真空鍍膜的方法：濺射鍍膜：濺射鍍膜有很多種方式,。按電極結(jié)構(gòu),、電極相對(duì)位置以及濺射的過(guò)程,可以分為二極濺射,、三極或四極濺射、磁控濺射,、對(duì)向靶濺射,、和ECR濺射。除此之外還根據(jù)制作各種薄膜的要求改進(jìn)的濺射鍍膜技術(shù),。比較常用的有:在Ar中混入反應(yīng)氣體如O2,、N2、CH4,、C2H2等,則可制得鈦的氧化物,、氮化物、碳化物等化合物薄膜的反應(yīng)濺射,。在成膜的基板上施加直到500V的負(fù)電壓,使離子轟擊膜層的同時(shí)成膜,由此改善膜層致密性的偏壓濺射,。真空鍍膜在鋼材、鎳,、鈾,、金剛石表面鍍鈦金屬薄膜,提高了鋼材、鈾,、金剛石等材料的耐腐蝕性能,。淮南UV光固化真空鍍膜

磁控濺射的優(yōu)勢(shì)在于可根據(jù)靶材的性質(zhì)來(lái)選擇使用不同的靶電源進(jìn)行濺射,，靶電源分為射頻靶(RF),、直流靶(DC)、直流脈沖靶(DC Pluse),。其中射頻靶主要用于導(dǎo)電性較差的氧化物,、陶瓷等介質(zhì)膜的濺射，也可以進(jìn)行常規(guī)金屬材料濺射,。直流靶只能用于導(dǎo)電性較好的金屬材料,，而直流脈沖靶介于二者之間，可濺射硅,、鍺等半導(dǎo)體材料,。磁控濺射方向性要優(yōu)于電子束蒸發(fā)，但薄膜質(zhì)量,，表面粗糙度等方面不如電子束蒸發(fā),。但磁控濺射可用于多種材料，使用范圍廣,，電子束蒸發(fā)則只能用于金屬材料蒸鍍,，且高熔點(diǎn)金屬，如W,，Mo等的蒸鍍較為困難,。所以磁控濺射常用于新型氧化物，陶瓷材料的鍍膜,，電子束則用于對(duì)薄膜質(zhì)量較高的金屬材料,。淮南UV光固化真空鍍膜真空鍍膜技術(shù)有真空蒸發(fā)鍍膜,。

真空鍍膜：技術(shù)原理：濺射鍍膜基本原理：充氬（Ar）氣的真空條件下,，使氬氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)氬（Ar）原子電離成氬離子（Ar）,，氬離子在電場(chǎng)力的作用下,，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面,。濺射鍍膜中的入射離子,，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍,，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中,，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻,。離子鍍基本原理：在真空條件下,，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子,，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子,，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下,，離子沉積于基體表面形成薄膜,。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬,、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法,。例如，真空鍍鋁,、真空鍍鉻等,。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),，利用物理或化學(xué)方法,，并吸收電子束、分子束,、離子束,、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝,。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬,、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法,，稱(chēng)為真空鍍膜,。真空鍍膜在所有被鍍材料中，以塑料較為常見(jiàn),。

磁控濺射可改變工作氣體與氬氣比例從而進(jìn)行反應(yīng)濺射,，例如使用Si靶材，通入一定比例的N2,，氬氣作為工作氣體,，而氮?dú)庾鳛榉磻?yīng)氣體，反應(yīng)能得到SiNx薄膜,。通入氧氣與氮?dú)鈴亩@得各種材料的氧化物與氮化物薄膜,，通過(guò)改變反應(yīng)氣體與工作氣體的比例也能對(duì)濺射速率進(jìn)行調(diào)整,，薄膜內(nèi)組分也能相應(yīng)調(diào)整。但反應(yīng)氣體過(guò)量時(shí)可能會(huì)造成靶中毒,。解決靶中毒主要有以下幾種方法;1.使用射頻電源進(jìn)行濺射,；2.采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體通入流量；3.使用孿生靶交替濺射,；4.控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前,，采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線(xiàn),，使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,，確保工藝過(guò)程始終處于沉積速率陡降前的模式。評(píng)價(jià)氧化硅薄膜的質(zhì)量：腐蝕速率越慢,，薄膜質(zhì)量越致密,，反之，腐蝕速率越快,，薄膜質(zhì)量越差,。淮南UV光固化真空鍍膜

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,。淮南UV光固化真空鍍膜

在二極濺射中增加一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng),，借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng),，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來(lái)增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量,，從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射的過(guò)程,。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡,，逐漸遠(yuǎn)離靶表面,，并在電場(chǎng)E的作用下沉積在基片上。由于該電子的能量很低,，傳遞給基片的能量很小,，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程,。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程,，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子,，此靶原子又和其他靶原子碰撞,，形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量,，離開(kāi)靶被濺射出來(lái),?；茨蟄V光固化真空鍍膜