微納測試與表征技術(shù)是微納加工技術(shù)的基礎(chǔ)與前提,，它包括在微納器件的設(shè)計,、制造和系統(tǒng)集成過程中，對各種參量進行微米/納米檢測的技術(shù),。微米測量主要服務(wù)于精密制造和微加工技術(shù),，目標是獲得微米級測量精度,，或表征微結(jié)構(gòu)的幾何、機械及力學(xué)特性,；納米測量則主要服務(wù)于材料工程和納米科學(xué),，特別是納米材料，目標是獲得材料的結(jié)構(gòu),、地貌和成分的信息,。在半導(dǎo)體領(lǐng)域人們所關(guān)心的與尺寸測量有關(guān)的參數(shù)主要包括：特征尺寸或線寬、重合度,、薄膜的厚度和表面的糙度等等,。未來，微納測試與表征技術(shù)正朝著從二維到三維,、從表面到內(nèi)部,、從靜態(tài)到動態(tài)、從單參量到多參量耦合,、從封裝前到封裝后的方向發(fā)展,。探索新的測量原理、測試方法和表征技術(shù),，發(fā)展微納加工及制造實時在線測試方法和微納器件質(zhì)量快速檢測系統(tǒng)已成為了微納測試與表征的主要發(fā)展趨勢,。 應(yīng)用于MEMS制作的襯底可以說是各種各樣的，如硅晶圓,、玻璃晶圓,、塑料、還其他的材料,。安徽微納加工設(shè)備

    高精度的微細結(jié)構(gòu)可以通過電子束直寫或激光直寫制作,，這類光刻技術(shù)，像“寫字”一樣,，通過控制聚焦電子束（光束）移動書寫圖案進行曝光,，具有很高的曝光精度，但這兩種方法制作效率極低,，尤其在大面積制作方面捉襟見肘,，目前直寫光刻技術(shù)適用于小面積的微納結(jié)構(gòu)制作。近年來,，三維浮雕微納結(jié)構(gòu)的需求越來越大,，如閃耀光柵,、菲涅爾透鏡、多臺階微光學(xué)元件等,。據(jù)悉,，蘋果公司新上市的手機產(chǎn)品中人臉識別模塊就采用了多臺階微光學(xué)元件，以及當下如火如荼的無人駕駛技術(shù)中激光雷達光學(xué)系統(tǒng)也用到了復(fù)雜的微光學(xué)元件,。這類精密的微納結(jié)構(gòu)光學(xué)元件需采用灰度光刻技術(shù)進行制作,。直寫技術(shù)，通過在光束移動過程中進行相應(yīng)的曝光能量調(diào)節(jié),，可以實現(xiàn)良好的灰度光刻能力,。 潮州激光微納加工未來幾年微納制造系統(tǒng)和平臺的發(fā)展前景包括的方面：智能的,、可升級的和適應(yīng)性強的微納制造系統(tǒng),。

微納加工氧化工藝是在高溫下，襯底的硅直接與O2發(fā)生反應(yīng)生成SiO2,，后續(xù)O2通過SiO2層擴散到Si/SiO2界面,，繼續(xù)與Si發(fā)生反應(yīng)增加SiO2薄膜的厚度，生成1個單位厚度的SiO2薄膜,，需要消耗0.445單位厚度的Si襯底,；相對CVD工藝而言，氧化工藝可以制作更加致密的SiO2薄膜,，有利于與其他材料制作更加牢固可靠的結(jié)構(gòu)層,，提高MEMS器件的可靠性。同時致密的SiO2薄膜有利于提高與其它材料的濕法刻蝕選擇比,，提高刻蝕加工精度,，制作更加精密的MEMS器件。同時氧化工藝一般采用傳統(tǒng)的爐管設(shè)備來制作,，成本低,，產(chǎn)量大，一次作業(yè)100片以上,，SiO2薄膜一致性也可以做到更高+/-3%以內(nèi),。

    微納加工：干法刻蝕VS濕法刻蝕！刻蝕工藝：用化學(xué)或物理方法有選擇性地從某一材料表面去除不需要那部分的過程,，獲得目標圖形,。在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕。干法刻蝕的刻蝕劑是等離子體,，是利用等離子體和表面薄膜反應(yīng),，形成揮發(fā)性物質(zhì)，或直接轟擊薄膜表面使之被刻蝕的工藝,。特點：能實現(xiàn)各向異性刻蝕,，從而保證細小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性,。缺點：造價高。濕法刻蝕是通過化學(xué)刻蝕液和被刻蝕物質(zhì)之間的化學(xué)反應(yīng)將被刻蝕物質(zhì)剝離下來的方法,。大多數(shù)濕法刻蝕是不容易控制的各向同性刻蝕,。特點：適應(yīng)性強，表面均勻性好,、對硅片損傷少,，幾乎適用于所有的金屬、玻璃,、塑料等材料,。缺點：圖形刻蝕保真想過不理想，刻蝕圖形的小線難以掌控,。 在微納加工過程中,，薄膜的形成方法主要為物理沉積、化學(xué)沉積和混合方法沉積,。

電子束光刻技術(shù)是利用電子束在涂有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫或投影復(fù)印圖形的技術(shù).電子抗蝕劑是一種對電子敏感的高分子聚合物,，經(jīng)過電子束掃描過的電子抗蝕劑發(fā)生分子鏈重組，使曝光圖形部分的抗蝕劑發(fā)生化學(xué)性質(zhì)改變,。經(jīng)過顯影和定影,，獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形。電子束光刻技術(shù)的主要工藝過程為涂膠,、前烘,、電子束曝光、顯影和堅膜?，F(xiàn)代的電子束光刻設(shè)備已經(jīng)能夠制作小于10nm的精細線條結(jié)構(gòu),。電子束光刻設(shè)備也是制作光學(xué)掩膜版的重要工具。影響曝光精度的內(nèi)部工藝因素主要取決于電子束斑尺寸,、掃描步長,、電子束流劑量和電子散射引起的鄰近效應(yīng)。通過光刻技術(shù)制作出的微納結(jié)構(gòu)需進一步通過刻蝕或者鍍膜,，才可獲得所需的結(jié)構(gòu)或元件,。石墨烯微納加工價目

提高微納加工技術(shù)的加工能力和效率是未來微納結(jié)構(gòu)及器件研究的重點方向。安徽微納加工設(shè)備

隨著微電子,、微機械,、微光學(xué)、介入醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展,，微型零件的需求量不斷增加,。微注射成形作為一種微成型工藝，具有制品材料,、幾何形狀和尺寸適應(yīng)性好,、成本低,、效率高，以及可連續(xù)化,、自動化生產(chǎn)等一系列優(yōu)點,，因此越來越受到人們的重視，成為當前研究的熱門課題,。1985年,，世界上第1臺專門用于加工微型塑件的注射裝置Micromelt在德國問世，其它國家緊隨其后,，先后開發(fā)出了各種不同類型的微注塑成型機,，這為發(fā)展微注塑成型技術(shù)以及實際生產(chǎn)微小塑件都提供了強有力的支持和較有效的保證，微注塑成型技術(shù)進入了發(fā)展的黃金時期,。安徽微納加工設(shè)備