真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)：1、沉積速率大,。由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高,、產(chǎn)量大,、于各類工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應(yīng)用。2,、功率效率高,。磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓，通常為600V,，因?yàn)?00V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi),。3、濺射能量低,。磁控靶電壓施加較低,，磁場將等離子體約束在陰極附近，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上,。交流磁控濺射和直流濺射相比交流磁控濺射采 用交流電源代替直流電源,解決了靶面的異常放電現(xiàn)象,。磁控濺射特點(diǎn)

磁控濺射技術(shù)有：直流磁控濺射技術(shù)。為了解決陰極濺射的缺陷,，人們在20世紀(jì)70年發(fā)出了直流磁控濺射技術(shù),，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點(diǎn)，因而獲得了迅速發(fā)展和普遍應(yīng)用,。其原理是：在磁控濺射中,，由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動,，其運(yùn)動路徑變長,，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高,，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量,。同時(shí)，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時(shí),，已變成低能電子,，從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速,、“低溫”的優(yōu)點(diǎn),。磁控濺射特點(diǎn)直流二極濺射采用直流光放電，三極濺射采用熱陰極支撐光放電,。

磁控濺射技術(shù)有：直流濺射法,。直流濺射法要求靶材能夠?qū)碾x子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極，從而該方法只能濺射導(dǎo)體材料,。因?yàn)檗Z擊絕緣靶材時(shí),，表面的離子電荷無法中和，這將導(dǎo)致靶面電位升高,，外加電壓幾乎都加在靶上,，兩極間的離子加速與電離的機(jī)會將變小，甚至不能電離,，導(dǎo)致不能連續(xù)放電甚至放電停止,，濺射停止。故對于絕緣靶材或?qū)щ娦院懿畹姆墙饘侔胁?，須用射頻濺射法,。濺射過程中涉及到復(fù)雜的散射過程和多種能量傳遞過程：入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，入射粒子的一部分動能會傳給靶材原子,；某些靶材原子的動能超過由其周圍存在的其它原子所形成的勢壘,，從而從晶格點(diǎn)陣中被碰撞出來，產(chǎn)生離位原子,；這些離位原子進(jìn)一步和附近的原子依次反復(fù)碰撞,，產(chǎn)生碰撞級聯(lián)；當(dāng)這種碰撞級聯(lián)到達(dá)靶材表面時(shí),，如果靠近靶材表面的原子的動能大于表面結(jié)合能,，這些原子就會從靶材表面脫離從而進(jìn)入真空。

高能脈沖磁控濺射技術(shù)是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù),。電源與等離子體淹沒離子注入沉積方法相結(jié)合,，形成一種新穎的成膜過程與質(zhì)量調(diào)控技術(shù),，是可應(yīng)用于大型矩形靶的離化率可控磁控濺射新技術(shù)，填補(bǔ)了國內(nèi)在該方向的研究空白,。將高能沖擊磁控濺射與高壓脈沖偏壓技術(shù)復(fù)合,，利用其高離化率和淹沒性的特點(diǎn)，通過成膜過程中入射粒子能量與分布的有效操控,，實(shí)現(xiàn)高膜基結(jié)合力,、高質(zhì)量、高均勻性薄膜的制備,。同時(shí)結(jié)合全新的粒子能量與成膜過程反饋控制系統(tǒng),，開展高離化率等離子體發(fā)生、等離子體的時(shí)空演變及荷能粒子成膜物理過程控制等方面的研究與工程應(yīng)用,。其中心技術(shù)具有自主知識產(chǎn)權(quán),，已申請相關(guān)發(fā)明專利兩項(xiàng)。該項(xiàng)技術(shù)對實(shí)現(xiàn)PVD沉積關(guān)鍵瓶頸問題的突破具有重大意義,，有助于提升我國在表面工程加工領(lǐng)域的國際競爭力,。如在交通領(lǐng)域，該技術(shù)用于汽車發(fā)動機(jī)三部件,，可降低摩擦25%,，減少油耗3%；機(jī)械加工領(lǐng)域,，沉積先進(jìn)鍍層可使刀具壽命提高2～10倍,，加工速度提高30-70%,。磁控濺射主要用于在經(jīng)予處理的塑料,、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜、七彩膜仿金膜等,。

磁控濺射方法可用于制備多種材料,，如金屬、半導(dǎo)體,、絕緣子等,。它具有設(shè)備簡單、易于控制,、涂覆面積大,、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射發(fā)展至今,，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點(diǎn)外,，還實(shí)現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1.各種功能薄膜：如具有吸收,、透射、反射,、折射,、偏振等功能.例如，在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率,；2.微電子：可作為非熱鍍膜技術(shù),，主要用于化學(xué)氣相沉積(CVD).3.裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用：如各種全反射膜和半透明膜；比如手機(jī)殼,、鼠標(biāo)等,。磁控濺射鍍膜的應(yīng)用領(lǐng)域：建材及民用工業(yè)中。北京真空磁控濺射

對于大部分材料,，只要能制成靶材,，就可以實(shí)現(xiàn)濺射。磁控濺射特點(diǎn)

磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1.一些不適合化學(xué)氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過磁控濺射沉積,，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜,。2.機(jī)械工業(yè)：如表面功能膜、超硬膜,、自潤滑膜等.這些膜能有效提高表面硬度,、復(fù)合韌性、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性,，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命.3.光領(lǐng)域：閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜(如增透膜),、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃。特別是,，透明導(dǎo)電玻璃普遍應(yīng)用于平板顯示器件,、太陽能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件,、傳感器等,。磁控濺射特點(diǎn)

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所成立于2016-04-07，同時(shí)啟動了以芯辰實(shí)驗(yàn)室,微納加工為主的微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)產(chǎn)業(yè)布局,。業(yè)務(wù)涵蓋了微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等諸多領(lǐng)域,，尤其微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)中具有強(qiáng)勁優(yōu)勢,，完成了一大批具特色和時(shí)代特征的電子元器件項(xiàng)目；同時(shí)在設(shè)計(jì)原創(chuàng),、科技創(chuàng)新,、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范等方面推動行業(yè)發(fā)展。我們在發(fā)展業(yè)務(wù)的同時(shí),，進(jìn)一步推動了品牌價(jià)值完善,。隨著業(yè)務(wù)能力的增長，以及品牌價(jià)值的提升,，也逐漸形成電子元器件綜合一體化能力,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所業(yè)務(wù)范圍涉及面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件,、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性,、開放性,、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊(duì)伍,。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持,。等多個(gè)環(huán)節(jié),，在國內(nèi)電子元器件行業(yè)擁有綜合優(yōu)勢,。在微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等領(lǐng)域完成了眾多可靠項(xiàng)目,。