磁控濺射設(shè)備在光學(xué)范疇：IF關(guān)閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜（例如抗反射涂層）,，低輻射率玻璃和通明導(dǎo)電玻璃中,。特別地，通明導(dǎo)電玻璃現(xiàn)在普遍地用于平板顯示設(shè)備,，太陽能電池,，微波和射頻屏蔽設(shè)備和設(shè)備以及傳感器中。在機械加工工業(yè)中,，自引入以來,，外表功用膜,，超硬膜和自潤滑膜的外表沉積技術(shù)得到了大的發(fā)展，可以有效進步外表硬度,，復(fù)合韌性,，耐磨性和高韌性。溫度化學(xué)穩(wěn)定性,。性能,，從而大幅度進步了涂層產(chǎn)品的使用壽命。除了已普遍使用的上述范疇外,，磁控濺射鍍膜儀還在高溫超導(dǎo)薄膜,，鐵電薄膜，巨磁阻薄膜,，薄膜發(fā)光材料,，太陽能電池和記憶合金薄膜。真空室中裝有輝光放電的陰極,，靶材就裝在此極表面上,，接受離子轟擊。湖南脈沖磁控濺射流程

磁控濺射包括很多種類,，各有不同工作原理和應(yīng)用對象,。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率,。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,，而實際操作困難,。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極,，真空腔體表面以及靶源表面,，從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等,。國外發(fā)明的孿生靶源技術(shù),，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,，從而消除陽極表面氧化或氮化,。山西單靶磁控濺射方案中頻交流磁控濺射在單個陰極靶系統(tǒng)中，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷,、防止打弧作用,。

高速率磁控濺射的一個固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率。高的沉積速率意味著高的粒子流飛向基片，導(dǎo)致沉積過程中大量粒子的能量被轉(zhuǎn)移到生長薄膜上,，引起沉積溫度明顯增加,。由于濺射離子的能量大約70%需要從陰極冷卻水中帶走，薄膜的較大濺射速率將受到濺射靶冷卻的限制,。冷卻不但靠足夠的冷卻水循環(huán),，還要求良好的靶材導(dǎo)熱率及較薄膜的靶厚度。同時高速率磁控濺射中典型的靶材利用率只有20%～30%,，因而提高靶材利用率也是有待于解決的一個問題,。

磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點：1、磁控濺射所利用的環(huán)狀磁場迫使二次電子跳欄式地沿著環(huán)狀磁場轉(zhuǎn)圈.相應(yīng)地,環(huán)狀磁場控制的區(qū)域是等離子體密度較高的部位.在磁控濺射時,可以看見濺射氣體——氬氣在這部位發(fā)出強烈的淡藍色輝光,形成一個光環(huán).處于光環(huán)下的靶材是被離子轟擊較嚴重的部位,會濺射出一條環(huán)狀的溝槽.環(huán)狀磁場是電子運動的軌道,環(huán)狀的輝光和溝槽將其形象地表現(xiàn)了出來.磁控濺射靶的濺射溝槽一旦穿透靶材,就會導(dǎo)致整塊靶材報廢,所以靶材的利用率不高,一般低于40%;2,、等離子體不穩(wěn)定,。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜,。

磁控濺射靶材鍍膜過程中,，影響靶材鍍膜沉積速率的因素：濺射電流：磁控靶的濺射電流與濺射靶材表面的離子電流成正比，因此也是影響濺射速率的重要因素,。磁控濺射有一個普遍規(guī)律,，即在較佳氣壓下沉積速度較快。因此,，在不影響薄膜質(zhì)量和滿足客戶要求的前提下,，從濺射良率考慮氣體壓力的較佳值是合適的。改變?yōu)R射電流有兩種方法：改變工作電壓或改變工作氣體壓力,。濺射功率：濺射功率對沉積速率的影響類似于濺射電壓,。一般來說，提高磁控靶材的濺射功率可以提高成膜率,。然而,這并不是一個普遍的規(guī)則,。在磁控靶材的濺射電壓低，濺射電流大的情況下,，雖然平均濺射功率不低,，但離子不能被濺射，也不能沉積,。前提是要求施加在磁控靶材上的濺射電壓足夠高,，使工作氣體離子在陰極和陽極之間的電場中的能量足夠大于靶材的"濺射能量閾值"。交流磁控濺射和直流濺射相比交流磁控濺射采 用交流電源代替直流電源,解決了靶面的異常放電現(xiàn)象,。黑龍江反應(yīng)磁控濺射平臺

磁控濺射鍍膜的適用范圍：在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用,。湖南脈沖磁控濺射流程

脈沖磁控濺射的分類：（1）單向脈沖：單向脈沖正電壓段的電壓為零!濺射發(fā)生在負電壓段,。由于零電壓段靶表面電荷中和效果不明顯,。（2）、雙向脈沖：雙向脈沖在一個周期內(nèi)存在正電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段,，電源工作于靶材的濺射,，正電壓段，引入電子中和靶面累積的正電荷,，并使表面清潔,，裸露出金屬表面。雙向脈沖更多地用于雙靶閉合式非平衡磁控濺射系統(tǒng),，系統(tǒng)中的兩個磁控靶連接在同一脈沖電源上,，兩個靶交替充當陰極和陽極。陰極靶在濺射的同時,，陽極靶完成表面清潔,，如此周期性地變換磁控靶極性，就產(chǎn)生了“自清潔”效應(yīng),。湖南脈沖磁控濺射流程

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