深圳進(jìn)口光刻膠感光膠

來源：發(fā)布時(shí)間：2025-06-03

市場(chǎng)與客戶優(yōu)勢(shì)：全球化布局與頭部客戶合作

全球客戶網(wǎng)絡(luò)

產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,，與三星、LG,、京東方等世界500強(qiáng)企業(yè)建立長期合作,，在東南亞、北美市場(chǎng)市占率超15%,。

區(qū)域市場(chǎng)深耕

依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,，與華為、OPPO等本土企業(yè)合作,，在消費(fèi)電子,、汽車電子領(lǐng)域快速響應(yīng)客戶需求。

產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢(shì)：原材料與設(shè)備協(xié)同

主要原材料自主化

公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂,、光引發(fā)劑,，降低對(duì)進(jìn)口依賴，成本較國際競(jìng)品低20%,。

設(shè)備與工藝協(xié)同

與國內(nèi)涂膠顯影設(shè)備廠商合作,，開發(fā)適配國產(chǎn)設(shè)備的光刻膠配方，提升工藝兼容性,。

光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用,。深圳進(jìn)口光刻膠感光膠

作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,，通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,，成功突破多項(xiàng) “卡脖子” 技術(shù)，構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力,。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造,、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,，為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐,。

吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作，在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項(xiàng)技術(shù)突破：

YK-300 正性光刻膠：分辨率達(dá) 0.35μm,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，適用于 45nm 及以上制程，良率達(dá) 98% 以上,，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,，已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,。
SU-3 負(fù)性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,，良率提升至 98.5%。
JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限,，圖形保真度 > 95%,，性能對(duì)標(biāo)德國 MicroResist 系列，已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,。

山東制版光刻膠廠家吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展,，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。

? 正性光刻膠

? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造,，具備高分辨率（線寬≤10μm）,、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性,，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,，適配UV光源（365nm/405nm）。

? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)：采用進(jìn)口樹脂及光引發(fā)劑,，絕緣阻抗高（>10^14Ω）,，滿足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求。

? 負(fù)性光刻膠

? JT-1000：負(fù)性膠,，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,，分辨率達(dá)3μm，適用于功率半導(dǎo)體,、MEMS器件制造,，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強(qiáng)腐蝕液處理,。

? SU-3：經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠,，性價(jià)比高，適用于分立器件及低端邏輯芯片,，光源適應(yīng)性廣（248nm-436nm）,，曝光靈敏度≤200mJ/cm2。

2. 顯示面板光刻膠

? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設(shè)計(jì),，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力,，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造,，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn)。

? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品,，VOC含量<50g/L,，符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn),，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),，主要供應(yīng)京東方,、TCL等面板廠商。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào),，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā),、可定制,、使用、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，重量 1L。
水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠,，重量 5L,，具備上述通用優(yōu)勢(shì)，應(yīng)用場(chǎng)景,。

PCB廠商必看,！這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%。

吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專精特新" 企業(yè),，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號(hào),，樹立行業(yè),。
憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔(dān)多項(xiàng)國家 02 專項(xiàng)課題,。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),，推動(dòng)國產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。未來,，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景,，深化技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)拓展，為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)" 中國力量 ",。產(chǎn)業(yè)鏈配套：原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展,。重慶阻焊油墨光刻膠生產(chǎn)廠家

吉田半導(dǎo)體全流程解決方案，賦能客戶提升生產(chǎn)效率,。深圳進(jìn)口光刻膠感光膠

技術(shù)挑戰(zhàn)：

? 技術(shù)壁壘：EUV光刻膠,、3nm以下制程材料仍處研發(fā)階段，光刻膠分辨率,、靈敏度與國際水平存在差距（如東京應(yīng)化ArF膠分辨率達(dá)14nm）,。

? 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)：樹脂、光引發(fā)劑等原材料自給率不足8%,，部分依賴進(jìn)口（如日本信越化學(xué)）,；美國對(duì)華技術(shù)封鎖可能影響設(shè)備采購。

? 客戶驗(yàn)證：光刻膠需通過晶圓廠全流程測(cè)試,，驗(yàn)證周期長（1-2年）,，國內(nèi)企業(yè)在頭部客戶滲透率較低。

未來展望：

? 短期（2025-2027年）：KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率預(yù)計(jì)提升至10%-15%,，南大光電,、上海新陽等企業(yè)實(shí)現(xiàn)28nm-7nm制程產(chǎn)品量產(chǎn)，部分替代日本進(jìn)口,。

? 中期（2028-2030年）：EUV光刻膠進(jìn)入中試驗(yàn)證階段,，原材料自給率提升至30%，國內(nèi)企業(yè)在全球市場(chǎng)份額突破15%,。

? 長期（2030年后）：實(shí)現(xiàn)光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈自主可控,，技術(shù)指標(biāo)對(duì)標(biāo)國際前列，成為全球半導(dǎo)體材料重要供應(yīng)商,。

深圳進(jìn)口光刻膠感光膠

標(biāo)簽：光刻膠錫片

上一篇 寧波LED光刻膠國產(chǎn)廠商

下一篇： 內(nèi)蒙古油墨光刻膠感光膠

深圳進(jìn)口光刻膠感光膠

可能感興趣的產(chǎn)品:

可能感興趣的廠家:

可能感興趣的關(guān)鍵詞: