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,,準確性和穩(wěn)定性好,;
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強酸強堿,,耐高溫達 250°C,,長期可靠性高,粘接強度高,,重量 100g,;
LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,,重量 100g,;
半導體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,;
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,,重量 1L。
人才與生態(tài):跨學科團隊的“青黃不接”
前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺
光刻膠研發(fā)需材料化學,、半導體工藝,、分析檢測等多領域。國內(nèi)高校相關專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè),,且缺乏具有10年以上經(jīng)驗的工程師,。日本企業(yè)通過“技術(shù)導師制”培養(yǎng)人才,而國內(nèi)企業(yè)多依賴“挖角”,,導致技術(shù)傳承斷裂,。
產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同的“孤島效應”
光刻膠研發(fā)需與晶圓廠,、設備商、檢測機構(gòu)深度協(xié)同,。國內(nèi)企業(yè)因信息不對稱,,常出現(xiàn)“材料性能與工藝需求不匹配”問題。例如,,某國產(chǎn)KrF光刻膠因未考慮客戶產(chǎn)線的顯影液參數(shù),,導致良率損失20%。
松山湖光刻膠廠家吉田,,2000 萬級產(chǎn)能,,48小時極速交付!
光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠)
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液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產(chǎn)過程中,光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細圖案,,包括像素電極,、公共電極、取向?qū)訄D案等,。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果,,如分辨率、對比度,、視角等,。
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有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關鍵結(jié)構(gòu),。OLED 顯示器具有自發(fā)光,、響應速度快等優(yōu)點,而光刻膠能保障其精細的像素結(jié)構(gòu)制作,,提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 ,。
聚焦封裝需求,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務,。寧波高溫光刻膠感光膠
吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力,。寧波高溫光刻膠感光膠
關鍵工藝流程
涂布與前烘:
? 旋涂或噴涂負性膠,厚度可達1-100μm(遠厚于正性膠),,前烘溫度60-90℃,,去除溶劑并增強附著力。
曝光:
? 光源以**汞燈G線(436nm)**為主,,適用于≥1μm線寬,,曝光能量較高(約200-500mJ/cm2),需注意掩膜版與膠膜的貼合精度,。
顯影:
? 使用有機溶劑顯影液(如二甲苯,、醋酸丁酯),未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解,,曝光的交聯(lián)膠膜保留,。
后處理:
? 后烘(Post-Bake):加熱(100-150℃)進一步固化交聯(lián)結(jié)構(gòu),,提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力。
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