磁控濺射是物理的氣相沉積的一種,，也是物理的氣相沉積中技術(shù)較為成熟的,。磁控濺射的工作原理是電子在電場(chǎng)的作用下，在飛向基材過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,，電離出氬正離子和新的電子,；新電子飛向基材，氬正離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面,，使靶材發(fā)生濺射；在濺射粒子中,，中性的靶原子或分子沉積在基材上形成薄膜,。磁控濺射技術(shù)制備的薄膜具有硬度高、強(qiáng)度大,、耐磨性好,、摩擦系數(shù)低、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),。磁控濺射鍍膜工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,，對(duì)環(huán)境無(wú)污染，耗材少,，成膜均勻致密,，與基材的結(jié)合力強(qiáng),。這種技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子,、光學(xué),、機(jī)械、建筑,、輕工,、冶金、材料等領(lǐng)域,，是太陽(yáng)選擇性吸收涂層更理想的制備方法,。PVD鍍膜技術(shù)主要分為三類：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜,。湖南脈沖磁控濺射價(jià)格

磁控直流濺射法要求靶材能夠?qū)碾x子轟擊過(guò)程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極,，從而該方法只能濺射導(dǎo)體材料，不適于絕緣材料,。因?yàn)檗Z擊絕緣靶材時(shí),，表面的離子電荷無(wú)法中和，這將導(dǎo)致靶面電位升高,，外加電壓幾乎都加在靶上,，兩極間的離子加速與電離的機(jī)會(huì)將變小，甚至不能電離,，導(dǎo)致不能連續(xù)放電甚至放電停止,，濺射停止。故對(duì)于絕緣靶材或?qū)щ娦院懿畹姆墙饘侔胁?，須用射頻濺射法,。濺射過(guò)程中涉及到復(fù)雜的散射過(guò)程和多種能量傳遞過(guò)程：入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，入射粒子的一部分動(dòng)能會(huì)傳給靶材原子,；某些靶材原子的動(dòng)能超過(guò)由其周圍存在的其它原子所形成的勢(shì)壘（對(duì)于金屬是5-10eV），從而從晶格點(diǎn)陣中被碰撞出來(lái),，產(chǎn)生離位原子,；這些離位原子進(jìn)一步和附近的原子依次反復(fù)碰撞，產(chǎn)生碰撞級(jí)聯(lián),；當(dāng)這種碰撞級(jí)聯(lián)到達(dá)靶材表面時(shí),，如果靠近靶材表面的原子的動(dòng)能大于表面結(jié)合能（對(duì)于金屬是1-6eV），這些原子就會(huì)從靶材表面脫離從而進(jìn)入真空,。智能磁控濺射處理向脈沖更多地用于雙靶閉合式非平衡磁控濺射系統(tǒng),，系統(tǒng)中的兩個(gè)磁控靶連接在同一脈沖電源上。

直流濺射的結(jié)構(gòu)原理如下：真空室中裝有輝光放電的陰極,，靶材就裝在此極表面上,，接受離子轟擊,；安裝鍍膜基片或工件的樣品臺(tái)以及真空室接地，作為陽(yáng)極,。操作時(shí)將真空室抽至高真空后,，通入氬氣，并使其真空度維持在1.0Pa左右,，再加上2-3kV的直流電壓于兩電極之上,，即可產(chǎn)生輝光放電。此時(shí),，在靶材附近形成高密度的等離子體區(qū),，即負(fù)輝區(qū)該區(qū)中的離子在直流電壓的加速下轟擊靶材即發(fā)生濺射效應(yīng)。由靶材表面濺射出來(lái)的原子沉積在基片或工件上,，形成鍍層,。

磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1.一些不適合化學(xué)氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過(guò)磁控濺射沉積，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜,。2.機(jī)械工業(yè)：如表面功能膜,、超硬膜、自潤(rùn)滑膜等.這些膜能有效提高表面硬度,、復(fù)合韌性,、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命.3.光領(lǐng)域：閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜(如增透膜),、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃,。特別是，透明導(dǎo)電玻璃普遍應(yīng)用于平板顯示器件,、太陽(yáng)能電池,、微波和射頻屏蔽器件和器件、傳感器等,。磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)如下：操作易控,。

PVD技術(shù)特征如下：在真空室內(nèi)充入放電所需要的惰性氣體，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子,。帶電離子被強(qiáng)電場(chǎng)加速,，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料。在離子轟擊下,，蒸發(fā)源材料的原子將離開固體表面,，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF濺射：RF濺射使用的頻率約為13.56MHz,，它不需要熱陰極,，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。RF濺射不只可以沉積金屬膜,，而且可以沉積多種材料的絕緣介質(zhì)膜,，因而使用范圍較廣,。電弧離子鍍：陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài),，從而完成薄膜材料的沉積,，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異,?？沾趴貫R射技術(shù)是指一種利用陰極表面配合的磁場(chǎng)形成電子陷阱，使E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移,。山西金屬磁控濺射鍍膜

磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)如下：膜的牢固性好,。湖南脈沖磁控濺射價(jià)格

磁控濺射是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量,。電子的歸宿不只是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿,。但一般基片與真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì),。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是只在靶面圓周運(yùn)動(dòng),。至于靶面圓周型的濺射輪廓,，那是靶源磁場(chǎng)磁力線呈圓周形狀分布。磁力線分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系,。在EXBshift機(jī)理下工作的除磁控濺射外,，還有多弧鍍靶源，離子源,，等離子源等都在此原理下工作,。所不同的是電場(chǎng)方向，電壓電流大小等因素,。湖南脈沖磁控濺射價(jià)格

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