直流磁控濺射所用的電源是直流高壓電源,，通常在300～1000V,，特點是濺射速率快，造價低，后期維修保養(yǎng)廉價,?？墒侵荒転R射金屬靶材,，假如靶材是絕緣體,，隨著濺射的深化，靶材會聚集很多的電荷,，導(dǎo)致濺射無法持續(xù),。因而關(guān)于金屬靶材通常用直流磁控濺射，因為造價廉價,，結(jié)構(gòu)簡略,，目前在工業(yè)上使用普遍。脈沖磁控濺射是采用脈沖電源或者直流電源與脈沖生成裝置配合,，輸出脈沖電流驅(qū)動磁控濺射沉積,。一般使用矩形波電壓，既容易獲得又有利于研究濺射放電等離子體的變化過程。工作模式與中頻濺射,。磁控濺射的優(yōu)點：操作易控,。安徽共濺射磁控濺射過程

磁控濺射設(shè)備在光學(xué)范疇：IF關(guān)閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜（例如抗反射涂層），低輻射率玻璃和通明導(dǎo)電玻璃中,。特別地，通明導(dǎo)電玻璃現(xiàn)在普遍地用于平板顯示設(shè)備,，太陽能電池,，微波和射頻屏蔽設(shè)備和設(shè)備以及傳感器中。在機械加工工業(yè)中,，自引入以來,，外表功用膜，超硬膜和自潤滑膜的外表沉積技術(shù)得到了大的發(fā)展,，可以有效進步外表硬度,，復(fù)合韌性，耐磨性和高韌性,。溫度化學(xué)穩(wěn)定性,。性能，從而大幅度進步了涂層產(chǎn)品的使用壽命,。除了已普遍使用的上述范疇外,，磁控濺射鍍膜儀還在高溫超導(dǎo)薄膜，鐵電薄膜,，巨磁阻薄膜,，薄膜發(fā)光材料，太陽能電池和記憶合金薄膜,。四川反應(yīng)磁控濺射優(yōu)點反應(yīng)磁控濺射普遍應(yīng)用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn),。

中頻磁控濺射鍍膜技術(shù)已逐漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)。它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜,，因為它克服了陽極的消失并削減或消除了靶材的異常電弧放電,。直流磁控濺射適用鍍膜設(shè)備，適用于筆記本電腦,，手機外殼,，電話，無線通信,，視聽電子,，遙控器，導(dǎo)航和醫(yī)療工具等,，全自動控制,，配備大功率磁控管電源，雙靶替換運用，恒定流輸出,。獨特的工件架設(shè)計合理,，自傳性強，產(chǎn)量大,，成品率高,。膜層的厚度能夠通過石英晶體厚度計測量，并且能夠鍍覆準確的膜厚度,。這兩種類型的磁控濺射鍍膜機在市場上被普遍運用,。

磁控濺射鍍膜注意事項：1、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標準在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2,、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻,、銦、鋁)是對人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3,、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4,、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強光,不宜透過觀察窗久看.磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點。磁控濺射鍍膜的適用范圍：1,、建材及民用工業(yè)中,；2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用,；3,、高級產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用；4,、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用,；5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用,。磁控濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面,，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。

磁控濺射粉體鍍膜技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)了銀包銅粉,、銀包鋁粉,、鋁包硅粉等多種微納米級粉體的量產(chǎn).由該技術(shù)得到的功能性復(fù)合粉體具有優(yōu)異的分散性,鍍層均勻度較高,鍍層與粉體的結(jié)合緊密度較高。磁控濺射鍍膜可以賦予超細粉體新的特性,例如在微米級二氧化硅表面鍍鋁,得到的復(fù)合粉體不但具有良好的分散性,好具有優(yōu)異的光學(xué)性能,可以作為一種特殊效果顏料用于高級塑料制品加工中.相較于傳統(tǒng)的鋁粉顏料,該特殊效果顏料不但有效改善了塑料制品的注塑缺陷(流痕\熔接線),還使得制品外觀質(zhì)感更加高級,。磁控濺射粉體鍍膜技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)了銀包銅粉,、銀包鋁粉、鋁包硅粉等多種微納米級粉體的量產(chǎn),。四川單靶磁控濺射過程

磁控濺射的優(yōu)點：基板有低溫性,。相對于二級濺射和熱蒸發(fā)來說，磁控濺射加熱少,。安徽共濺射磁控濺射過程

近年來磁控濺射技能發(fā)展十分迅速,，代表性辦法有平衡平衡磁控濺射,、反響磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等,。放電發(fā)生的等離子體中,，氬氣正離子在電場效果下向陰極移動，與靶材外表磕碰,，受磕碰而從靶材外表濺射出的靶材原子稱為濺射原子,。磁控濺射不只應(yīng)用于科研及工業(yè)范疇，已延伸到許多日常生活用品,，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相堆積制膜困難的薄膜制備,。磁控濺射技能在制備電子封裝及光學(xué)薄膜方面已有多年，特別是先進的中頻非平衡磁控濺射技能也已在光學(xué)薄膜,、通明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。安徽共濺射磁控濺射過程