磁控濺射的材料性能：如果靶材是磁性材料，磁力線(xiàn)被靶材屏蔽,，磁力線(xiàn)難以穿透靶材在靶材表面上方形成磁場(chǎng),，磁控的作用將大幅度降低。因此,，濺射磁性材料時(shí),，一方面要求磁控靶的磁場(chǎng)要強(qiáng)一些，另一方面靶材也要制備的薄一些,，以便磁力線(xiàn)能穿過(guò)靶材,，在靶面上方產(chǎn)生磁控作用。磁控濺射設(shè)備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種,。直流磁控濺射的特點(diǎn)是在陽(yáng)極基片和陰極靶之間加一個(gè)直流電壓,，陽(yáng)離子在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材，它的濺射速率一般都比較大,。雙靶磁控濺射儀是一款高真空鍍膜設(shè)備,。廣州射頻磁控濺射原理

磁控濺射鍍膜常見(jiàn)領(lǐng)域應(yīng)用：1.一些不適合化學(xué)氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過(guò)磁控濺射沉積，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜,。2.機(jī)械工業(yè)：如表面功能膜,、超硬膜、自潤(rùn)滑膜等.這些膜能有效提高表面硬度,、復(fù)合韌性,、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性,，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命.3.光領(lǐng)域：閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃.特別是,，透明導(dǎo)電玻璃普遍應(yīng)用于平板顯示器件,、太陽(yáng)能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件,、傳感器等,。天津?qū)I(yè)磁控濺射設(shè)備一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體,、絕緣體等多材料,，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制,、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),。

真空磁控濺射鍍膜工藝具備以下特點(diǎn)：1、沉積速率大,。由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過(guò)程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高、產(chǎn)量大,、于各類(lèi)工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應(yīng)用,。2、功率效率高,。磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V，因?yàn)?00V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi),。3,、濺射能量低。磁控靶電壓施加較低,，磁場(chǎng)將等離子體約束在陰極附近,，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上。

直流濺射的結(jié)構(gòu)原理：真空室中裝有輝光放電的陰極,，靶材就裝在此極表面上,，接受離子轟擊；安裝鍍膜基片或工件的樣品臺(tái)以及真空室接地,，作為陽(yáng)極,。操作時(shí)將真空室抽至高真空后，通入氬氣，并使其真空度維持在1.0Pa左右,，再加上2-3kV的直流電壓于兩電極之上,，即可產(chǎn)生輝光放電。此時(shí),，在靶材附近形成高密度的等離子體區(qū),，即負(fù)輝區(qū)該區(qū)中的離子在直流電壓的加速下轟擊靶材即發(fā)生濺射效應(yīng)。由靶材表面濺射出來(lái)的原子沉積在基片或工件上,，形成鍍層,。磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：沉積速率高。

高速率磁控濺射本質(zhì)特點(diǎn)是產(chǎn)生大量的濺射粒子,，導(dǎo)致較高的沉積速率。實(shí)驗(yàn)表明在較大的靶源密度在高速濺射,，靶的濺射和局部蒸發(fā)同時(shí)發(fā)生,，兩種過(guò)程的結(jié)合保證了較大的沉積速率（幾μm/min）并導(dǎo)致薄膜的結(jié)構(gòu)發(fā)生變化。與通常的磁控濺射比較,，高速濺射和自濺射的特點(diǎn)在于較高的靶功率密度Wt=Pd/S>50Wcm-2,，（Pd為磁控靶功率，S為靶表面積）,。高速濺射有一定的限制,，因此在特殊的環(huán)境才能保持高速濺射，如足夠高的靶源密度,，靶材足夠的產(chǎn)額和濺射氣體壓力,，并且要獲得較大氣體的離化率。較大限制高速沉積薄膜的是濺射靶的冷卻,。高速率磁控濺射的一個(gè)固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率,。廣州射頻磁控濺射原理

磁控濺射設(shè)備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種。廣州射頻磁控濺射原理

PVD技術(shù)特征：過(guò)濾陰極?。哼^(guò)濾陰極電弧配有高效的電磁過(guò)濾系統(tǒng),，可將弧源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀(guān)大顆粒過(guò)濾掉，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,，具有抗腐蝕性能好,，與機(jī)體的結(jié)合力很強(qiáng)。離子束：離子束加工是在真空條件下,，先由電子槍產(chǎn)生電子束,，再引入已抽成真空且充滿(mǎn)惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化,。由負(fù)極引出陽(yáng)離子又經(jīng)加速,、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面,，產(chǎn)生濺射效應(yīng)和注入效應(yīng),。由于離子帶正電荷,，其質(zhì)量比電子大數(shù)千、數(shù)萬(wàn)倍,，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動(dòng)能,，是靠微觀(guān)的機(jī)械撞擊能量來(lái)加工的。廣州射頻磁控濺射原理

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,，現(xiàn)有一支專(zhuān)業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),，各種專(zhuān)業(yè)設(shè)備齊全。專(zhuān)業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),，熟悉行業(yè)專(zhuān)業(yè)知識(shí)技能,，致力于發(fā)展芯辰實(shí)驗(yàn)室,微納加工的品牌。公司堅(jiān)持以客戶(hù)為中心,、面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造***的公益性、開(kāi)放性,、支撐性樞紐中心,。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線(xiàn)和一條中試線(xiàn),，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專(zhuān)業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國(guó)內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開(kāi)放共享，為技術(shù)咨詢(xún),、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持。市場(chǎng)為導(dǎo)向,，重信譽(yù),，保質(zhì)量，想客戶(hù)之所想,，急用戶(hù)之所急,，全力以赴滿(mǎn)足客戶(hù)的一切需要。自公司成立以來(lái),，一直秉承“以質(zhì)量求生存,，以信譽(yù)求發(fā)展”的經(jīng)營(yíng)理念，始終堅(jiān)持以客戶(hù)的需求和滿(mǎn)意為重點(diǎn)，為客戶(hù)提供良好的微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),，從而使公司不斷發(fā)展壯大,。