真空鍍膜：物理的氣相沉積技術(shù)工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,，對(duì)環(huán)境改善,，無(wú)污染,，耗材少,，成膜均勻致密,，與基體的結(jié)合力強(qiáng),。該技術(shù)普遍應(yīng)用于航空航天,、電子、光學(xué),、機(jī)械,、建筑、輕工,、冶金,、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨,、耐腐蝕,、裝飾,、導(dǎo)電、絕緣,、光導(dǎo),、壓電、磁性,、潤(rùn)滑,、超導(dǎo)等特性的膜層。隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展,，物理的氣相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn),，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù)，大型矩形長(zhǎng)弧靶和濺射靶,，非平衡磁控濺射靶,，孿生靶技術(shù)，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù),，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等,，使用的鍍層成套設(shè)備，向計(jì)算機(jī)全自動(dòng),，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展,。多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。貴金屬真空鍍膜公司

真空鍍膜的方法：真空蒸鍍法：真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù),。根據(jù)蒸發(fā)源的不同可以將真空蒸鍍分為電阻加熱蒸發(fā)源,、電子束蒸發(fā)源、高頻感應(yīng)蒸發(fā)源及激光束蒸發(fā)源蒸鍍法,。電阻蒸發(fā)源是用低電壓大電流加熱燈絲和蒸發(fā)舟,利用電流的焦耳熱是鍍料熔化,、蒸發(fā)或升華。這種方式結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,造價(jià)低廉,使用相當(dāng)普遍,。采用真空蒸鍍法在純棉織物表面制備負(fù)載TiO2織物,紫外線(xiàn)透過(guò)率都比未負(fù)載的純棉織物的低,具有好的抗紫外線(xiàn)性能,制備TiO2薄膜時(shí),膜層較均勻,當(dāng)在玻璃表面蒸鍍一層鉻鈦,、鎳鈦合金等裝飾薄膜,裝飾效果,光學(xué)、耐磨,、耐蝕性能良好,。貴州真空鍍膜實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜中離子鍍清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體,。

真空鍍膜的方法很多,，計(jì)有：真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫,，使蒸氣達(dá)到約13,。3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜,。陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),，保持壓強(qiáng)約1。33～13,。3Pa,，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電,，帶正電的氬離子撞擊陰極,，使其射出原子,，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜,。化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,，獲得沉積薄膜的過(guò)程,。離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn),。

等離子體化學(xué)氣相沉積法,，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,。優(yōu)點(diǎn)是：反應(yīng)溫度降低,，沉積速率較快，成膜質(zhì)量好,，不容易破裂,。缺點(diǎn)是：設(shè)備投資大、對(duì)氣管有特殊要求,。PECVD,，等離子體化學(xué)氣相沉積法是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，使局部形成等離子體,，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),，兩種或多種氣體很容易發(fā)生反應(yīng)，在襯底上沉積出所期待的薄膜,。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，因此,，這種CVD稱(chēng)為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,。真空鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶表面,使靶材的原子或分子從表面發(fā)射出來(lái)。

磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片,，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面,，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移,，簡(jiǎn)稱(chēng)E×B漂移,，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線(xiàn)。若為環(huán)形磁場(chǎng),，則電子就以近似擺線(xiàn)形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng),，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材,，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面而形成薄膜的一種方法,。福建功率器件真空鍍膜

真空鍍膜在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔,，薄膜不易受到污染,。貴金屬真空鍍膜公司

真空鍍膜：真空涂層技術(shù)的發(fā)展：真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng)，國(guó)際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上,。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度高于1000oC）,，涂層種類(lèi)單一，局限性很大,，起初并未得到推廣,。到了上世紀(jì)七十年代末，開(kāi)始出現(xiàn)PVD（物理的氣相沉積）技術(shù),，之后在短短的二,、三十年間PVD涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因：其在真空密封的腔體內(nèi)成膜,，幾乎無(wú)任何環(huán)境污染問(wèn)題,，有利于環(huán)保；其能得到光亮,、華貴的表面,，在顏色上，成熟的有七彩色,、銀色,、透明色、金黃色、黑色,、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,，能夠滿(mǎn)足裝飾性的各種需要；可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度,、高耐磨性的陶瓷涂層,、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝,、模具上面,，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本,、收益的效果,；此外，PVD涂層技術(shù)具有低溫,、高能兩個(gè)特點(diǎn),，幾乎可以在任何基材上成膜,，因此,，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇,。貴金屬真空鍍膜公司