雙靶磁控濺射儀是一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,。研究所生產(chǎn)的DC系列的數(shù)字型熱式氣體流量控制器在該設(shè)備中使用,，產(chǎn)品采用全數(shù)字架構(gòu)，新型的傳感制作工藝,，通訊方式兼容：0-5V,、4-20mA、RS485通訊模式,，一鍵切換通訊信號(hào),，操作簡(jiǎn)單方便。雙室磁控濺射沉積系統(tǒng)是帶有進(jìn)樣室的高真空多功能磁控濺射鍍膜設(shè)備,。它可用于在高真空背景下,，充入高純氬氣，采用磁控濺射方式制備各種金屬膜,、介質(zhì)膜,、半導(dǎo)體膜，而且又可以較好地濺射鐵磁材料（Fe,、Co,、Ni），制備磁性薄膜,。在鍍膜工藝條件下,，采用微機(jī)控制樣品轉(zhuǎn)盤和靶擋板，既可以制備單層膜,，又可以制備各種多層膜,，為新材料和薄膜科學(xué)研究領(lǐng)域提供了十分理想的研制手段。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。云南智能磁控濺射流程

磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬,、半導(dǎo)體,、絕緣子等。它具有設(shè)備簡(jiǎn)單,、易于控制,、涂覆面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn).磁控濺射發(fā)展至今,，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點(diǎn)外,，還實(shí)現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1.各種功能薄膜：如具有吸收、透射,、反射,、折射、偏振等功能.例如,，在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率.2.微電子：可作為非熱鍍膜技術(shù),，主要用于化學(xué)氣相沉積(CVD).3.裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用：如各種全反射膜和半透明膜；比如手機(jī)殼,、鼠標(biāo)等.福建高溫磁控濺射步驟磁控濺射又稱為高速低溫濺射,。

高速率磁控濺射的一個(gè)固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率。高的沉積速率意味著高的粒子流飛向基片,，導(dǎo)致沉積過程中大量粒子的能量被轉(zhuǎn)移到生長(zhǎng)薄膜上,，引起沉積溫度明顯增加。由于濺射離子的能量大約70%需要從陰極冷卻水中帶走,，薄膜的較大濺射速率將受到濺射靶冷卻的限制,。冷卻不但靠足夠的冷卻水循環(huán)，還要求良好的靶材導(dǎo)熱率及較薄膜的靶厚度,。同時(shí)高速率磁控濺射中典型的靶材利用率只有20%～30%,，因而提高靶材利用率也是有待于解決的一個(gè)問題。

磁控濺射技術(shù)原理：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,，電離出大量的氬離子和電子,，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,，濺射出大量的靶材原子,，呈中性的靶原子沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響,，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng),。在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛,，遠(yuǎn)離靶材，較終沉積在基片上,。磁控濺射就是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑,，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量,。電子的歸宿不只只是基片,，真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢(shì),。磁控陰極按照磁場(chǎng)位形分布不同,，大致可分為平衡態(tài)磁控陰極和非平衡態(tài)磁控陰極。

真空磁控濺射鍍膜工藝具備以下特點(diǎn)：復(fù)合靶,?？芍谱鲝?fù)合靶鍍合金膜，目前,，采用復(fù)合磁控靶濺射工藝已成功鍍上了Ta-Ti合金,、（Tb-Dy）-Fe以及Gb-Co合金膜。復(fù)合靶的結(jié)構(gòu)有四種,，分別是圓塊鑲嵌靶,、方塊鑲嵌靶、小方塊鑲嵌靶以及扇形鑲嵌靶,，其中以扇形鑲嵌靶結(jié)構(gòu)的使用效果為佳,。磁控濺射是眾多獲得高質(zhì)量的薄膜技術(shù)當(dāng)中使用較普遍的一種鍍膜工藝，采用新型陰極使其擁有很高的靶材利用率和高沉積速率,，該工藝不只用于單層膜的沉積,，還可鍍制多層的薄膜，此外,，還用于卷繞工藝中用于包裝膜,、光學(xué)膜、貼膜等膜層鍍制,。在氣體可以電離的壓強(qiáng)范圍內(nèi)如果改變施加的電壓,，電路中等離子體的阻抗會(huì)隨之改變。福建反應(yīng)磁控濺射優(yōu)點(diǎn)

磁控濺射特點(diǎn)：可制備成靶的材料廣,，幾乎所有金屬,，合金和陶瓷材料都可以制成靶材。云南智能磁控濺射流程

磁控濺射鍍膜注意事項(xiàng)：1,、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標(biāo)準(zhǔn)在單室鍍膜機(jī)門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2,、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻,、銦、鋁)是對(duì)人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3,、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機(jī)械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4,、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強(qiáng)光,不宜透過觀察窗久看.磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn)。磁控濺射鍍膜的適用范圍：1,、建材及民用工業(yè)中,；2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用,；3,、高級(jí)產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用；4,、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用,；5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用,。云南智能磁控濺射流程

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。目前我公司在職員工以90后為主,，是一個(gè)有活力有能力有創(chuàng)新精神的團(tuán)隊(duì),。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求,，也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)。公司力求給客戶提供全數(shù)良好服務(wù),，我們相信誠(chéng)實(shí)正直,、開拓進(jìn)取地為公司發(fā)展做正確的事情，將為公司和個(gè)人帶來共同的利益和進(jìn)步,。經(jīng)過幾年的發(fā)展,，已成為微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)行業(yè)出名企業(yè)。