磁控濺射的原理：磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子,；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面,，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E×B所指的方向漂移,，簡(jiǎn)稱E×B漂移,，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng),，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng),，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不只很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar來(lái)轟擊靶材,，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加,，二次電子的能量消耗殆盡,，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下較終沉積在基片上,。由于該電子的能量很低,，傳遞給基片的能量很小,，致使基片溫升較低。磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：基板有低溫性,。相對(duì)于二級(jí)濺射和熱蒸發(fā)來(lái)說(shuō),，磁控濺射加熱少。浙江多功能磁控濺射

脈沖磁控濺射工作原理：在一個(gè)周期內(nèi)存在正電壓和負(fù)電壓兩個(gè)階段,，在負(fù)電壓段，電源工作于靶材的濺射,，正電壓段,，引入電子中和靶面累積的正電荷，并使表面清潔,，裸露出金屬表面,。加在靶材上的脈沖電壓與一般磁控濺射相同!為400~500V,電源頻率在10~350KHz，在保證穩(wěn)定放電的前提下,，應(yīng)盡可能取較低的頻率#由于等離子體中的電子相對(duì)離子具有更高的能動(dòng)性,，因此正電壓值只需要是負(fù)電壓的10%~20%，就可以有效中和靶表面累積的正電荷,。占空比的選擇在保證濺射時(shí)靶表面累積的電荷能在正電壓階段被完全中和的前提下,，盡可能提高占空，以實(shí)現(xiàn)電源的較大效率,。河北真空磁控濺射平臺(tái)高速率磁控濺射的一個(gè)固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率,。

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實(shí)際上,，真空磁控濺射鍍膜這種工藝可以沉積任何氧化物,、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外,，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積,，包括了光學(xué)設(shè)計(jì)、彩色膜,、耐磨涂層,、納米層壓板、超晶格鍍膜,、絕緣膜等,。早在1970年，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例,，開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料,。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體,、聚合物,、氧化物,、碳化物以及氮化物等，至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當(dāng)中,。

非平衡磁控濺射的磁場(chǎng)有邊緣強(qiáng),，也有中部強(qiáng)，導(dǎo)致濺射靶表面磁場(chǎng)的“非平衡”,。磁控濺射靶的非平衡磁場(chǎng)不只有通過(guò)改變內(nèi)外磁體的大小和強(qiáng)度的永磁體獲得,，也有由兩組電磁線圈產(chǎn)生，或采用電磁線圈與永磁體混合結(jié)構(gòu),，還有在陰極和基體之間增加附加的螺線管,，用來(lái)改變陰極和基體之間的磁場(chǎng)，并以它來(lái)控制沉積過(guò)程中離子和原子的比例,。非平衡磁控濺射系統(tǒng)有兩種結(jié)構(gòu),，一種是其芯部磁場(chǎng)強(qiáng)度比外環(huán)高，磁力線沒有閉合,，被引向真空室壁,，基體表面的等離子體密度低，因此該方式很少被采用,。另一種是外環(huán)磁場(chǎng)強(qiáng)度高于芯部磁場(chǎng)強(qiáng)度,，磁力線沒有完全形成閉合回路，部分外環(huán)的磁力線延伸到基體表面,，使得部分二次電子能夠沿著磁力線逃逸出靶材表面區(qū)域,，同時(shí)再與中性粒子發(fā)生碰撞電離，等離子體不再被完全限制在靶材表面區(qū)域,，而是能夠到達(dá)基體表面,，進(jìn)一步增加鍍膜區(qū)域的離子濃度，使襯底離子束流密度提高,，通?？蛇_(dá)5mA/cm2以上。這樣濺射源同時(shí)又是轟擊基體表面的離子源,，基體離子束流密度與靶材電流密度成正比,，靶材電流密度提高，沉積速率提高,，同時(shí)基體離子束流密度提高,，對(duì)沉積膜層表面起到一定的轟擊作用。用真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可在車窗玻璃鍍涂二氧化鈦,，這個(gè)鍍層可以賦予車窗自清潔效果,。

磁控濺射鍍膜注意事項(xiàng)：1、輻射：有些鍍膜要用到射頻電源,，如功率大,，需做好屏蔽處理,。另外，歐洲標(biāo)準(zhǔn)在單室鍍膜機(jī)門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射,；2,、金屬污染：鍍膜材料有些對(duì)人體有害的，特別要注意真空室清理過(guò)程中出現(xiàn)的粉塵污染,；3,、噪音污染：如特別是一些大的鍍膜設(shè)備，機(jī)械真空泵噪音很大,，可以把泵隔離在墻外,；4、光污染：離子鍍膜過(guò)程中,，氣體電離發(fā)出強(qiáng)光，不宜透過(guò)觀察窗久看,。適用范圍：1,、建材及民用工業(yè)中。2,、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用,。3、高級(jí)產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用,。4,、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用。5,、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用,。真空磁控濺射鍍膜技術(shù)所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處。云南平衡磁控濺射用途

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,，點(diǎn)火和濺射很方便,。浙江多功能磁控濺射

磁控濺射的種類：用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便,。這是因?yàn)榘?，等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體,，則回路斷了,。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容,，這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容,。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小,，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜,，因而難大規(guī)模采用,。為解決此問(wèn)題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射,。就是用金屬靶,，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化,，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物,。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實(shí)際操作困難,。主要問(wèn)題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面,，也發(fā)生在陽(yáng)極，真空腔體表面以及靶源表面,，從而引起滅火,，靶源和工件表面起弧等。德國(guó)萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù),，很好的解決了這個(gè)問(wèn)題,。其原理是一對(duì)靶源互相為陰陽(yáng)極，從而消除陽(yáng)極表面氧化或氮化,。冷卻是一切源所必需,，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無(wú)冷卻或冷卻不足,，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源,。浙江多功能磁控濺射

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