光刻（Photolithography)是一種圖形轉(zhuǎn)移的方法，在微納加工當(dāng)中不可或缺的技術(shù),。光刻是一個比較大的概念,，其實它是有多步工序所組成的,。1.清洗：清洗襯底表面的有機(jī)物,。2.旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面,。3.曝光,。將光刻版與襯底對準(zhǔn),，在紫外光下曝光一定的時間。4.顯影：將曝光后的襯底在顯影液下顯影一定的時間，受過紫外線曝光的地方會溶解在顯影液當(dāng)中,。5.后烘,。將顯影后的襯底放置熱板上后烘，以增強(qiáng)光刻膠與襯底之前的粘附力,。光刻是將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到涂有光致抗蝕劑（或稱光刻膠）的襯底上,，通過一系列生產(chǎn)步驟將硅片表面薄膜的特定部分除去的一種圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)。光刻技術(shù)是借用照相技術(shù),、平板印刷技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的半導(dǎo)體關(guān)鍵工藝技術(shù),。光刻膠若性能不達(dá)標(biāo)會對芯片成品率造成重大影響。安徽微納光刻

不同波長的光刻光源要求截然不同的光刻設(shè)備和光刻膠材料,。在20世紀(jì)80年代,，半導(dǎo)體制成的主流工藝尺寸在1.2um(1200nm)至0.8um(800nm)之間。那時候波長436nm的光刻光源被普遍使用,。在90年代前半期，隨著半導(dǎo)體制程工藝尺寸朝0.5um（500nm）和0.35um（350nm）演進(jìn),，光刻開始采用365nm波長光源,。436nm和365nm光源分別是高壓汞燈中能量較高，波長較短的兩個譜線,。高壓汞燈技術(shù)成熟,，因此較早被用來當(dāng)作光刻光源。使用波長短,，能量高的光源進(jìn)行光刻工藝更容易激發(fā)光化學(xué)反應(yīng),、提高光刻分別率。河北芯片光刻光刻是將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到涂有光致抗蝕劑（或稱光刻膠）的襯底上,。

光聚合型,，可形成正性光刻膠，是通過采用了烯類單體,，在光作用下生成自由基從而進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,，較后生成聚合物的過程；光分解型光刻膠可以制成正性膠,，通過采用含有疊氮醌類化合物的材料在經(jīng)過光照后,發(fā)生光分解反應(yīng)的過程,。光交聯(lián)型，即采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,，在光的作用下,，其分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),，從而起到抗蝕作用，是一種典型的負(fù)性光刻膠,。按照應(yīng)用領(lǐng)域的不同,，光刻膠又可以分為印刷電路板（PCB）用光刻膠,、液晶顯示(LCD）用光刻膠、半導(dǎo)體用光刻膠和其他用途光刻膠,。PCB 光刻膠技術(shù)壁壘相對其他兩類較低,，而半導(dǎo)體光刻膠表示著光刻膠技術(shù)較先進(jìn)水平。

對于國產(chǎn)光刻膠來說,，今年的九月是極為特殊的一個月份,。9月23日，發(fā)改委聯(lián)合工信部,、科技部,、財政部共同發(fā)布了《關(guān)于擴(kuò)大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長點增長極的指導(dǎo)意見》，《意見》提出,，加快新材料產(chǎn)業(yè)強(qiáng)弱項,，具體涉及加快在光刻膠、大尺寸硅片,、電子封裝材料等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破,。而在《意見》還未發(fā)布之前，部分企業(yè)已經(jīng)聞聲先動了,。除了幾家企業(yè)加大投資,、研發(fā)國產(chǎn)光刻膠之外，還有兩家企業(yè)通過購買光刻機(jī)的方式,，開展光刻膠的研發(fā),。光刻膠產(chǎn)業(yè)，尤其是較優(yōu)光刻膠一直是日本企業(yè)所把持,，這已不是什么鮮為人知的信息了,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。堅膜,，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力,。

光刻膠若性能不達(dá)標(biāo)會對芯片成品率造成重大影響。目前中國光刻膠國產(chǎn)化水平嚴(yán)重不足,，重點技術(shù)差距在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，有2-3代差距，隨著下游半導(dǎo)體行業(yè),、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展,，未來國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化替代空間巨大。同時,，國內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國晶圓制造擴(kuò)產(chǎn)的百年機(jī)遇,，發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù)，力爭早日追上國際先進(jìn)水平，打進(jìn)國內(nèi)新建晶圓廠的供應(yīng)鏈,。光刻膠的國產(chǎn)化公關(guān)正在各方面展開,，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域，中國已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競爭力的本土企業(yè),。在半導(dǎo)體和面板光刻膠領(lǐng)域,，盡管國產(chǎn)光刻膠距離國際先進(jìn)水平仍然有差距，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下,，中國已經(jīng)有一批光刻膠企業(yè)陸續(xù)實現(xiàn)了技術(shù)突破,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。光刻膠是一種有機(jī)化合物,，它被紫外光曝光后,，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。芯片光刻加工平臺

接觸式光刻機(jī),，曝光時,，光刻版壓在涂有光刻膠的襯底上，優(yōu)點是設(shè)備簡單,，分辨率高,，沒有衍射效應(yīng)。安徽微納光刻

光刻膠若性能不達(dá)標(biāo)會對芯片成品率造成重大影響,。目前中國光刻膠國產(chǎn)化水平嚴(yán)重不足，重點技術(shù)差距在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，有2-3代差距,，隨著下游半導(dǎo)體行業(yè)、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展,，未來國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化替代空間巨大,。同時，國內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國晶圓制造擴(kuò)產(chǎn)的百年機(jī)遇,，發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù),，力爭早日追上國際先進(jìn)水平，打進(jìn)國內(nèi)新建晶圓廠的供應(yīng)鏈,。光刻膠的國產(chǎn)化公關(guān)正在各方面展開,，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域，中國已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競爭力的本土企業(yè),。在半導(dǎo)體和面板光刻膠領(lǐng)域,，盡管國產(chǎn)光刻膠距離國際先進(jìn)水平仍然有差距，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下,，中國已經(jīng)有一批光刻膠企業(yè)陸續(xù)實現(xiàn)了技術(shù)突破,。安徽微納光刻

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所在同行業(yè)領(lǐng)域中，一直處在一個不斷銳意進(jìn)取，不斷制造創(chuàng)新的市場高度,，多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),，在廣東省等地區(qū)的電子元器件中始終保持良好的商業(yè)口碑，成績讓我們喜悅,，但不會讓我們止步,，殘酷的市場磨煉了我們堅強(qiáng)不屈的意志，和諧溫馨的工作環(huán)境,，富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,，勇于進(jìn)取的無限潛力，廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來,，回首過去,，我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜，相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,，我們更要明確自己的不足,，做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備，要不畏困難,，激流勇進(jìn),，以一個更嶄新的精神面貌迎接大家，共同走向輝煌回來,！