真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬,、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法,。例如，真空鍍鋁,、真空鍍鉻等,。真空電鍍工藝中,，ABS,、PC以及TPU等材質(zhì)的使用較為普遍,，但如果在注塑成型的過程中素材表面有脫模劑等油污的話，在真空電鍍之后罩UV光油時,，表面會出現(xiàn)油點,、油窩以及油斑等不良缺陷。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù),，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上,。此項技術(shù)首先用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠鏡鏡片等,；后延伸到其他功能薄膜,，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等,，如手表外殼鍍仿金色,，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性,。真空鍍膜有三種形式,，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍,。磁控濺射方向性要優(yōu)于電子束蒸發(fā),，但薄膜質(zhì)量，表面粗糙度等方面不如電子束蒸發(fā),。上海真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜：濺射鍍膜：濺射出來的粒子在飛向基體過程中易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,，導(dǎo)致運動方向隨機化，使得沉積的膜易于均勻,。發(fā)展起來的規(guī)模性磁控濺射鍍膜,，沉積速率較高，工藝重復(fù)性好,，便于自動化,，已適當(dāng)于大型建筑裝飾鍍膜及工業(yè)材料的功能性鍍膜，如TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag的生產(chǎn)制備,。濺射鍍膜可分為直流濺射,、射頻濺射和磁控濺射，其對應(yīng)的輝光放電電壓源和控制場分別為高壓直流電,、射頻(RF)交流電和磁控(M)場,。東莞新型真空鍍膜蒸發(fā)速率正比于材料的飽和蒸氣壓，溫度變化10%左右,，飽和蒸氣壓就要變化一個數(shù)量級左右,。

真空鍍膜的物理過程：PVD（物理的氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：（1）金屬顆粒的氣化：即鍍料的蒸發(fā),、升華或被濺射從而形成氣化源（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子,、分子或離子經(jīng)過碰撞,，產(chǎn)生多種反應(yīng)。（3）鍍料粒子在基片表面的沉積,。熱蒸發(fā)主要是三個過程：1.蒸發(fā)材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的過程,。2.氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基底之間的運輸 3.蒸發(fā)原子或分子在襯底表面上淀積過程，即是蒸汽凝聚,、成核,、核生長、形成連續(xù)薄膜的過程,。

磁控濺射技術(shù)可制備裝飾薄膜,、硬質(zhì)薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜,、超導(dǎo)薄膜,、磁性薄膜、光學(xué)薄膜,，以及各種具有特殊功能的薄膜,，是一種十分有效的薄膜沉積方法，在各個工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用非常廣,?！盀R射”是指具有一定能量的粒子（一般為Ar+離子）轟擊固體（靶材）表面，使得固體（靶材）分子或原子離開固體,，從表面射出,，沉積到被鍍工件上。磁控濺射是在靶材表面建立與電場正交磁場,，電子受電場加速作用的同時受到磁場的束縛作用,，運動軌跡成擺線，增加了電子和帶電粒子以及氣體分子相碰撞的幾率,，提高了氣體的離化率,，提高了沉積速率。熱氧化是在一定的溫度和氣體條件下,，使硅片表面氧化一定厚度的氧化硅的,。主要有干法氧化和濕法氧化。

磁控濺射還可用于不同金屬合金的共濺射,，同時使用多個靶電源和不同靶材,，例如TiW合金，通過單獨調(diào)整Ti,、W的濺射速率,，同時開始濺射2種材料,，則在襯底上可以形成Ti/W合計,，對不同材料的速率進行調(diào)節(jié),，即能滿足不同組分的要求.磁控濺射由于其內(nèi)部電場的存在，還可在襯底端引入一個負偏壓,，使濺射速率和材料粒子的方向性增加,。所以磁控濺射常用來沉積TSV結(jié)構(gòu)的阻擋層和種子層，通過對相關(guān)參數(shù)的調(diào)整和引入負偏壓,，可以實現(xiàn)高深寬比的薄膜濺射,，且深孔內(nèi)壁薄膜連續(xù)和良好的均勻性真空鍍膜機類金剛石薄膜通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。東莞新型真空鍍膜

PECVD當(dāng)中沉積速率的快慢也會影響到薄膜的質(zhì)量,。上海真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜：眾所周知,，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜,，就能使材料具有許多新的,、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法,。前者是通過通電，使電解液電解,，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上,，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體,，而且薄膜厚度也難以控制,。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液,，并能迅速參加還原反應(yīng),，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制,，同時還會產(chǎn)生大量的廢液,，造成嚴重的污染。因此,，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制,。上海真空鍍膜工藝流程

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