反應(yīng)磁控濺射普遍應(yīng)用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn),，這是因為：(1)反應(yīng)磁控濺射所用的靶材料(單元素靶或多元素靶)和反應(yīng)氣體(氧,、氮,、碳氫化合物等)純度很高,，因而有利于制備高純度的化合物薄膜,。(2)通過調(diào)節(jié)反應(yīng)磁控濺射中的工藝參數(shù),可以制備化學(xué)配比或非化學(xué)配比的化合物薄膜,，通過調(diào)節(jié)薄膜的組成來調(diào)控薄膜特性。(3)反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板升溫較小,，而且制膜過程中通常也不要求對基板進行高溫加熱,，因此對基板材料的限制較少。(4)反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜,，并能實現(xiàn)單機年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn),。磁控濺射是眾多獲得高質(zhì)量的薄膜技術(shù)當(dāng)中使用較普遍的一種鍍膜工藝。江蘇雙靶磁控濺射哪家能做

非平衡磁控濺射系統(tǒng)有兩種結(jié)構(gòu),，一種是其芯部磁場強度比外環(huán)高,，磁力線沒有閉合，被引向真空室壁,，基體表面的等離子體密度低,，因此該方式很少被采用。另一種是外環(huán)磁場強度高于芯部磁場強度,，磁力線沒有完全形成閉合回路,，部分外環(huán)的磁力線延伸到基體表面，使得部分二次電子能夠沿著磁力線逃逸出靶材表面區(qū)域,，同時再與中性粒子發(fā)生碰撞電離,，等離子體不再被完全限制在靶材表面區(qū)域，而是能夠到達基體表面,，進一步增加鍍膜區(qū)域的離子濃度,，使襯底離子束流密度提高，通?？蛇_5mA/cm2以上,。這樣濺射源同時又是轟擊基體表面的離子源，基體離子束流密度與靶材電流密度成正比,，靶材電流密度提高,，沉積速率提高，同時基體離子束流密度提高,，對沉積膜層表面起到一定的轟擊作用,。天津?qū)I(yè)磁控濺射設(shè)備磁控濺射靶材的分類：根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材,、合金靶材,、無機非金屬靶材等。

磁控濺射鍍膜注意事項：1,、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標(biāo)準(zhǔn)在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2,、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻、銦、鋁)是對人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3,、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4,、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強光,不宜透過觀察窗久看.磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點。磁控濺射鍍膜的適用范圍：1,、建材及民用工業(yè)中,；2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用,；3,、高級產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用；4,、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用,；5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用,。

近年來磁控濺射技能發(fā)展十分迅速,，代表性辦法有平衡平衡磁控濺射、反響磁控濺射,、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等,。放電發(fā)生的等離子體中，氬氣正離子在電場效果下向陰極移動,，與靶材外表磕碰,，受磕碰而從靶材外表濺射出的靶材原子稱為濺射原子。磁控濺射不只應(yīng)用于科研及工業(yè)范疇,，已延伸到許多日常生活用品,，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相堆積制膜困難的薄膜制備。磁控濺射技能在制備電子封裝及光學(xué)薄膜方面已有多年,，特別是先進的中頻非平衡磁控濺射技能也已在光學(xué)薄膜、通明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用,。雙靶磁控濺射儀是一款高真空鍍膜設(shè)備,。

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實際上,，真空磁控濺射鍍膜這種工藝可以沉積任何氧化物,、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外,，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積,，包括了光學(xué)設(shè)計、彩色膜,、耐磨涂層,、納米層壓板、超晶格鍍膜、絕緣膜等,。早在1970年,，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料,。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料,、半導(dǎo)體、聚合物,、氧化物,、碳化物以及氮化物等，至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當(dāng)中,。磁控濺射在技術(shù)上可以分為直流(DC)磁控濺射,、中頻(MF)磁控濺射、射頻(RF)磁控濺射,。浙江雙靶磁控濺射方案

磁控濺射特點：可制備成靶的材料廣,，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材,。江蘇雙靶磁控濺射哪家能做

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進行磁控濺射沉積,。脈沖濺射可以有效地抑制電弧產(chǎn)生進而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射沉積速率,，降低沉積溫度等一系列明顯的優(yōu)點,，是濺射絕緣材料沉積的首先選擇的工藝過程。高功率脈沖磁控濺射技術(shù)作為一種高離化率物理中氣相沉積技術(shù),，可以明顯提高薄膜結(jié)構(gòu)可控性,，進而獲得優(yōu)異的薄膜性能，對薄膜工業(yè)的發(fā)展有重要意義,。近幾年來,，高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在國內(nèi)外研究領(lǐng)域和工業(yè)界受到了普遍關(guān)注和重視。江蘇雙靶磁控濺射哪家能做