真空鍍膜：技術優(yōu)點：鍍層質量好：離子鍍的鍍層組織致密,、無小孔,、無氣泡、厚度均勻,。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復,，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復,，有高硬度,、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點,，膜層的壽命更長,；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。清洗過程簡化：現(xiàn)有鍍膜工藝,，多數(shù)均要求事先對工件進行嚴格清洗,，既復雜又費事,。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,，并且這一作用還一直延續(xù)于整個鍍膜過程,。清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體,，有效地增強了附著力,，簡化了大量的鍍前清洗工作。在鍍膜過程中,，想要控制蒸發(fā)速率,，必須精確控制蒸發(fā)源的溫度，加熱時應盡量避免產生過大的溫度梯度,。上海真空鍍膜設備

真空鍍膜：電阻加熱蒸發(fā)法：電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢,、鉬等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發(fā)源,，其上裝入待蒸發(fā)材料,，讓電流通過，對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā),，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā),。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設備構造簡單、造價便宜,、使用可靠,，可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對膜層質量要求不太高的大批量的生產中,。目前在鍍鋁制品的生產中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝,。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的較高溫度有限，加熱器的壽命也較短,。近年來,，為了提高加熱器的壽命，國內外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器,。上海真空鍍膜設備真空鍍膜技術四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應用,。

真空鍍膜：PVD技術工藝步驟：清洗工件：接通直流電源，氬氣進行輝光放電為氬離子,，氬離子轟擊工件表面,，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；鍍料的氣化：即通入交流電后,，使鍍料蒸發(fā)氣化,。鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞以及高壓電場后,，高速沖向工件,；鍍料原子,、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時,，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層,。離子鍍時，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能,，高速轟擊工件時,，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面,，形成一種注入基體很深的擴散層,，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,，甚至上百倍,，因而彼此粘附得特別牢。

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片,，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射,。在濺射粒子中,，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用,，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移,，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線,。若為環(huán)形磁場,，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長,，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內,，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率,。真空鍍膜機的優(yōu)點:其封口性能好,，尤其包裝粉末狀產品時，不會污染封口部分,，保證了包裝的密封性能,。

真空鍍膜：物理的氣相沉積技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子,，并通過低壓氣體（或等離子體）過程,，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術,，物理的氣相沉積是主要的表面處理技術之一。PVD(物理的氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類：真空蒸發(fā)鍍膜,、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜,。物理的氣相沉積的主要方法有：真空蒸鍍、濺射鍍膜,、電弧等離子體鍍,、離子鍍膜和分子束外延等。相應的真空鍍膜設備包括真空蒸發(fā)鍍膜機,、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機,。真空濺鍍的鍍層可通過調節(jié)電流大小和時間來壘加，但不能太厚,，一般厚度在0.2~2um,。上海真空鍍膜設備

真空蒸鍍是真空鍍膜技術的一種。上海真空鍍膜設備

真空鍍膜：電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,，比起一般的電阻加熱蒸發(fā)熱效率高,、束流密度大、蒸發(fā)速度快,，制成的薄膜純度高,、質量好，厚度可以較準確地控制,，可以普遍應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜,。電子束蒸發(fā)的特點是不會或很少覆蓋在目標三維結構的兩側，通常只會沉積在目標表面,。這是電子束蒸發(fā)和濺射的區(qū)別,。常見于半導體科研工業(yè)領域。利用加速后的電子能量打擊材料標靶,，使材料標靶蒸發(fā)升騰,。較終沉積到目標上。上海真空鍍膜設備

廣東省科學院半導體研究所屬于電子元器件的高新企業(yè),，技術力量雄厚,。廣東省半導體所是一家****企業(yè)，一直“以人為本,，服務于社會”的經營理念;“誠守信譽,，持續(xù)發(fā)展”的質量方針。公司擁有專業(yè)的技術團隊,，具有微納加工技術服務,，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務,，材料刻蝕技術服務等多項業(yè)務,。廣東省半導體所以創(chuàng)造***產品及服務的理念,，打造高指標的服務，引導行業(yè)的發(fā)展,。