刻蝕工藝：是在半導(dǎo)體工藝,，按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù),。刻蝕技術(shù)不僅是半導(dǎo)體器件和集成電路的基本制造工藝,，而且還應(yīng)用于薄膜電路,、印刷電路和其他微細(xì)圖形的加工?？涛g還可分為濕法刻蝕和干法刻蝕,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所微納加工平臺，面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件,、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造高質(zhì)量檔次的公益性,、開放性、支撐性樞紐中心,。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù)，面向國內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持,。微納加工平臺包括光刻、磁控濺射,、電子束蒸鍍,、濕法腐蝕、干法腐蝕,、表面形貌測量,！深圳MEMS微納加工

       當(dāng)微納加工技術(shù)應(yīng)用到光電子領(lǐng)域，就形成了新興的納米光電子技術(shù),，主要研究納米結(jié)構(gòu)中光與電子相互作用及其能量互換的技術(shù).納米光電子技術(shù)在過去的十多年里,，一方面，以低維結(jié)構(gòu)材料生長和能帶工程為基礎(chǔ)的納米制造技術(shù)有了長足的發(fā)展,，包括分子束外延(MBE),、金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積(MOCVD)和化學(xué)束外延(CBE),，使得在晶片表面外延生長方向(直方向)的外延層精度控制到單個原子層，從而獲得了具有量子尺寸效應(yīng)的半導(dǎo)體材料;另一方面,，平面納米加工工藝實現(xiàn)了納米尺度的光刻和橫向刻蝕,，使得人工橫向量子限制的量子線與量子點的制作成為可能.同時，光子晶體概念的出現(xiàn),，使得納米平面加工工藝廣地應(yīng)用到光介質(zhì)材料折射率周期性的改變中,。云南刻蝕微納加工微納制造技術(shù)屬國際前沿技術(shù),，作為未來制造業(yè)賴以生存的基礎(chǔ)和可持續(xù)發(fā)展的關(guān)鍵,。

    MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)），是指以微型化,、系統(tǒng)化的理論為指導(dǎo),，通過半導(dǎo)體制造等微納加工手段，形成特征尺度為微納米量級的系統(tǒng)裝置,。相對于先進(jìn)的集成電路（IC）制造工藝（遵循摩爾定律）,，MEMS制造工藝不單純追求線寬而注重功能特色化，即利用微納結(jié)構(gòu)或/和敏感材料實現(xiàn)多種傳感和執(zhí)行功能,，工藝節(jié)點通常從500nm到110nm,，襯底材料也不局限硅，還包括玻璃,、聚合物,、金屬等。由MEMS技術(shù)構(gòu)建的產(chǎn)品往往具有體積小,、重量輕,、功耗低,、成本低等優(yōu)點,，已廣泛應(yīng)用于汽車、手機(jī),、工業(yè)、醫(yī)療,、**,、航空航天等領(lǐng)域,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所微納加工平臺,，面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造的公益性、開放性,、支撐性樞紐中心,。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持,。

微納加工工藝基本分為表面加工體加工兩大塊,，基本流程如下：表面加工基本流程如下：首先：沉積系繩層材料；第二步：光刻定義系繩層圖形,；第三步：刻蝕完成系繩層圖形轉(zhuǎn)移,；第四步：沉積結(jié)構(gòu)材料；第五步：光刻定義結(jié)構(gòu)層圖形,；第六步：刻蝕完成結(jié)構(gòu)層圖形轉(zhuǎn)移,；第七步：釋放去除系繩層，保留結(jié)構(gòu)層,，完成微結(jié)構(gòu)制作,；體加工基本流程如下：起先：沉積保護(hù)層材料；第二步：光刻定義保護(hù)圖形,；第三步：刻蝕完成保護(hù)層圖形轉(zhuǎn)移,；第四步：腐蝕硅襯底，在制作三維立體腔結(jié)構(gòu),；第五步：去除保護(hù)層材料,。微納加工設(shè)備主要有：光刻、刻蝕,、鍍膜,、濕法腐蝕、絕緣層鍍膜等,！

當(dāng)前納米制造技術(shù)在環(huán)境友好方面有望大展身手的一些領(lǐng)域有以下幾種：1,、照明：對于傳統(tǒng)的白熾光源來說,，LEDs是一種高效能的替代，納米技術(shù)可用來開發(fā)更多新的光源,。2,、發(fā)動機(jī)/燃料效率：采用納米顆粒燃料添加劑能夠減少柴油機(jī)的能耗并改善局部空氣質(zhì)量。微納材料也用來改善飛機(jī)渦輪葉片的熱阻性能,，使得發(fā)動機(jī)可以在更高的溫度下繼續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn),，進(jìn)而提高整個發(fā)動機(jī)的效率。3,、減重：新型較強(qiáng)度復(fù)合材料能夠減輕材料的重量,。未來的目標(biāo)包括：在金屬合金和塑料中摻雜納米管來減少飛機(jī)的重量；改進(jìn)橡膠配方中摻雜入輪胎的納米顆粒,；利用通過納米技術(shù)制得的汽車等的催化式排氣凈化器優(yōu)化車內(nèi)燃料的燃燒過程,。微納加工技術(shù)的特點：微型化！吉林刻蝕微納加工

未來幾年微納制造系統(tǒng)和平臺的發(fā)展前景包括的方面：智能的,、可升級的和適應(yīng)性強(qiáng)的微納制造系統(tǒng),。深圳MEMS微納加工

微納加工在改進(jìn)和簡化生產(chǎn)過程方面，還需要做許多工作才能降低好品質(zhì)納米表面的生產(chǎn)成本,?？芍貜?fù)性、尺寸形狀的控制,、均勻性以及結(jié)構(gòu)的魯棒性等,，都是工業(yè)生產(chǎn)過程中必須要考慮的關(guān)鍵參數(shù)。微納加工技術(shù)是先進(jìn)制造的重要組成部分,，是衡量國家高級制造業(yè)水平的標(biāo)志之一,，具有多學(xué)科交叉性和制造要素極端性的特點，在推動科技進(jìn)步,、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展,、拉動科技進(jìn)步、保障國家防御安全等方面都發(fā)揮著關(guān)鍵作用,。微納加工技術(shù)的基本手段包括微納加工方法與材料科學(xué)方法兩種,。比較顯然，微納加工技術(shù)與微電子工藝技術(shù)有密切關(guān)系,。微納加工大致可以分為“自上而下”和“自下而上”兩類,。“自上而下”是從宏觀對象出發(fā),，以光刻工藝為基礎(chǔ),，對材料或原料進(jìn)行加工，較小結(jié)果尺寸和精度通常由光刻或刻蝕環(huán)節(jié)的分辨力決定?！白韵露稀奔夹g(shù)則是從微觀世界出發(fā)，通過控制原子,、分子和其他納米對象的相互作用力將各種單元構(gòu)建在一起,，形成微納結(jié)構(gòu)與器件。深圳MEMS微納加工

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是以提供微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)內(nèi)的多項綜合服務(wù),，為消費者多方位提供微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),，公司位于長興路363號，成立于2016-04-07,，迄今已經(jīng)成長為電子元器件行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者,。公司承擔(dān)并建設(shè)完成電子元器件多項重點項目，取得了明顯的社會和經(jīng)濟(jì)效益,。多年來,，已經(jīng)為我國電子元器件行業(yè)生產(chǎn)、經(jīng)濟(jì)等的發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn),。