真空鍍膜：真空蒸鍍基本工藝鍍前處理：包括清洗鍍件和預(yù)處理,。具體清洗方法有清洗劑清洗,、化學(xué)溶劑清洗,、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預(yù)處理有除靜電,，涂底漆等,。裝爐：包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發(fā)源安裝,、調(diào)試,、鍍件褂卡。抽真空：一般先粗抽至6。6Pa以上,，更早打開擴散泵的前級維持真空泵,，加熱擴散泵。待預(yù)熱足夠后,，打開高閥,，用擴散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。烘烤：將鍍件烘烤加熱到所需溫度,。離子轟擊：真空度一般在10Pa～10-1Pa,，離子轟擊電壓200V～1kV負高壓，離擊時間為5min～30min,預(yù)熔：調(diào)整電流使鍍料預(yù)熔,，除氣1min～2min,。蒸發(fā)沉積：根據(jù)要求調(diào)整蒸發(fā)電流，直到所需沉積時間結(jié)束,。冷卻：鍍件在真空室內(nèi)冷卻到一定溫度,。出爐：取件后，關(guān)閉真空室,，抽真空至1×10-1Pa,，擴散泵冷卻到允許溫度，才可關(guān)閉維持泵和冷卻水,。后處理：涂面漆等,。真空鍍膜機的優(yōu)點:具有較佳的金屬光澤，光反射率可達97%,。陜西真空鍍膜技術(shù)

真空鍍膜：離子鍍膜法：目前比較常用的組合方式有：直流二極型(DCIP),。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極,，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化,。這種方法的特點是：基板溫升大、繞射性好,、附著性好,，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電子束加熱必須用差壓板,；可用于鍍耐腐蝕潤滑機械制品,。多陰極型。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化,；依靠熱電子,、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小,，有時需要對基板加熱,；可用于鍍精密機械制品,、電子器件裝飾品。陜西真空鍍膜技術(shù)真空鍍膜鍍層附著性能好,。

真空鍍膜：反應(yīng)磁控濺射法：反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板溫度一般不會有很大的升高,，而且成膜過程通常也并不要求對基板進行很高溫度的加熱，因此對基板材料的限制較少,。反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜,，并能實現(xiàn)單機年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn)。但是反應(yīng)磁控濺射在20世紀(jì)90年代之前,，通常使用直流濺射電源,，因此帶來了一些問題，主要是靶中毒引起的打火和濺射過程不穩(wěn)定,，沉積速率較低，膜的缺陷密度較高,，這些都限制了它的應(yīng)用發(fā)展,。

原子層沉積技術(shù)憑借其獨特的表面化學(xué)生長原理、亞納米膜厚的精確控制性以及適合復(fù)雜三維高深寬比表面沉積,，自截止生長等特點,，特別適合薄層薄膜材料的制備。例如：S.F. Bent等人利用十八烷基磷酸鹽（ODPA）對Cu的選擇性吸附,，在預(yù)先吸附有ODPA分子的襯底表面進行ALD沉積Al2O3,，有效避免了Al2O3在Cu表面沉積，從而得到被高k絕緣材料Al2O3所間隔的空間選擇性暴露表面Cu的薄膜材料,。此外,，電鏡照片表明該沉積方法的區(qū)域選擇性得到了有效保證。真空鍍膜機的優(yōu)點:對印刷,、復(fù)合等后加工具有良好的適應(yīng)性,。

真空鍍膜技術(shù)在國民經(jīng)濟各個領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，特別是近幾年來,，我國國民經(jīng)濟的迅速發(fā)展,、人民生活水平的不斷提高和高科技薄膜產(chǎn)品的不斷涌現(xiàn)。尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有極其重要的地位,。制膜方法可以分為氣相生成法,、氧化法、離子注人法,、擴散法,、電鍍法、涂布法,、液相生長法等,。氣相生成法又可以分為物理沉積法化學(xué)沉積法和放電聚合法等,。本次實驗是使用物理沉積法，由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進行的,，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù),。真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理沉積法,，是基本的薄膜制備技術(shù),。真空蒸發(fā)鍍膜法是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料,，使其原子或分子從表面氣化逸出,，形成蒸氣流，入射到基片表面,，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法,。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍,、離子鍍,、束流沉積鍍以及分子束外延等。陜西真空鍍膜技術(shù)

真空鍍膜是一種比較理想的薄膜制備方法,。陜西真空鍍膜技術(shù)

電子束蒸發(fā)是基于鎢絲的蒸發(fā).大約 5 到 10 kV 的電流通過鎢絲(位于沉積區(qū)域外以避免污染)并將其加熱到發(fā)生電子熱離子發(fā)射的點.使用永磁體或電磁體將電子聚焦并導(dǎo)向蒸發(fā)材料(放置在坩堝中).在電子束撞擊蒸發(fā)丸表面的過程中,其動能轉(zhuǎn)化為熱量,釋放出高能量(每平方英寸數(shù)百萬瓦以上).因此,容納蒸發(fā)材料的爐床必須水冷以避免熔化.電子束蒸發(fā)與熱蒸發(fā)的區(qū)別在于:電子束蒸發(fā)是用一束電子轟擊物體,產(chǎn)生高能量進行蒸發(fā), 熱蒸發(fā)通過加熱完成這一過程.與熱蒸發(fā)相比,電子束蒸發(fā)提供了高能量;但將薄膜的厚度控制在 5nm 量級將是困難的.在這種情況下,帶有厚度監(jiān)控器的良好熱蒸發(fā)器將更合適,。陜西真空鍍膜技術(shù)

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所位于長興路363號，是一家專業(yè)的面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件,、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造***的公益性,、開放性、支撐性樞紐中心,。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù)，面向國內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持,。公司。在廣東省半導(dǎo)體所近多年發(fā)展歷史,，公司旗下現(xiàn)有品牌芯辰實驗室,微納加工等,。我公司擁有強大的技術(shù)實力,，多年來一直專注于面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件,、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性,、開放性,、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持,。的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù),。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),。