PECVD系統(tǒng)的氣源幾乎都是由氣體鋼瓶供氣，這些鋼瓶被放置在有許多安全保護裝置的氣柜中,，通過氣柜上的控制面板,、管道輸送到PECVD的工藝腔體中。在淀積時,，反應(yīng)氣體的多少會影響淀積的速率及其均勻性等,，因此需要嚴格控制氣體流量，通常采用質(zhì)量流量計來實現(xiàn)精確控制,。PECVD反應(yīng)過程中,，反應(yīng)氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至襯底表面,，在射頻源激發(fā)的電場作用下,，反應(yīng)氣體分解成電子、離子和活性基團等,。分解物發(fā)生化學反應(yīng),，生成形成膜的初始成分和副反應(yīng)物，這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面,，生成固態(tài)膜的晶核,，晶核逐漸生長成島狀物，島狀物繼續(xù)生長成連續(xù)的薄膜,。在薄膜生長過程中,，各種副產(chǎn)物從膜的表面逐漸脫離，在真空泵的作用下從出口排出,。真空鍍膜機的優(yōu)點:具有較佳的金屬光澤,，光反射率可達97%。信陽UV光固化真空鍍膜

真空鍍膜的方法：離子鍍：總體來說比較常用的有:直流放電二極型,、多陰極型,、活性反應(yīng)蒸鍍(ARE)、空心陰極放電離子鍍(HCD),、射頻放電離子鍍(RFIP),、增強的ARE型,、低壓等離子型離子鍍(LP-PD)、電場蒸發(fā),、感應(yīng)加熱離子鍍,、多弧離子鍍、電弧放電型高真空離子鍍,、離化團束鍍等,。由于離子鍍膜層具有非常優(yōu)良的性能,所以越來越受到人們的重視,特別是離子鍍TiN、TiC在工具,、模具的超硬鍍膜,、裝飾鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用越來越普遍,并將占據(jù)越來越重要的地位。在鐘表行業(yè),因為鈦無毒無污染,與人體皮膚接觸,不會引起過敏等不良反應(yīng),在表帶上沉積一層鈦膜還能起到表面裝飾的作用,可以做成金黃,、黑色、灰色,、紅棕色,、橙色等很多種顏色,增加美觀效果。福州真空鍍膜廠真空鍍膜鍍的薄膜與基體結(jié)合強度好,，薄膜牢固,。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬,、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法,。例如，真空鍍鋁,、真空鍍鉻等,。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),，利用物理或化學方法,，并吸收電子束、分子束,、離子束,、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝,。簡單地說，在真空中把金屬,、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射,，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法,，稱為真空鍍膜,。

ALD是一種薄膜形成方法,，其中將多種氣相原料（前體）交替暴露于基板表面以形成膜。與CVD不同,，不同類型的前驅(qū)物不會同時進入反應(yīng)室,，而是作為單獨的步驟引入（脈沖）和排出（吹掃）。在每個脈沖中,，前體分子在基材表面上以自控方式起作用,，并且當表面上不存在可吸附位時，反應(yīng)結(jié)束,。因此,，一個周期中的產(chǎn)品成膜量由前體分子和基板表面分子如何化學鍵合來定義。因此,，通過控制循環(huán)次數(shù),，可以在具有任意結(jié)構(gòu)和尺寸的基板上形成高精度且均勻的膜。真空鍍膜中離子鍍清洗效果極好,，能使鍍層直接貼近基體,。

針對PVD制備薄膜應(yīng)力的解決辦法主要有：1.提高襯底溫度，有利于薄膜和襯底間原子擴散,，并加速反應(yīng)過程,，有利于形成擴散附著，降低內(nèi)應(yīng)力,；2.熱退火處理,，薄膜中存在的各種缺陷是產(chǎn)生本征應(yīng)力的主要原因，這些缺陷一般都是非平衡缺陷,，有自行消失的傾向,，但需要外界給予活化能。對薄膜進行熱處理,，非平衡缺陷大量消失,，薄膜內(nèi)應(yīng)力降低；3.添加亞層控制多層薄膜應(yīng)力,，利用應(yīng)變相消原理,，在薄膜層之間再沉積一層薄膜，控制工藝使其呈現(xiàn)與結(jié)構(gòu)薄膜相反的應(yīng)力狀態(tài),，緩解應(yīng)力帶來的破壞作用,，整體上抵消內(nèi)部應(yīng)力 真空鍍膜中離子鍍的鍍層無小孔。信陽UV光固化真空鍍膜

真空鍍膜機的優(yōu)點:可采用屏蔽式進行部分鍍鋁,，以獲得任意圖案或透明窗口,，能看到內(nèi)裝物。信陽UV光固化真空鍍膜

真空鍍膜：電阻加熱蒸發(fā)法：電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢,、鉬等高熔點金屬,，做成適當形狀的蒸發(fā)源,，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過,，對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā),，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單,、造價便宜,、使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,，尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中,。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的較高溫度有限,，加熱器的壽命也較短,。近年來，為了提高加熱器的壽命,，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器,。信陽UV光固化真空鍍膜

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