无码人妻久久一区二区三区蜜桃_日本高清视频WWW夜色资源_国产AV夜夜欢一区二区三区_深夜爽爽无遮无挡视频,男人扒女人添高潮视频,91手机在线视频,黄页网站男人的天,亚洲se2222在线观看,少妇一级婬片免费放真人,成人欧美一区在线视频在线观看_成人美女黄网站色大免费的_99久久精品一区二区三区_男女猛烈激情XX00免费视频_午夜福利麻豆国产精品_日韩精品一区二区亚洲AV_九九免费精品视频 ,性强烈的老熟女

吉林多層磁控濺射特點

來源: 發(fā)布時間:2021-04-30

磁控濺射的基本原理是利用Ar一O2混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下,,被加速的高能粒子轟擊靶材表面,,能量交換后,靶材表面的原子脫離原晶格而逸出,,轉(zhuǎn)移到基體表面而成膜。磁控濺射的特點是成膜速率高,,基片溫度低,,膜的粘附性好,可實現(xiàn)大面積鍍膜,。該技術(shù)可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法,。磁控濺射設(shè)備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種。直流磁控濺射的特點是在陽極基片和陰極靶之間加一個直流電壓,,陽離子在電場的作用下轟擊靶材,,它的濺射速率一般都比較大。但是直流濺射一般只能用于金屬靶材,,因為如果是絕緣體靶材,則由于陽粒子在靶表面積累,,造成所謂的“靶中毒”,,濺射率越來越低。磁控濺射的優(yōu)點:膜的牢固性好,。吉林多層磁控濺射特點

吉林多層磁控濺射特點,磁控濺射

磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬,、半導(dǎo)體、絕緣子等,。它具有設(shè)備簡單,、易于控制、涂覆面積大,、附著力強(qiáng)等優(yōu)點.磁控濺射發(fā)展至今,,除了上述一般濺射方法的優(yōu)點外,還實現(xiàn)了高速,、低溫,、低損傷。磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用:1.各種功能薄膜:如具有吸收,、透射,、反射、折射,、偏振等功能.例如,,在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率.2.微電子:可作為非熱鍍膜技術(shù),主要用于化學(xué)氣相沉積(CVD).3.裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用:如各種全反射膜和半透明膜,;比如手機(jī)殼,、鼠標(biāo)等.江西單靶磁控濺射方案真空磁控濺射鍍膜技術(shù)所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處。

吉林多層磁控濺射特點,磁控濺射

磁控濺射包括很多種類,,各有不同工作原理和應(yīng)用對象,。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率,。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難,。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面,,也發(fā)生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,,從而引起滅火,,靶源和工件表面起弧等。國外發(fā)明的孿生靶源技術(shù),,很好的解決了這個問題,。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化,。

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜,,實際上,真空磁控濺射鍍膜這種工藝可以沉積任何氧化物,、碳化物以及氮化物材料的薄膜,。此外,該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積,,包括了光學(xué)設(shè)計,、彩色膜、耐磨涂層,、納米層壓板,、超晶格鍍膜、絕緣膜等,。早在1970年,,已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例,開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料,。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料,、半導(dǎo)體、聚合物,、氧化物,、碳化物以及氮化物等,至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當(dāng)中,。磁控濺射是物理中氣相沉積的一種,。

吉林多層磁控濺射特點,磁控濺射

高速率磁控濺射的一個固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率。高的沉積速率意味著高的粒子流飛向基片,導(dǎo)致沉積過程中大量粒子的能量被轉(zhuǎn)移到生長薄膜上,,引起沉積溫度明顯增加,。由于濺射離子的能量大約70%需要從陰極冷卻水中帶走,薄膜的較大濺射速率將受到濺射靶冷卻的限制,。冷卻不但靠足夠的冷卻水循環(huán),,還要求良好的靶材導(dǎo)熱率及較薄膜的靶厚度。同時高速率磁控濺射中典型的靶材利用率只有20%~30%,,因而提高靶材利用率也是有待于解決的一個問題,。磁控濺射特點:可制備成靶的材料廣,幾乎所有金屬,,合金和陶瓷材料都可以制成靶材,。安徽平衡磁控濺射儀器

磁控濺射技術(shù)得以普遍的應(yīng)用,是由該技術(shù)有別于其它鍍膜方法的特點所決定的。吉林多層磁控濺射特點

磁控濺射設(shè)備原子的能量比蒸發(fā)原子的能量大許多倍;入射離子的能量很低時,,濺射原子角散布就不完全符合余弦散布規(guī)律,。角散布還與入射離子方向有關(guān)。從單晶靶濺射出來的原子趨向于集中在晶體密度大的方向,因為電子的質(zhì)量很小,,所以即便運(yùn)用具有高能量的電子炮擊靶材也不會發(fā)生濺射現(xiàn)象,。因為濺射是一個雜亂的物理進(jìn)程,涉及的因素許多,,長期以來關(guān)于濺射機(jī)理雖然進(jìn)行了許多的研究,提出過許多的理論,,但都難以完善地解說濺射現(xiàn)象,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。吉林多層磁控濺射特點