真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法,。例如,，真空鍍鋁、真空鍍鉻等,。真空電鍍工藝中,，ABS、PC以及TPU等材質(zhì)的使用較為普遍,，但如果在注塑成型的過(guò)程中素材表面有脫模劑等油污的話,，在真空電鍍之后罩UV光油時(shí)，表面會(huì)出現(xiàn)油點(diǎn),、油窩以及油斑等不良缺陷,。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上,。此項(xiàng)技術(shù)首先用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片,，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜,，唱片鍍鋁,、裝飾鍍膜和材料表面改性等，如手表外殼鍍仿金色,，機(jī)械刀具鍍膜,，改變加工紅硬性。真空鍍膜有三種形式,，即蒸發(fā)鍍膜,、濺射鍍膜和離子鍍。磁控濺射方向性要優(yōu)于電子束蒸發(fā),，但薄膜質(zhì)量,，表面粗糙度等方面不如電子束蒸發(fā),。上海真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜：濺射鍍膜：濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，導(dǎo)致運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)化,，使得沉積的膜易于均勻,。發(fā)展起來(lái)的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高,，工藝重復(fù)性好,，便于自動(dòng)化，已適當(dāng)于大型建筑裝飾鍍膜及工業(yè)材料的功能性鍍膜,，如TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag的生產(chǎn)制備,。濺射鍍膜可分為直流濺射、射頻濺射和磁控濺射,，其對(duì)應(yīng)的輝光放電電壓源和控制場(chǎng)分別為高壓直流電,、射頻(RF)交流電和磁控(M)場(chǎng)。東莞新型真空鍍膜蒸發(fā)速率正比于材料的飽和蒸氣壓,，溫度變化10%左右,，飽和蒸氣壓就要變化一個(gè)數(shù)量級(jí)左右。

真空鍍膜的物理過(guò)程：PVD（物理的氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個(gè)工藝步驟：（1）金屬顆粒的氣化：即鍍料的蒸發(fā),、升華或被濺射從而形成氣化源（2）鍍料粒子（（原子,、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞,，產(chǎn)生多種反應(yīng),。（3）鍍料粒子在基片表面的沉積。熱蒸發(fā)主要是三個(gè)過(guò)程：1.蒸發(fā)材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的過(guò)程,。2.氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基底之間的運(yùn)輸 3.蒸發(fā)原子或分子在襯底表面上淀積過(guò)程,，即是蒸汽凝聚、成核,、核生長(zhǎng),、形成連續(xù)薄膜的過(guò)程。

磁控濺射技術(shù)可制備裝飾薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、耐腐蝕摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜,、磁性薄膜,、光學(xué)薄膜，以及各種具有特殊功能的薄膜,，是一種十分有效的薄膜沉積方法,，在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用非常廣?！盀R射”是指具有一定能量的粒子（一般為Ar+離子）轟擊固體（靶材）表面,，使得固體（靶材）分子或原子離開固體,，從表面射出，沉積到被鍍工件上,。磁控濺射是在靶材表面建立與電場(chǎng)正交磁場(chǎng)，電子受電場(chǎng)加速作用的同時(shí)受到磁場(chǎng)的束縛作用,，運(yùn)動(dòng)軌跡成擺線,，增加了電子和帶電粒子以及氣體分子相碰撞的幾率，提高了氣體的離化率,，提高了沉積速率,。熱氧化是在一定的溫度和氣體條件下，使硅片表面氧化一定厚度的氧化硅的,。主要有干法氧化和濕法氧化,。

磁控濺射還可用于不同金屬合金的共濺射，同時(shí)使用多個(gè)靶電源和不同靶材,，例如TiW合金,，通過(guò)單獨(dú)調(diào)整Ti、W的濺射速率,，同時(shí)開始濺射2種材料,，則在襯底上可以形成Ti/W合計(jì)，對(duì)不同材料的速率進(jìn)行調(diào)節(jié),，即能滿足不同組分的要求.磁控濺射由于其內(nèi)部電場(chǎng)的存在,，還可在襯底端引入一個(gè)負(fù)偏壓，使濺射速率和材料粒子的方向性增加,。所以磁控濺射常用來(lái)沉積TSV結(jié)構(gòu)的阻擋層和種子層,，通過(guò)對(duì)相關(guān)參數(shù)的調(diào)整和引入負(fù)偏壓，可以實(shí)現(xiàn)高深寬比的薄膜濺射,，且深孔內(nèi)壁薄膜連續(xù)和良好的均勻性真空鍍膜機(jī)類金剛石薄膜通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,。東莞新型真空鍍膜

PECVD當(dāng)中沉積速率的快慢也會(huì)影響到薄膜的質(zhì)量。上海真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜：眾所周知,，在某些材料的表面上,，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的,、良好的物理和化學(xué)性能,。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法,。前者是通過(guò)通電,，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,，因此這種鍍膜的條件,，基體必須是電的良導(dǎo)體,，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,，必須把膜材配制成溶液,，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,，而且鍍膜既不均勻也不易控制,，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染,。因此,，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。上海真空鍍膜工藝流程

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