磁控濺射的優(yōu)點：（1）操作易控,。鍍膜過程，只要保持工作壓強,、電功率等濺射條件相對穩(wěn)定,，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率。（2）沉積速率高,。在沉積大部分的金屬薄膜,，尤其是沉積高熔點的金屬和氧化物薄膜時，如濺射鎢,、鋁薄膜和反應濺射TiO2,、ZrO2薄膜,，具有很高的沉積率。（3）基板低溫性,。相對二極濺射或者熱蒸發(fā),，磁控濺射對基板加熱少了，這一點對實現(xiàn)織物的上濺射相當有利,。（4）膜的牢固性好,。濺射薄膜與基板有著極好的附著力，機械強度也得到了改善,。磁控濺射發(fā)展至今,，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點外，還實現(xiàn)了高速,、低溫,、低損傷。四川平衡磁控濺射特點

磁控濺射靶材的分類：根據(jù)材料的成分不同,，靶材可分為金屬靶材,、合金靶材、無機非金屬靶材等,。其中無機非金屬靶材又可分為氧化物,、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類靶材,。根據(jù)幾何形狀的不同,，靶材可分為長方體形靶材、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材,；此外,，靶材還可以分為實心和空心兩種類型靶材。目前靶材較常用的分類方法是根據(jù)靶材應用領域進行劃分,，主要包括半導體領域應用靶材,、記錄介質(zhì)應用靶材、顯示薄膜應用靶材,、光學靶材,、超導靶材等。其中半導體領域用靶材,、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場需求規(guī)模較大的三類靶材,。安徽直流磁控濺射流程磁控濺射就是在外加電場的兩極之間引入一個磁場。

物相沉積技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源表面氣化成氣態(tài)原子或分子,，或部分電離成離子,，并通過低壓氣體過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術,，物相沉積是主要的表面處理技術之一,。PVD鍍膜技術主要分為三類：真空蒸發(fā)鍍膜,、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。物相沉積的主要方法有：真空蒸鍍,、濺射鍍膜,、電弧等離子體鍍膜、離子鍍膜和分子束外延等,。相應的真空鍍膜設備包括真空蒸發(fā)鍍膜機,、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。隨著沉積方法和技術的提升,，物相沉積技術不只可沉積金屬膜,、合金膜、還可以沉積化合物,、陶瓷,、半導體、聚合物膜等,。物相沉積技術早在20世紀初已有些應用,，但30年迅速發(fā)展成為一門極具廣闊應用前景的新技術，并向著環(huán)保型,、清潔型趨勢發(fā)展,。在鐘表行業(yè)，尤其是高級手表金屬外觀件的表面處理方面達到越來越為普遍的應用,。

真空磁控濺射鍍膜工藝具備以下特點：1,、沉積速率大,。由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高、產(chǎn)量大,、于各類工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應用,。2、功率效率高,。磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V，因為600V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi),。3,、濺射能量低。磁控靶電壓施加較低,，磁場將等離子體約束在陰極附近,，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上,。磁控濺射鍍膜的適用范圍：在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應用。

脈沖磁控濺射工作原理：在一個周期內(nèi)存在正電壓和負電壓兩個階段,，在負電壓段,，電源工作于靶材的濺射，正電壓段,，引入電子中和靶面累積的正電荷,，并使表面清潔，裸露出金屬表面,。加在靶材上的脈沖電壓與一般磁控濺射相同!為400~500V,電源頻率在10~350KHz,，在保證穩(wěn)定放電的前提下，應盡可能取較低的頻率#由于等離子體中的電子相對離子具有更高的能動性,，因此正電壓值只需要是負電壓的10%~20%,，就可以有效中和靶表面累積的正電荷。占空比的選擇在保證濺射時靶表面累積的電荷能在正電壓階段被完全中和的前提下,，盡可能提高占空,，以實現(xiàn)電源的較大效率。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。吉林多功能磁控濺射技術

真空磁控濺射鍍膜技術所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處,。四川平衡磁控濺射特點

磁控濺射的優(yōu)點：（1）成膜致密、均勻,。濺射的薄膜聚集密度普遍提高了,。從顯微照片看，濺射的薄膜表面微觀形貌比較精致細密,，而且非常均勻,。（2）濺射的薄膜均具有優(yōu)異的性能。如濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能,、電學性能及某些特殊性能,。（3）易于組織大批量生產(chǎn)。磁控源可以根據(jù)要求進行擴大,，因此大面積鍍膜是容易實現(xiàn)的,。再加上濺射可連續(xù)工作，鍍膜過程容易自動控制,，因此工業(yè)上流水線作業(yè)完全成為可能,。（4）工藝環(huán)保。傳統(tǒng)的濕法電鍍會產(chǎn)生廢液,、廢渣,、廢氣，對環(huán)境造成嚴重的污染,。不產(chǎn)生環(huán)境污染,、生產(chǎn)效率高的磁控濺射鍍膜法則可較好解決這一難題,。四川平衡磁控濺射特點

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