磁控濺射的工藝研究：1,、氣體環(huán)境：真空系統(tǒng)和工藝氣體系統(tǒng)共同控制著氣體環(huán)境。首先,，真空泵將室體抽到一個高真空,。然后，由工藝氣體系統(tǒng)充入工藝氣體,，將氣體壓強降低到大約2X10-3torr,。為了確保得到適當質(zhì)量的同一膜層，工藝氣體必須使用純度為99.995%的高純氣體,。在反應濺射中,，在反應氣體中混合少量的惰性氣體可以提高濺射速率。2,、氣體壓強：將氣體壓強降低到某一點可以提高離子的平均自由程,、進而使更多的離子具有足夠的能量去撞擊陰極以便將粒子轟擊出來，也就是提高濺射速率,。超過該點之后,，由于參與碰撞的分子過少則會導致離化量減少，使得濺射速率發(fā)生下降,。如果氣壓過低,，等離子體就會熄滅同時濺射停止。提高氣體壓強可提高離化率,，但是也就降低了濺射原子的平均自由程,，這也可以降低濺射速率。能夠得到較大沉積速率的氣體壓強范圍非常狹窄,。如果進行的是反應濺射,，由于它會不斷消耗，所以為了維持均勻的沉積速率,，必須按照適當?shù)乃俣妊a充新的反應鍍渡。反應磁控濺射普遍應用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn),。河南真空磁控濺射用處

磁控濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面,，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。通常,，利用低壓惰性氣體輝光放電來產(chǎn)生入射離子,。陰極靶由鍍膜材料制成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氬氣或其它惰性氣體,，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產(chǎn)生輝光放電,。電離出的氬離子轟擊靶表面，使得靶原子濺出并沉積在基片上,，形成薄膜,。濺射方法很多，主要有二級濺射,、三級或四級濺射,、磁控濺射、對靶濺射,、射頻濺射,、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射,、離子束濺射以及反應濺射等,。深圳反應磁控濺射特點磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)磁控陰極和非平衡態(tài)磁控陰極,。

磁控濺射是物相沉積的一種,。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體,、絕緣體等多材料,，且具有設備簡單、易于控制,、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,。上世紀70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率,。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。入射粒子在靶中經(jīng)歷復雜的散射過程,，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子,，此靶原子又和其他靶原子碰撞,，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量,，離開靶被濺射出來,。

平衡磁控濺射即傳統(tǒng)的磁控濺射,，是在陰極靶材背后放置芯部與外環(huán)磁場強度相等或相近的永磁體或電磁線圈，在靶材表面形成與電場方向垂直的磁場,。沉積室充入一定量的工作氣體,，通常為Ar，在高壓作用下Ar原了電離成為Ar+離子和電子,，產(chǎn)生輝光放電,，Ar+離子經(jīng)電場加速轟擊靶材，濺射出靶材原子,、離子和二次電子等,。電子在相互垂直的電磁場的作用下，以擺線方式運動,，被束縛在靶材表面,，延長了其在等離子體中的運動軌跡，增加其參與氣體分子碰撞和電離的過程,，電離出更多的離子,，提高了氣體的離化率，在較低的氣體壓力下也可維持放電,，因而磁控濺射既降低濺射過程中的氣體壓力,，也同時提高了濺射的效率和沉積速率。單向脈沖正電壓段的電壓為零!濺射發(fā)生在負電壓段,。

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進行磁控濺射沉積,。脈沖濺射可以有效地抑制電弧產(chǎn)生進而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射沉積速率,，降低沉積溫度等一系列明顯的優(yōu)點,，是濺射絕緣材料沉積的首先選擇的工藝過程。高功率脈沖磁控濺射技術(shù)作為一種高離化率物理中氣相沉積技術(shù),，可以明顯提高薄膜結(jié)構(gòu)可控性,，進而獲得優(yōu)異的薄膜性能，對薄膜工業(yè)的發(fā)展有重要意義,。近幾年來,，高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在國內(nèi)外研究領域和工業(yè)界受到了普遍關(guān)注和重視。平衡靶源多用于半導體光學膜,，非平衡多用于磨損裝飾膜,。湖北多功能磁控濺射平臺

磁鐵有助于加速薄膜的生長，因為對原子進行磁化有助于增加目標材料電離的百分比,。河南真空磁控濺射用處

磁控濺射鍍膜常見領域應用：磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬,、半導體、絕緣子等.它具有設備簡單,、易于控制,、涂覆面積大、附著力強等優(yōu)點.磁控濺射發(fā)展至今,，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點外,，還實現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。1、各種功能薄膜：如具有吸收,、透射,、反射、折射,、偏振等功能,。例如，在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率,。2,、微電子：可作為非熱鍍膜技術(shù)，主要用于化學氣相沉積,。3,、裝飾領域的應用：如各種全反射膜和半透明膜；比如手機殼,、鼠標等,。4、一些不適合化學氣相沉積的材料可以通過磁控濺射沉積,，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜,。5、機械工業(yè)：如表面功能膜,、超硬膜,、自潤滑膜等。這些膜能有效提高表面硬度,、復合韌性,、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命,。6,、光領域：閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應用于光學薄膜、低輻射玻璃和透明導電玻璃,，特別是,，透明導電玻璃普遍應用于平板顯示器件、太陽能電池,、微波和射頻屏蔽器件和器件,、傳感器等,。河南真空磁控濺射用處

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