磁控濺射鍍膜注意事項：1,、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標準在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2,、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻,、銦,、鋁)是對人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3,、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4,、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強光,不宜透過觀察窗久看.磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點。磁控濺射鍍膜的適用范圍：1,、建材及民用工業(yè)中,；2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用,；3,、高級產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用；4,、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用,；5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用,。高速率磁控濺射的一個固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率,。湖南共濺射磁控濺射工藝

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點：1、基片溫度低：可利用陽極導(dǎo)走放電時產(chǎn)生的電子,，而不必借助基材支架接地來完成,，可以有效減少電子轟擊基材，因而基材的溫度較低,，非常適合一些不太耐高溫的塑料基材鍍膜。2,、磁控濺射靶表面不均勻刻蝕：磁控濺射靶表面刻蝕不均是由靶磁場不均所導(dǎo)致,，靶的局部位置刻蝕速率較大，使靶材有效利用率較低,。因此,，想要提高靶材利用率，需要通過一定手段將磁場分布改變,，或者利用磁鐵在陰極中移動,，也可提高靶材利用率。廣東高質(zhì)量磁控濺射磁控濺射涂層有很好的牢固性，濺射薄膜與基板,，機械強度得到了改善,，更好的附著力。

磁控濺射概述：濺射是一種基于等離子體的沉積過程,，其中高能離子向目標加速,。離子撞擊目標，原子從表面噴射,。這些原子向基板移動并結(jié)合到正在生長的薄膜中,。磁控濺射是一種涉及氣態(tài)等離子體的沉積技術(shù)，該等離子體產(chǎn)生并限制在包含要沉積的材料的空間內(nèi),。靶材表面被等離子體中的高能離子侵蝕,，釋放出的原子穿過真空環(huán)境并沉積到基板上形成薄膜。在典型的濺射沉積工藝中,，腔室首先被抽真空至高真空,，以較小化所有背景氣體和潛在污染物的分壓。達到基本壓力后,，包含等離子體的濺射氣體流入腔室,，并使用壓力控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)總壓力-通常在毫托范圍內(nèi)。

磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場,。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后,，并不直接飛向陽極，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動,。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量,，使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子較終沿磁力線漂移到陰極附近的陽極而被吸收,，避免高能電子對極板的強烈轟擊,，消除了二極濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點,。由于外加磁場的存在,，電子的復(fù)雜運動增加了電離率，實現(xiàn)了高速濺射,。磁控濺射的技術(shù)特點是要在陰極靶面附件產(chǎn)生與電場方向垂直的磁場,，一般采用永久磁鐵實現(xiàn)。單向脈沖正電壓段的電壓為零!濺射發(fā)生在負電壓段,。

磁控濺射的優(yōu)點：1,、沉積速度快、基材溫升低,、對膜層的損傷??；2、對于大部分材料,，只要能制成靶材,，就可以實現(xiàn)濺射；3,、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好,；4、濺射所獲得的薄膜純度高,、致密度好,、成膜均勻性好；5,、濺射工藝可重復(fù)性好,，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜；6,、能夠控制鍍層的厚度,，同時可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大小,；7,、不同的金屬、合金,、氧化物能夠進行混合,，同時濺射于基材上；8,、易于實現(xiàn)工業(yè)化,。不同的金屬、合金,、氧化物能夠進行混合,，同時濺射于基材上。海南非金屬磁控濺射分類

在熱陰極的前面增加一個電極,，構(gòu)成四極濺射裝置,，可使放電趨于穩(wěn)定。湖南共濺射磁控濺射工藝

真空磁控濺射技術(shù)的特點：磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來,，在靶材表面建立與電場正交磁場,，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題,，成為鍍膜工業(yè)主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術(shù)相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣,，幾乎所有金屬,，合金和陶瓷材料都可以制成靶材,；在適當條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金,；在濺射的放電氣氛中加入氧,、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物薄膜,；通過精確地控制濺射鍍膜過程,，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過離子濺射靶材料物質(zhì)由固態(tài)直接轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子態(tài),，濺射靶的安裝不受限制,，適合于大容積鍍膜室多靶布置設(shè)計；濺射鍍膜速度快,，膜層致密,，附著性好等特點，很適合于大批量,，高效率工業(yè)生產(chǎn),。湖南共濺射磁控濺射工藝

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所一直專注于面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件,、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性,、開放性,、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持,。,，是一家電子元器件的企業(yè)，擁有自己**的技術(shù)體系,。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工,，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間，為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),，深受員工與客戶好評,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所主營業(yè)務(wù)涵蓋微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),，堅持“質(zhì)量保證、良好服務(wù),、顧客滿意”的質(zhì)量方針,，贏得廣大客戶的支持和信賴。公司憑著雄厚的技術(shù)力量,、飽滿的工作態(tài)度,、扎實的工作作風、良好的職業(yè)道德,，樹立了良好的微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)形象,，贏得了社會各界的信任和認可。